基板分割機【卓上型でコンパクト＆きれいな切断面】

PR基板の外形加工をルーターカット方式で行える卓上型の基板分割機です。集塵…

基板の外形加工をルーターカット方式で行える卓上型の基板分割機です。 上方式、下方式と2タイプの集塵方式をご用意。 【主な特長】 ■集塵機の設置が不要でイニシャルコスト削減 ■卓上型で省スペースを実現 ■高性能ロボットのCP制御で曲線・直線のカットも可能 ■基板へのストレスが少なく、きれいな切断面を実現 ■＝＝下方集塵式の新機能＝＝ 　・ルータビット数倍長持ち 　・スピンドルモ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジャノメ

電子機器の受託開発・設計（ハードウェア、FPGA、ソフトウェア）

PR画像技研は、幅広くお客様の開発をお手伝いします。（一貫した開発から部分…

●ハードウェア・ファームウェア・ソフトウェアのすべてにわたって、幅広くお客様の開発をお手伝いします。 ●画像の処理、圧縮、高速伝送、認識などで豊富な経験を持っています。 ●FPGAを使用したハードウェア処理により、高速処理、リアルタイム処理を実現します。...●ハードウェア 仕様書の作成から回路図、部品リストの作成、基板アートワーク、生基板作成、部品手配、実装、評価、調整までお引き受けします...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社画像技研

特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置

大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で対応が可能！ICNI…

『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率な...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富山技販

高真空基板加熱装置『SP-1321』

机上に設置可能なコンパクトサイズ！大学様の研究室に適しています

『SP-1321』は、高真空中で小形の基板を加熱する装置です。 ロードロック室を備えることにより、加熱室を常にクリーンな状態に 保つことが可能。また、高真空での加熱が可能なほか、プログラム温度制御 により、安定した温度制御を実現し...

メーカー・取り扱い企業： サイエンスプラス株式会社

工業用加熱炉

熱利用技術に精通した強みを生かし、各種工業炉に対応いたします。

【説明】触媒生産ラインの熱処理炉です。 触媒用熱処理炉（ターンテブル式） 【説明】触媒生産ラインの熱処理炉です。 ＯＡ部品加熱炉 【説明】各種ＯＡ機器部品の熱処理炉です。 基板加熱炉（連続式窒素雰囲気炉） 【説明】電子機器の基板を無酸素の状態で加熱する連続炉です。 ガラス管熱処理装置（電気式赤外線加熱方式） 【説明】ガラス管のアニール装置です。 鋼板熱処理...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社正英製作所

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

【UHV対応 真空薄膜実験用 面状加熱ヒーター】 大学・研究機関のお…

【対応基板サイズ】
 ◉ Φ1inch ◉ Φ2inch ◉ Φ4inch 【ヒーター素線材質】
 ◉ Max 1000℃：カンタル 素線（真空中, Ar, N2, He ,O2, H2） 
◉ ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

非接触なのでクリーン！高効率＆省エネルギー「フラッシュランプ」

高効率／省エネルギー！基板の熱ダメージを最小限に抑え、表層のみ加熱する…

大面積基板への一括照射による高スループットを実現可能な 『フラッシュランプ』についてご紹介します。 当製品による光加熱は、物質の持つ「反射」、「透過」、「吸収」の 特性のうち、「吸収」の特性を利用し...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社

産廃費大幅削減可、CO2白煙無し　磁力熱分解処理装置SWP-80

電気代月額約7万円、燃料不要、有害ガス無し、産廃処理費大幅削減、タイヤ…

SWP-80は、石油化学製品、ゴム製品、樹脂製品、ウレタン、塗装ゴミ、プラスチックごみ、プリント基板、電線、木材、紙、食品等ごみを燻焼処理しわずかな灰にしてしまう、環境にやさしくランニングコストが非常に低い、脱炭素社会 / カーボンニュートラル社会に適合した磁力有機廃棄物熱分解処理装置。CO2、ダ...

メーカー・取り扱い企業： カッティングエッジ株式会社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

コントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空熱処理装置（ホットプレートタイプ）

急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングな…

実績豊富な真空半田付装置の基本構成を応用。半田付用の熱板加熱で高速熱処理。 高密度実装基板・プリント板の成膜前の脱ガス・乾燥。セラミックス材料の乾燥など多用途に最適。 太陽電池セルの低温べ―クや薄膜のアニールにも有効でインライン化にも対応。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

水素アニール装置（電子デバイス用、サンプルテスト対応中）

大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…

水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理（べーく・アニール）に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

サファイア基板エッチング用石英バス　ＡＣＣＵＢＡＴＨ®　Ｘｅ

サファイア基板のウェットエッチング用に開発された石英バス 最高300…

Accubath®　Ｘｅはサファイア基板のエッチングを想定してデザインされていますが、私達は、このほかにもより高い温度で処理を行うことにより高いスループットを得られるプロセスがあると考えています。これまでのバスの温度限界による処理の長いプ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒロテック 東京営業所

遠赤外線方式プリヒーター『PHN-3040/PHN-1520』

母材の表裏及び全面を均一に加熱可能！Pbフリーに適切な補助プリヒーター

『PHN-3040/PHN-1520』は、基板を加熱し、こての熱量不足を 補助する遠赤外線方式プリヒーターです。 設定温度により、基板の昇温特性を調整でき、ステーのかけ方で 様々な基板にも対応が可能。遠赤外線ヒーターにより、母材の ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ボンコート株式会社

加熱工程ウエハホットチャック　PH050

最高温度300℃対応！小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレート。

加熱工程ウエハホットチャック　PH050は小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレートです。ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱します。ワークは真空吸着により固定いたしますのでワークに固定によるストレスを与えません。プレートはアルミ合金、黒アルマイト処理、レ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

PLD装置『Pioneer 120 PLD System』

多用途の薄膜形成が可能！導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱

『Pioneer 120 PLD System』は、PLD(パルスレーザー堆積法)装置です。 標準的な装置で基板サイズが直径1inchと2inch対応で、 導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱することが可能。 また、パルスレーザー(＜20nsのパルス幅)により素早く目的の物質を蒸発させ、 その組...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

均熱ヒータブロック

お客様のご要望にあった均熱ブロックをご提案させて頂きます。

ロックにエアー穴を設けて、 　ウェハを吸着しながら加熱できる ・エージング用：長時間安定した加熱が必要なエージングテストは 　熱安定したブロックときめ細かい制御が必要 ■液晶関連 ・ガラス基板の加熱：表面加工精度が優れているので、1000mm×1000mmまでの 　ガラス基板が加熱可能（液晶基板も可） ■シール関連 ・袋シール加熱：袋形のシールにとって重要なのは全てのシールの密着力...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社九州日昌

アニール装置『可変雰囲気熱処理装置』

ウェハやガラス等の多種基板の処理可能　幅広い用途対応した可変雰囲気熱処…

当社では、真空・酸素雰囲気(常圧)・還元雰囲気(常圧)の雰囲気での 処理が選択できる急昇降温型の「横型アニール装置」を取り扱っています。 6インチまでの各種基板(ウェハ、セラミック、ガラス、実装基板)の処理に 対応しており、薄膜やウェハのアニール、ナノ金属ペーストの焼成、 有機材のキュアなど多くの用途に実績を持っています。 御評価をご希望の方はサ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

巻取式プラズマ処理装置（RtoRプラズマ装置　評価テスト受付中）

繊維の搬送・処理に実績を持っており電子関連や先端材料まで幅広い用途に対…

当社では、フィルムや金属箔などフレキシブルな基板のクリーニング・親水化などの 表面処理に適したRtoR式の「プラズマ処理装置」を取り扱っています。 真空プラズマにより基板や目的に合わせたプロセスガスやプラズマモードが 選択でき、大気圧プ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

UV（加熱）真空加圧装置／真空ラミネーター

UV（加熱）真空加圧装置／真空ラミネーター

有機ELディスプレイ、有機EL照明、太陽電池などの 封止等、最先端技術に対応する、真空加圧装置です。 ○基板サイズ MAX 730mm×920mm ○真空２重チャンバー方式 ○フィルムまたはシートによる精密加工 ○UV照射機能 ○加熱機能 デモ機もご用意。 実験及び試作に対応いたします。 ...

メーカー・取り扱い企業： 常陽工学株式会社

IR乾燥炉

処理速度は75mm/s！ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーターで加熱乾燥…

『IR乾燥炉』は、ローラー搬送によるタクト搬送で処理を行う製品です。 洗浄、エアブロー後の基板を加熱することにより、基板上の微水分を 蒸発させ、乾燥を実施。 ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーター（クラス100）で加熱乾燥します。 【主な仕様】 ■被加熱物：TFT用ガラスパネル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダン科学

超純水加熱装置

加温する液体成分に影響を及ぼさない製品となっています。

本装置は、シリコンウェハー，液晶ガラス基板，ハードディスク基板、及び各種部品等の洗浄で使用される超純水をカーボンヒーターにより加温する装置です。 【特徴】 ○純水加熱容器は石英ガラスを使用 ○純水接液配管部はフッ素樹脂を使用 ○...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

第三の光加熱源！LEDアニール装置

加熱効率向上で省エネルギー化！高速応答性でサーマルバジェット低減を実現

ータ、フラッシュランプに次ぐ 第三の光加熱源です。 加熱効率向上で省エネルギー化、高速応答性でサーマルバジェット低減を実現。 放射温度計によるリアルタイム温度計測が可能です。 また、基板表面の加熱ができ、金属材料に優れた加熱効率を発揮します。 【特長】 ■加熱効率向上 ■高速応答性 ■高精度温度計測 ■高均一性 ■基板表面の加熱が可能 ※詳しくはPDF資料をご...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社

遠赤外線ロールｔｏロール加熱炉

薄型基板・高機能フィルムの加熱処理に最適な遠赤外線ロール加熱炉

三次元方向に小さく出来ます。 ●高精度な温度分布が可能。幅方向±２℃を達成しました。 ●炉内はＮ２雰囲気が可能。給排気をしながら酸素濃度１００ｐｐｍ以下を達成しました。 （分野） フレキ基板、燃料電池、太陽電池、タッチパネル、ＨＤＤ材料、など。 （適用範囲） 使用温度：ＭＡＸ４００℃ 機材幅：ＭＡＸ１１００ｍｍ 炉内クリーン度：クラス１０００対応 炉長は、ご相談に応じます...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部　東京営業所

ホットプレート用チャンバー 「PHH-300型」

電子部品、基板等の信頼性評価、特性評価、バーンインなどに最適です。

ホットプレート用チャンバー 「PHH-300型」は、電子部品、基板等の信頼性評価、特性評価、バーンインなどに最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲　25～200℃、0.1℃単 ○温度分布　±1.5% ○プレートサイズ　300×200mm ○...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

純水加温装置『HDW III』

シリコン基板の温純水洗浄や温純水引き上げ乾燥に適した純水加温装置！

『HDW III』は、半導体製造プロセス/太陽電池製造プロセスにおける シリコン基板、液晶製造プロセスにおけるガラス基板等の洗浄で使用される 超純水を、石英ガラス容器内でカーボンヒーターにより非接触でクリーン 加熱する装置です。 PID制御による±1°の安定した温度制御と...

メーカー・取り扱い企業： ワイエイシイメカトロニクス株式会社 つくば事業所　PV事業部

大面積/メートルサイズホットプレート 「PH20807型」

大型ガラス基板に対応したホットプレートです。

大面積/メートルサイズホットプレート 「PH20807型」は、大サイズのガラス基板、素材関連の評価、製造プロセス、試験工程用として、さまざまな加熱工程に適用可能です。 ホットプレートの設置面への固定方法などもカスタム対応いたします。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

化合物半導体用電極膜アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）

化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

気中の処理を標準としており、オプションで還元雰囲気中での処理にも対応いたします。 高真空排気後の大気圧水素雰囲気処理により電極膜のアニールだけでなく半導体膜、結晶膜の高温還元熱処理も可能です。 基板に合わせて温度の均一性と基板のハンドリングを容易にするため温度均一板や専用治具など細やかな対応を行っています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

PED装置『Pioneer 180 PED System』

高エネルギーのパルス電子ビームで目的物質を素早く蒸発！全固体物質の成膜…

電子堆積法)装置です。 高エネルギーのパルス電子ビーム(80-100nsのパルス幅、＜1000A、15kV)により、 目的物質を素早く蒸発させることが可能で、全固体物質の成膜が可能。 基板サイズが直径10mmから2inch対応で放射加熱により、 850℃まで基盤を加熱することができます。 【特長】 ■パルス電子堆積法は PLD 同様種々の 　デバイスに対して複雑な物性の薄...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

はんだ付け予熱用ホットプレート　PH121SL/PB100S

治具を使用しながらのはんだ付け作業に著しい作業性の向上を発揮いたします

はんだ付け予熱用ホットプレート　PH121SL/PB100Sは、サイズ　100mm程度で、基板、電子部品等で治具を使用しながらのはんだ付け作業に著しい作業性の向上を発揮いたします。 ホットプレートは、デジタル温調機付のものと、温調機を取り除いたサーモスタットタイプがございます。 【仕...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

ホットプレートユニット 「HJU-300型」

低予算での評価システム構築が可能となります。

ホットプレートユニット 「HJU-300型」は、電子部品、基板等の信頼性評価、材料の加熱、プロセスなど従来、恒温槽や炉などの代替えとして使用できます。 低予算での評価システム構築が可能となります。 最大　4種類の温度設定を同時に稼働できます。 【仕様...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

【活用事例】プリンテッドエレクトロニクス用インクの乾燥・焼結

1工程中で乾燥と焼結の両方のプロセスが可能！赤外線ヒーターによる活用例…

スマートカード）の一部、コピー防止、またはIDカードの セキュリティー機能として無線ICタグに使われています。 赤外線ヒーターによるプリンテッドエレクトロニクスの乾燥・焼結では、 赤外線は基板に接触することなく高出力で加熱可能。 ON/OFF応答が早いためラインが急に停止した場合でも熱ダメージを最小限に 抑えることができます。 【プリンテッドエレクトロニクスの乾燥・焼結の特...

メーカー・取り扱い企業： エクセリタスノーブルライトジャパン（旧ヘレウスノーブルライトジャパン）株式会社