小型・軽量・高効率の『ブラシレスモータ』

PR小型・軽量・高効率なモータで機器設計の課題解決に貢献。精密制御や省スペ…

当社では、AGV/AMRやパーソナルモビリティなどの移動体や、協調ロボットをはじめとする産業機器といった様々な用途に対応可能な『ブラシレスモータ』を豊富に取り揃えています。 移動体向けモータではIPX4相当の防水性能を実現し、更に減速機や電磁ブレーキ付き、 コントローラを含めた「駆動ユニット」、制御性能に優れた「レゾルバ搭載のモデル」も取り揃えています。 協調ロボット(協働ロボット）向けには「中...

メーカー・取り扱い企業： マブチモーター株式会社

Ex2015対応　耐圧防爆形コントロールモータ dMCシリーズ

PR従来品と同等の寿命・性能を保ちながら、コンパクトで低価格を実現したコン…

『耐圧防爆形コントロールモータ dMCシリーズ』は、従来品と同等の寿命・性能を保ちながら、コンパクトで低価格を実現したコントロールモータです。 特注にて特殊なタイミングや塗装、ポテンショメータなど対応可能で、防爆地域のダンパー、バルブの操作機用途に適しています。 【特長】 ■小型で高耐久、低価格を実現 ■EU RoHS 指令(10 物質)に完全対応 ■●防爆地域のダンパー、バルブの操...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東邦製作所

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細か...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細か...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz)を実現 5) AlGaAs/GaAsなどの低格子不整合材料系にも対応可能 6) 数mmまでの厚膜ウェハに対応可能 7) 高い安定性とアライメントフリー測定を実現 8) 白色光源の採用、反射率の変化...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

半導体材料　ＡＬＤ／ＣＶＤ材料

高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発

リジナル製品を開発、国内外のお客様より高い評価を得ております。これらは、合成から一貫してクリーンルーム内で作業が行われ、スピーディーな製品設計が可能であると同時に、試作から量産へのスムーズなシフトも実現できる専用工場で生産されております。詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

赤外線反射防止膜用ＤＬＣコーティング装置

高い赤外線透過率をもつＤＬＣ膜をハイレートで基板両面に形成。 安定の…

硬質膜・表面処理用途で実績豊富なＰＩＧ式ＤＬＣ膜形成装置を赤外線光学用途に展開。９０％以上の高い透過率を持つＤＬＣ膜を基板両面に一括形成 硬質・高い透過率のＤＬＣ膜を高い生産性で実現。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

パルス電源

安定したパルス放電を実現

・高速立上がり、マイクロパルスを実現 ・低電流仕様から大電流仕様まで幅広いラインナップ 標準仕様以外のスペックの製作も可能です。お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置

広範な膜特性の制御可能！大幅なパーティクル低減および生産性を向上します

『酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置』は、2周波独立印可方式により、 低応力、高硬度、高絶縁性を実現します。 ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減 および生産性を向上。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命の際はお気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸化シリコンを成膜 ■コンパクトな設計となっており省スペース化を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

【コネクタの用途例】超小型・高密度コネクタ

他のコネクタでは取付け困難な、狭く限られたスペースに取り付けが可能！

レモコネクタは、長年培った様々な技術・ノウハウの組み合わせで、小型で堅牢な高密度丸型コネクタを実現しました。 レモの超小型・高密度丸型コネクタは、他のコネクタでは取り付け困難な、狭く限られたスペースに取り付けが可能です。 極数は2極から最大114極まで対応。 一つのコネクタに同軸、光、...

メーカー・取り扱い企業： レモジャパン株式会社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

● トレーカセット方式を採用。 　 1. 搬送時間短縮により高スループットを実現。 　 2. トレー変更によりφ2インチ〜φ8インチのウエハーに対応可能。 ● 真空カセット室を採用。 　 1. 1カセット1回の真空排気により高スループットを実現。 ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高スループットを実現しました。 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプロセス性能が得られます。 【特徴】 ○高スループット性 ○優れた成膜特性 ○メン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

など様々なアプリケーションに適したAera Transformerデジタルマスフローコントローラ（MFC）とデジタルマスフローメーター（MFM）は、お客様のプロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を搭載して、精密なガスフロー...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。 トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。 トレー交換を容易に行える自動...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

密閉式チャンバー内で、ウェハを成膜面を下に向け裏面を吸着した状態で加熱させ、プロセスガスを下部より吹き上げながら成膜するFace-down成膜方式の採用により、低パーティクルで安全かつ高品質な成膜を実現しました。特許取得済のウェハ反り矯正機能により、SiCウェハの様な反りの大きなウェハでも確実に吸着でき、優れた膜厚均一性を得ることが可能です。 ウェハ周辺の副反応生成物の付着を低減させた構成にする...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

ICPECVD『SI 500 D』

ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

Pパワーによるイオン密度の制御のICPECVDです。 独自のPTSA200ICPソースによる10＾12[イオン/cm3]の高いプラズマ密度により 低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■ICPパワーによるイオン密度の制御 ■オプションのバイアスパワーによるイオンエネルギーの制御 ■リアクター圧力、分離され...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。 トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。 トレー交換を容易に行える自動...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

の速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） ■低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 ■プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える ■高アスペクト比の穴埋めに適用 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

プラズマイオン注入成膜装置

日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です…

C処理が可能です ・ワーク自身がプラズマ発生用アンテナになる為、外部アンテナやイオン源が必要なく簡単にDLC処理が可能になりました ・パルス電源を使用しているため非常に低温（50℃〜）での処理も実現しました ・金属から絶縁物まで幅広い物がこの一台でDLC処理できます...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

VP型ドライルーツ式　真空ポンプ　VPシリーズ

独自の冷却技術を用いた 多段ルーツ式真空ポンプ

【特徴】 ○ルーツ式で大気圧から入口締切りまでの全域で 　運転を実現し、使い易さを追求 ○ステンレス(SCS13.14.16)製真空ポンプの製作が可能 　その他の特殊材質についても対応可能 ○擬縮性ガスの吸引でも連続運転が出来ます。 ○真空ポンプケーシング...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社四葉機械製作所

直流電源

熟練したリターン技術による、安定放電が可能な直流(充電）電源です。

・負荷短絡時、高速で出力を停止させる内部保護機能付 ・高速立上がり、短パルス幅を実現

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

【大阪アルミ加工】マシニング加工　半導体製造装置の精密加工

半導体製造装置　フライス加工　アルミ精密部品　 【コストダウンはフィ…

　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフトライド、焼入全般 ◆表面処理 無電解ニッケル、各種...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

成膜有効幅760mmのガスヘッド2基を搭載し、吸着式加熱ステージの採用により、温度制御性±3％以内を実現しました。 4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上で成膜が可能で、膜厚均一性10％以内を確保できます。 ●装置サイズ(mm): 1300mm(W) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

『730シリーズ』は、コンパクトサイズ・ローコスト・高精度を実現した セトラシステムズ社の真空センサです。静電容量の変化を検知して、 リニアな直流電圧信号に変換し出力します。 温度補償範囲が広く耐圧性能に優れるため、様々な用途に使用でき、 太陽光パネ...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

セトラ社　ウルトラクリーン圧力センサ　モデル２２４シリーズ

特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサ

ル２２４は特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサです。 　モデル２２４はパージ効果の高い流線型のセンサチャンバを持ち、ガスの流れによる瞬時の温度変化の条件下でも優れた安定性を実現するように設計されています。...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本生産技術研究所

アルミ精密プレート加工／単品／大阪

A5056加工品・単品・マシニング加工【コストダウンはフィリール株式会…

　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフトライド、焼入全般 ◆表面処理 無電解ニッケル、各種...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4-O3もオプション対応が可能な装置です。 【特長】 ■フェイスダウンポジション ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

大量生産用連続式常圧CVD装置『A6300S』

SiCトレーを採用！搬送システムで、大量生産を可能にするとともにコスト…

レータの 安全にも配慮しました。 【特長】 ■高い生産性：毎時120枚の処理が可能 ■重金属汚染対策：ウェハ裏面からの金属汚染を防止 ■高性能：A63型ヘッドを採用し、良好な膜厚分布を実現 ■メンテナンス性の向上：短時間で安全にメンテナンスが可能 ■フットプリント：トレー枚数を最小化し装置面積の小型化に成功 ■安全性：インターロック、装置機構の好適化により高い安全性を確保 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

プラズマCVD装置

漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

■マイクロ波導波管を上下できる機構を備えている ■試料の取付は、下部よりモーターによる上下機構で交換 ■漏洩マイクロ波検出用も付属 ■内部機構は全てコンパクトに設計されており省スペース化を実現 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

アルミ精密切削加工／大阪・フィリール株式会社

A5056／旋盤加工／アルミ加工【コストダウンはフィリール株式会社にお…

　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフトライド、焼入全般 ◆表面処理 無電解ニッケル、各種...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社