• ロータリーダイシリンダー、ロータリーダイユニット<テスト受付中> 製品画像

    ロータリーダイシリンダー、ロータリーダイユニット<テスト受付中>

    PR安定した切れ味と長寿命化を実現。高剛性ダイユニットは刃先のクリアランス…

    当社は、紙からチタンまで様々な素材を加工する 技術と製品を有し、多岐にわたる事業を展開しています。 主力製品の1つとして製造を手掛ける「ロータリーダイシリンダー」は、 高精度マシニング加工と独自製法により、安定した切れ味と長寿命化を実現。 印刷、食品包装、医薬品包装、電池、半導体製造など 幅広い分野で採用されており、お客様の生産性向上に貢献しています。 また、本製品を搭載した「...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三條機械製作所

  • リモートポスティングシステム『リモぽす』 製品画像

    リモートポスティングシステム『リモぽす』

    PRマンションのビラ配りをビラ配信に! -マンション総合EXPO (5/3…

    ~ マンション総合EXPO (5/30-) & 電設工業展 (5/29-)  東京ビッグサイト にて実演展示!是非ブースにお立ち寄りください ~ 『リモぽす』は、住民の方へ配布していた告知ビラをオンラインで配信し、 入居者宅のテレビで見ることができるサービスです。 テレビ設備に「リモぽす専用機器」を追加配置するだけでシステム導入が可能。 ほとんどのアパート・マンションに導入が可能です。 また...

    メーカー・取り扱い企業: サン電子株式会社

  • プラズマCVD装置 Concept-150/200 製品画像

    プラズマCVD装置 Concept-150/200

    省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールか…

    本装置は、4/5/6 及び 8 インチ・ウェハーに対応しており、プラズマ CVD 法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を形成するものです。 基本構成は、プロセス・モジュール及び RF ジェネレータ・モジュール(高周波,低周波各 1Set )、バキュームポンプ・モジュールの 3 モジュールで構成され ます。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社インターテック販売 東京本社(拠点-関西営業所、熊本営業所)

  • RIBER社 分子線エピタキシー(MBE)装置  製品画像

    RIBER社 分子線エピタキシー(MBE)装置

    パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

    パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリーニングとパッシベーショ...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • Agnitron社 研究開発(R&D)~量産用 MOCVD装置 製品画像

    Agnitron社 研究開発(R&D)~量産用 MOCVD装置

    Agnitron社にて独自開発された、高性能、高スループット先端化合物…

    Agnitron社のAgilisシリーズは、先端化合物半導体エピ成長を可能にする構成オプションを備えた柔軟なプラットフォームです。研究開発用(R&D用)の小型チャンバではシングル又はデュアルチャンバ構成選択可能、量産機用の大型チャンバではシングルチャンバ構成にて幅広い材料のエピ成長...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】 製品画像

    ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

    対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V) 製品画像

    高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

    少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…

    成膜を実現しました。特許取得済のウェハ反り矯正機能により、SiCウェハの様な反りの大きなウェハでも確実に吸着でき、優れた膜厚均一性を得ることが可能です。 ウェハ周辺の副反応生成物の付着を低減させた構成にすることで、メンテナンス性(低負荷かつ長周期)を向上させています。 コンパクトな筐体サイズで、隣接設置も可能なので、フットプリントを最小化することができます。 ●装置サイズ(mm): 890(...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • ダブルフェルールタイプ継手「BI-LOK」【高品質!低価格!】 製品画像

    ダブルフェルールタイプ継手「BI-LOK」【高品質!低価格!】

    様々な流体を低温から高温まで確実にシールする継手です!

    特長】 ●多様なサイズ展開(インチ、ミリ、スケジュール管) ●特殊な形状・接続にも対応可能(※お気軽にご相談ください) ●1個のご注文から承ります ●接液部はすべて同じ材質(SUS316)で構成 ●広い温度範囲で低温から高温まで使用可能 【仕様】 ●使用温度領域:-196~+600℃(SUS316)         -196~+200℃(C3604、C3771)  ※圧力によ...

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    メーカー・取り扱い企業: イハラサイエンス株式会社

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    :1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれへも設置可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」 製品画像

    小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」

    最大1,000lpmまでの流量を確保

    用圧力 1MPa未満 最大許容正差圧 0.7MPa(20℃) 最大許容逆差圧 0.3MPa(20℃) 最高許容温度 120℃(不活性ガス) 外部漏量 2×10-11Pa・m3/sec以下 構成部材 ハウジング:SUS316L(電解研磨処理)  内面粗度:Rmax0.5μm以下 フィルターメディア:PTFE  サポート:PFA 継手 1/4"、3/8"、1/2"VCR(標準)、Swag...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ピー・ジェイ

  • 300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」 製品画像

    300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」

    枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で!クラスタシステムにより生産…

    標準のクラスター構成は、ALDモジュール2基、予熱および冷却チャンバ、ウエハハンドリングロボット、 およびFOUPとの間でウエハをロード/アンロードするEFEMステーションです。 既存の製造ラインまたはクラスターに...

    メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社

  • PETボトル用プラズマCVD装置 製品画像

    PETボトル用プラズマCVD装置

    3L容器までコーティング可能!容器軽量化による物流コストの低減などに貢…

    薄膜コーティングを施すことで、 内容物の酸化による風味劣化防止や、炭酸成分の溶出防止、 また容器軽量化による物流コストの低減などに貢献します。 【特長】 ■必要生産本数により、様々な装置構成のご提案可能 ■3L容器までコーティング可能 ■3L以上の容器に関してもご相談下さい ■PET樹脂以外の樹脂材質に関してもご相談下さい ■金属材質に関してもご相談下さい ※詳しくはPD...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • MOCVD装置 VEECO K465i G2用排気フィルター 製品画像

    MOCVD装置 VEECO K465i G2用排気フィルター

    MOCVD装置 VEECO K465i G2

    VEECOフィルターシリーズ製品はVEECO MOCVD装置の専用の排気ろ過のために設計し、アメリカRAND社の高級耐高温不織布と中国産SUS304を構成した製品、不織布材料はアメリカから直接輸入、耐高温、耐高圧、高精度、ろ過効果がいいなどの特徴があり、K465i G2 シリーズは2回ろ過プロセスを採用、ろ過チャンバーの長さを十分利用できる。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 愛鋭精密科技(大連)有限公司(AIRY TECHNOLOGY CO., LTD.) 中国大連本社

  • 液体ソースプラズマCVD装置 製品画像

    液体ソースプラズマCVD装置

    小型でスペース効率の優れた装置!基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

    構成(一部)】 ■基板寸法:最大φ4インチ ■電極構造:平行平板(デポタウン) ■プラズマ電極  ・外径φ150、シャワー式ガス噴射  ・自動整合器マウント ■基板電極  ・外径φ150 ...

    メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社

  • 枚葉式常圧CVD装置『A200V』 製品画像

    枚葉式常圧CVD装置『A200V』

    装置サイズを可能な限りコンパクト化!安定した成膜処理と低パーティクルを…

    iH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4-O3もオプション対応が可能な装置です。 【特長】 ■フェイスダウンポジション ■コンパクトな装置デザイン・構成 ■メンテナンス性と高い生産性の両立 ■優れた膜厚均一性と埋め込み性 ■オペレーターが加熱部分に直接接触しないよう安全性を確保 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所

  • 低圧力損失メタルガスフィルター 製品画像

    低圧力損失メタルガスフィルター

    歩留まりを大幅に向上

    (株)ピュアロンジャパン製 ガスフィルターです。 フィルター構成部材全てにSUS316Lを使用し、腐食や二次生成物の恐れがなく高耐熱性を発揮致します。窒素ガス(N2)をフィルターIN側圧力0.2MPaで流したときのOUT側圧力損失は△0.05MPaで90SLMの...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ピー・ジェイ

  • 粗取り用オールメタルガスフィルター 製品画像

    粗取り用オールメタルガスフィルター

    幅広い濾過精度に対応

    (株)ピュアロンジャパン製 ガスフィルターです。 定常流・脈動下において濾過精度0.1〜10μmまでの幅広い濾過精度に対応。フィルター構成部材で腐蝕性材料は使用しておりませんので腐蝕や二次生成物の恐れはありません。専用のベーキングヒーターの併用によりAPIMSの測定で脱ガス(水分量)1.2ppbを達成しました。継続使用により0.1pp...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ピー・ジェイ

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