• 『アルマイト処理/加工』※アルマイト処理に関する技術資料を進呈 製品画像

    『アルマイト処理/加工』※アルマイト処理に関する技術資料を進呈

    PR当社の高精度なアルマイト処理技術により、 アルミニウム製品へアルマイ…

    試作から量産まで、幅広いご要望に対応いたします。 【特長】 ■耐食性・耐摩耗性・熱放射性などの特性が向上 ■高い電気絶縁性 ■シュウ酸アルマイトは、硫酸アルマイトに比べて表面の粗化を抑制  また、高Si含有のアルミダイカスト部品に対し膜厚均一性が高い ■低反射率化(光学機器・センサー等で不要な反射を抑制) ■抗菌作用の付与 ■アルマイト条件を高精度に管理することで、 膜厚・皮膜...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社豊田電研

  • エルコメーター456 膜厚計&ウルトラ・スキャンプローブ 製品画像

    エルコメーター456 膜厚計&ウルトラ・スキャンプローブ

    PR膜厚の超高速読み取り機能とBluetooth(R)による測定データの転…

    「エルコメーター456 膜厚計&ウルトラ・スキャンプローブ」は、 広い面積、多くの測定箇所で膜厚管理を要求される工事仕様で 素早く膜厚を測定し、データ編集・作成することができる膜厚計です。 毎分140回の速度で膜厚を測定することが可能で、測定値は膜厚計本体に保存。 保存されたデータはBluetooth(R)を使って、モバイル端末、PCに リアルタイムで転送、測定数値を編集アプリで管理することが...

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    メーカー・取り扱い企業: Elcometer株式会社 エルコメーター

  • 半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D 製品画像

    半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D

    新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

    <主な特徴> ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 <多様な物理モデルや機能> ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数(1次、2次のグレーティング) ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■2次グレーテ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

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    シミュレーションソフトウェア『gPROMS Process』

    プロセス開発・プラント最適設計、運転最適化検討に!石油、ガス、化学業界…

    プラント設計・機器サイジング、プロセス検討や運転最適化において 既存のプロセスシミュレータは、数値解を求めるための収束性の良さや 対応できるプロセスの制約、プロセスモデルのカスタマイズ(モデルの拡張性)等の点でまだまだ改良の余地があるとPSEは考えています。 より高度で付加価値の高いプロセスプラントの設計、最適化検討のニーズに応える為に開発された、プロセスシミュレーションソフトウェアが『...

    メーカー・取り扱い企業: シーメンス株式会社 gPROMS ポートフォリオ

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    表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM3D)

    初期形状はトレンチ、ホールで与えることが可能!基板、堆積膜の経時変化を…

    『表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM3D)』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 セル法特有のシャープな境界面は用いず、固体層占有率による勾配から 入射角を決定し、入射角依存の鏡面反射確率、反応確率に適用。 PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

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    動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア(SASAMAL)

    イオン注入、あるいはスパッタリング現象そのものに関する計算を行うことが…

    『動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア(SASAMAL)』は、 2体衝突近似に基づくモンテカルロ法によるシミュレーションコードです。 アモルファスターゲットに高エネルギーのイオンが入射した際の スパッタリング率、スパッタリング原子の放出角度分布・エネルギー分布、 入射粒子の後方散乱する割合・角度分布・エネルギー分布、イオンの ターゲットへの侵入深さ(Depth Profile...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

  • pドーピング窒化系シミュレータ 製品画像

    pドーピング窒化系シミュレータ

    GaNおよびIII族窒化物にpドーピングを行うプロセス解析ツール

    有機金属気相成長法(MOCVD)のプロセスシミュレーターPROCOMシミュレーションでp-タイプ伝導率の問題に取組む。膜成長中のMg取込みをコントロールするのが重要。シミュレーションは複雑なドーピングプロセスおよびMOCVDプロセスの最適化を補助。異なるタイプのアクセプターも本ソフトウェアによってシミュレーション可能。...<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフト...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

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    シミュレーションソフトウェア『PEGASUS』

    真空技術、プラズマ技術、薄膜技術、微細加工技術を用いる技術者のためのシ…

    『PEGASUS』は、装置メーカ、材料メーカそしてデバイスメーカにおいて真空技術を 利用した開発、製造に携わる技術者のためのシミュレーションソフトウェアです。 機能が異なる複数のモジュールで構成されおり、一つあるいは複数のモジュールを 組み合わせて使用することで、お客さまの要求に応じたシミュレーションを行うことができます。 IT、宇宙開発、エネルギー、半導体など幅広い産業・分野を対...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

  • 表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM2D) 製品画像

    表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM2D)

    PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能…

    『表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM2D)』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能。 入射粒子情報(粒子フラックス、入射エネルギー・角度分布)はPEGASUS 気相モジュール、PEGASUS表面科学系モジュールからの出力...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

  • 【解析事例】CVDエッチングプロセス最適条件の探索 製品画像

    【解析事例】CVDエッチングプロセス最適条件の探索

    最適条件の探索に!多次元表示チャートの活用事例をご紹介!

    詳細化学反応解析プログラムCHEMKINと連成した、 エッチングプロセス最適条件の探索事例をご紹介します。 問題設定としては、原料ガス供給量SCCM、酸素濃度を変化させ、 出口C2F6濃度、CF4濃度がそれぞれ最小となり、 エッチング速度最大(膜生成速度最小)となる操作点を探索しました。 計算の結果、具体的にC2F6濃度とエッチング速度はトレードオフの関係になる ことが明確とな...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社IDAJ

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