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小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】
PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…
『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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PRタッチパネル搭載!荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転が可…
プレス機・成形機メーカーであるエヌピーエーシステム製「プログラム成形機」は、 ニューセラミックス・金属粉末等成形用の全自動連続粉末・粉体成形機です。 タッチパネル(デジタル設定・表示)によるプログラム設定が可能。 荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転ができます。 真空成型(成形)は真空チャンバー方式で均一に成形可能。 上パンチがワーク(成形体)に当たり荷重がかかると、フローティング...
メーカー・取り扱い企業: エヌピーエーシステム株式会社
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マイナス温度からの水素分析! ~1700℃の高温測定可能!
高周波加熱型昇温脱離分析装置IH-TDS1700は、超高真空中で試料を電磁誘導加熱することにより、試料から脱離する分子を四重極質量分析計(QMS)でリアルタイム観測する分析装置です。超高真空であるためバックグラウンドが低く高感度な測定が可能です。大気や発生ガスなどによる副反応の影響も大幅に抑えられているため 理想的な状態で試料からの脱離分子を観測することができます。 加熱効率の良い金属サンプ...
メーカー・取り扱い企業: 電子科学株式会社
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スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利…
『真空加熱乾燥炉』は、自動乾燥プロセスレシピが30通りあります。 使用温度範囲は最高450℃。スパッタターゲットの真空乾燥をはじめ、 真空部品の真空乾燥や、治具等の真空乾燥にご利用いただけます。 各種オーダーメイドも製作可能ですので、ご用命の際はお気軽に お問い合わせください。 【特長】 ■使用温度範囲:最高450℃ ■到達圧力:10Pa ■自動乾燥プロセスレシピ:30...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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多様な研究に対応!あつかいやすく、導入・維持コストを抑えることができま…
当社では、使い勝手に優れるフレキシブル強化塩化ビニール製の 『嫌気性チャンバー』を取り扱っております。 外気を遮断しチャンバー内のガス供給と排気、物の出し入れをする エントリーボックス。チャンバー内の作業に応じて、真空レベルや サイクル数などのプログラム設定ができます。 研究現場に求められる性能を追求した製品です。 【特長】 ■使い勝手に優れるフレキシブル強化塩化ビニール...
メーカー・取り扱い企業: 東洋紡エムシー株式会社/東洋紡エンジニアリング株式会社
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【操作簡単、ワンサイクル60分】超小型型により一般の実験室に設置可能!…
【超小型ガスアトマイズ装置】 真空排気後の不活性ガス雰囲気中又は大気中において 試料の溶解を行い、ガスアトマイズ法により粉末を作製 【特徴】 ○真空溶解及び噴射室真空排気による酸化防止 ○粉末は100μm以下で高回収率(平均粒径20〜60μm) ○高温材料のガスアトマイズが可能(Max1800℃) ○ガスジェットノズルの上下調整機構 ○合金溶解噴射が可能 ○石英管タイプ(1〜4kg) ○チャンバ...
メーカー・取り扱い企業: 日新技研株式会社
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多機能型プラズマクリーニング装置。 サンプルテスト受付中 クリー…
半導体製造装置のチャンバをシンプル化・低コスト化しプラズマクリーニングに応用 プラズマモード切替機構(RIE,DP)とマルチガス(Ar、N2,O2,H2)プロセスにより従来にない表面処理を実現。 基板洗浄(酸化物・有機物除去・微細異物除去) 親水性処理(メッキ前処理、半田濡れ性向上) 撥水性処理(ウェット工程前処理) リフロー前処理に実績豊富 半田濡れ性向上効果大 ハイエンド製品(高密...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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