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31件 - メーカー・取り扱い企業
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小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】
PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…
『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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PRタッチパネル搭載！荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転が可…
プレス機・成形機メーカーであるエヌピーエーシステム製「プログラム成形機」は、 ニューセラミックス・金属粉末等成形用の全自動連続粉末・粉体成形機です。 タッチパネル（デジタル設定・表示）によるプログラム設定が可能。 荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転ができます。 真空成型（成形）は真空チャンバー方式で均一に成形可能。 上パンチがワーク（成形体）に当たり荷重がかかると、フローティング...
メーカー・取り扱い企業： エヌピーエーシステム株式会社
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小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】
クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…
『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…
従来型よりコンパクトなチャンバに大口径クライオポンプを採用、チャンバ各機構部に超高真空対応を採用し、クリーンな高真空環境を可能にしました。 蒸発源には水冷式反射電子トラップ付きの電子銃を使用しており、基板への電子の乳を防いだ低ダメージ成膜を実現しています。 実績豊富な６連式電子銃は高融点金属を含む多層膜電極形成に対応しています。また安定した蒸着が特徴でマイクロアークによる基板ダメージやドロップ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜
Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…
半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期と処理後のチャンバ内表面状態が変化することにより、プロセス条件の変動が発生します。このようなプロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似...
メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
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ご使用の開放プレス機に装着、低コストで真空プレス機に転用します。
■コスト 低コスト（ハウス型の約1/20）で真空加熱成形を実現します。プレス機は改造不要です。 既存の加熱プレス機に取り付けるだけで、真空プレス機に転用できます。 ■気密性 確実な気密性で133〜1.33Pa（1.0〜0.01Torr）の真空度を実現します。 製品の酸化不良を防止、高品質化を実現し歩留まりも向上します。 ■耐熱性 BFS（角形）では最高260℃まで使...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社タンケンシールセーコウ
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好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセ…
『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最高900℃の高温プロセスが可能で、チャンバのメンテナンスが容易です。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高900℃の高温プロセスが可能 ■基板回転による優れた膜...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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ポリパラキシレン（パリレン）とALD(原子層堆積法）による無機酸化物層…
パリレンは生体適合性を持つ高機能樹脂ですが、無機酸化物と比較するとガスバリア性が低いという欠点があります。そこで、パリレンと酸化物をサンドイッチのように交互に成膜することで、バリア性の高い、高機能膜を生成することが可能になり、製品の小型化や薄膜が求められる医療用アプリケーションに最適です。 パリレンとALDは同一チャンバ(In-situ)で真空を破ることなく成膜するので、パーティクルの心配はあり...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー
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パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…
パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリーニングとパッシベーションを行うレーザーの両端でデバイスホルダーを反転させる機能が含むチャ...
メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社
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真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを！
【製作例】 ・実験装置設計製作(カスタム仕様)・実験装置改造設計製作(カスタム仕様) ・不活性ガス環境装置・真空乾燥装置(加熱/冷却) ・グローブボックス対応装置(高純度雰囲気室＋真空チャンバ) ・各種精製機の設計製作 【各種ＦＡ関連装置】 ・真空室内可動装置・大気/真空/グローブボックス室関連装置 ・有機ＥＬ、ＦＰＤ、太陽電池、他設備の設計製作 【図面支給による製...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス
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従来のアルミやステンレスの加工品の真空チャンバーと比較して、剛性を保ち…
従来のアルミやステンレスの加工品の真空チャンバーでは、コストダウンに限界がきていました。アルミハニカムパネル化することで同等の剛性や許容たわみ量をたもちながら、大幅な軽量化を実現し、約20％ものコストダウンに成功しました。真空時の10トン/...
メーカー・取り扱い企業： モリシン工業株式会社 本社
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最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…
『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。 基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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Premtek RTP-1200A（SEC）（SEF）
定範囲は20℃～1250℃となります。熱電対とパイロメータがリアルタイムの温度測定をし、その結果をスマートPIDおよびマルチゾーンSCRが制御することで、優れた温度コントロールを可能にします。 真空チャンバ内には酸素濃度モニターを搭載し、酸素フリーな環境維持をサポートします。 Windowsベースのソフトウェアはマルチリンガル対応。グラフィカルなユーザーインターフェースで直観的な操作を可能としてい...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
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開発、設計から加工・溶接・組立・検査までを一貫して手がけております。
株式会社片桐エンジニアリングでは、超真空から大気圧領域の真空装置・機器においてお客様の要望に応えたカスタマイズ装置づくりを行っており、開発、設計から加工・溶接・組立・検査までを一貫して手がけております。大学との共同研究による最先端プラズマ技術を元に装置開発を続けています。電子ビーム励起プラズマ（EBEP）を社内設備として設置し、企業ニーズに応えた開発、試作を行っており、EBEPによる高速チッ化処理...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング
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ポリパラキシレン成膜に特化した装置です。メーカは35年以上、ヨーロッパ…
本製品は、密着性よくパリレンを成膜できる装置です。研究やR&Dだけでなく、量産にも対応できる装置を販売しております。また、装置の販売実績は50台を超えており、生産ラインで既に使用されております。 本装置の特徴は、次の通りです。 ・装置クリーニング及びメンテナンスが、容易です。 ・基材との密着性を向上させる為の前処理がin-situで処理可能です。 ・装置に付帯するPLCによりプロセスが...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー
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材料手配からHeリークテストまで1社で対応致します。
丸型真空チャンバー、角型真空チャンバー、多面体型真空チャンバー、異型真空チャンバー、水冷ジャケットのあるものや、二重ジャケットのもの、等様々な真空チャンバーの製作に実績があります。...
メーカー・取り扱い企業： ステンレスジョイント株式会社
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低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置
『AFTEX-2300』は低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源 を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した 高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で 薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が 形成されます。 イオンアシスト効果により、高温の加熱を行うことなく...
メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社
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RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…
『ドライエッチング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動で 連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作いたします。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及び イオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとD...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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真空チャンバの到達圧力から、スパッタプロセス圧力までの広範囲（1～80…
プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』は、測定質量範囲1～80amuであり、2.0Pa以下（差動排気系不要）の圧力から測定可能な四重極型質量分析計です。 プロセス中のガス分圧を監視し、プロセスガス異常・リークなどの不具合を検知し、プロセス安定性を提供いたします。 プロセス中の品質管理や残留ガス分析などにご活用ください。 【特長】 ■プロセス中に高感度で水素を検出 ■広い圧力...
メーカー・取り扱い企業： キヤノンアネルバ株式会社 栗木本社
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初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…
『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の 卓上型マグネトロンスパッタ装置です。 基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで 構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの 拡張オプションにより、研究ステージに合せて グレードアップしていただくことが可能です。 【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ
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自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成…
先端薄膜デバイスで実績豊富なチャンバ構成をクリーニング用途に展開。 高いクリーニング効果を各種基板で実現。 基板と生産量に合わせて柔軟なハード構成と高いプロセス能力 クリーニング・ディスカム・アッシング・親水処理、撥水膜処理、各種用途に対応。 基板実装から素材表面処理まで実績豊富な大型プラズマ装置...平行平板型高周波真空プラズマによる各種基板のクリーニング・親水化に実績 プリント基板、...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…
『アッシング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動連続処理することが できる量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング 及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとDPモードの切り替えが可能 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■省フットプリント ■2周波独立印加方式 ■超低温冷却ステージ...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置
『Mebius』は、学生向けの実験や教材作りに適した、コンパクトな 蒸着装置です。 電源は一般家庭のAC100V壁コンセントから導入が可能。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを 搭載可能です。 【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、...
メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社
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容易に基板セットや蒸着用試料補充と交換が可能！大規模集積回路用の装置で…
『ESE-09』は、高真空領域での使用を目的とした抵抗加熱式の蒸着装置です。 アルミ蒸着も想定してBNコンポジットの選択が可能。また、チャンバ開閉は 上下分割駆動式で、ウェハを公転させる機能を装備しています。 なお、排気系はドライな真空状態を得るために、磁気浮上式広帯域 ターボ分子ポンプとドライポンプの組み合わせによる排気システムです。 【特長】 ■基板サイズ 6インチ ■蒸着源は抵抗加熱式...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所
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研究開発から量産までサポート！
信頼性の高い標準型のハードウェアと豊富な実績に支えられ、神港精機は1967年に1号機を世に送り出して以来、多くの分野で活躍しています。柔軟で先進的なソフトウェアにより常に最先端を切り開く最新型の装置の装置を提供しています。...【特長】 ●金属・合金・絶縁膜など広範囲な材料や反応性成膜の形成が可能です。 ●基板固定での高速成膜や、基板回転での大面積成膜が可能です。 ●タッチパネルによる操作性...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！
Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。 米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、...
メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社
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量産対応バッチタイプスパッタリング装置 （STH10311型）
φ４１０基板×４枚の自公転基板台を４枚備えたバッチ型のスパッタリング装…
複数の自公転基板台の採用により、量産用としての処理量と優れた膜厚均一異性を両立したバッチタイプスパッタリング装置です。 サイドスパッタ方式により1ｍを超えるチャンバ系でありながら、基板やターゲットの着脱作業、真空層内のメンテナンスの簡易性を実現しました。 量産用途に最適なデータロギングシステムや装置制御や管理を容易にする制御インターフェースソフトなど量産用装置に必須な細かな配慮が組み込まれてい...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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複数材料の多層膜が成膜可能！高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…
『AFTEX-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を 直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。 ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。 【特長】 ■広範囲な膜種による多層成膜 ■高屈折率制御が可能 ■高速で成膜が可能 ■低温・低ダメージで高品質、高結晶性 ■基板および成長面のクリ...
メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社
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基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！
『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロ...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」
最高温度400℃！小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。
半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現
『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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