小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

全自動連続粉末・粉体成形機『プログラム成形機』

PRタッチパネル搭載！荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転が可…

プレス機・成形機メーカーであるエヌピーエーシステム製「プログラム成形機」は、 ニューセラミックス・金属粉末等成形用の全自動連続粉末・粉体成形機です。 タッチパネル（デジタル設定・表示）によるプログラム設定が可能。 荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転ができます。 真空成型（成形）は真空チャンバー方式で均一に成形可能。 上パンチがワーク（成形体）に当たり荷重がかかると、フローティング...

メーカー・取り扱い企業： エヌピーエーシステム株式会社

高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】

高真空仕様の加熱マイクロプローバ！加熱温度は最大500℃で、10mm形…

【仕様（抜粋）】 ＜試料評価室＞ ■真空チャンバ：φ114×h84mm　SUS304／内面#400/外面#400＋電解研磨 ■フランジ：コンフラット規格 ■ベーキング：150℃対応 ＜測定部＞ ■プローブ数：4探針プローブ/タングステ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」

金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材…

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」は、金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価に最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲　室温～200℃ ○プレートサイズ　200×200mm ○圧力範囲　-100KPa（真空）~0.02MPa（N2ガス充填時） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【特徴...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」

小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 ウエハ加熱バッチ炉として、6”ウエハ3枚、8”ウエハ２枚の処理能力があります。 【特徴】 ○最高温度　300℃ 対応 ○温度コントローラーは、専用タイプにより 　プロセスの確認に必要な...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224型」

加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応

真空ホットプレートチャンバー 「PH-224型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○空冷にて、最高温度400℃対応 詳しくは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」

最高温度400℃！小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社