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小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】
PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…
『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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PRタッチパネル搭載!荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転が可…
プレス機・成形機メーカーであるエヌピーエーシステム製「プログラム成形機」は、 ニューセラミックス・金属粉末等成形用の全自動連続粉末・粉体成形機です。 タッチパネル(デジタル設定・表示)によるプログラム設定が可能。 荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転ができます。 真空成型(成形)は真空チャンバー方式で均一に成形可能。 上パンチがワーク(成形体)に当たり荷重がかかると、フローティング...
メーカー・取り扱い企業: エヌピーエーシステム株式会社
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【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…
プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析
Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…
代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP(容量結合プラズマ)エッチングに関する3Dでの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理
Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…
代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP(容量結合プラズマ)エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析
Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…
CCP(容量結合プラズマ)装置のプラズマ解析に関する事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 電極が複数ある場合や重畳周波数を印加する場合に対しても 高速にシミュレーションを行うことができます ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン
Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…
プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ
プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D
「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ
プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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