小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

全自動連続粉末・粉体成形機『プログラム成形機』

PRタッチパネル搭載！荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転が可…

プレス機・成形機メーカーであるエヌピーエーシステム製「プログラム成形機」は、 ニューセラミックス・金属粉末等成形用の全自動連続粉末・粉体成形機です。 タッチパネル（デジタル設定・表示）によるプログラム設定が可能。 荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転ができます。 真空成型（成形）は真空チャンバー方式で均一に成形可能。 上パンチがワーク（成形体）に当たり荷重がかかると、フローティング...

メーカー・取り扱い企業： エヌピーエーシステム株式会社

可動真空チャンバー ＜ボディフレーム＞

ご使用の開放プレス機に装着、低コストで真空プレス機に転用します。

■コスト 　低コスト（ハウス型の約1/20）で真空加熱成形を実現します。プレス機は改造不要です。 　既存の加熱プレス機に取り付けるだけで、真空プレス機に転用できます。 ■気密性 　確実な気密性で133〜1.33Pa（1.0〜0.01Torr）の真空度を実現します。 　製品の酸化不良を防止、高品質化を実現し歩留まりも向上します。 ■耐熱性 　BFS（角形）では最高260℃まで使...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タンケンシールセーコウ

全自動RTP（高速熱処理）装置

Premtek　RTP-1200A（SEC）（SEF）

定範囲は20℃～1250℃となります。熱電対とパイロメータがリアルタイムの温度測定をし、その結果をスマートPIDおよびマルチゾーンSCRが制御することで、優れた温度コントロールを可能にします。 真空チャンバ内には酸素濃度モニターを搭載し、酸素フリーな環境維持をサポートします。 Windowsベースのソフトウェアはマルチリンガル対応。グラフィカルなユーザーインターフェースで直観的な操作を可能としてい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』

低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置

『AFTEX-2300』は低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源 を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した 高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で 薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が 形成されます。 イオンアシスト効果により、高温の加熱を行うことなく...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』

真空チャンバの到達圧力から、スパッタプロセス圧力までの広範囲（1～80…

プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』は、測定質量範囲1～80amuであり、2.0Pa以下（差動排気系不要）の圧力から測定可能な四重極型質量分析計です。 プロセス中のガス分圧を監視し、プロセスガス異常・リークなどの不具合を検知し、プロセス安定性を提供いたします。 プロセス中の品質管理や残留ガス分析などにご活用ください。 【特長】 ■プロセス中に高感度で水素を検出 ■広い圧力...

メーカー・取り扱い企業： キヤノンアネルバ株式会社 栗木本社

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。 米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

複数材料の多層膜が成膜可能！高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

『AFTEX-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を 直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。 ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。 【特長】 ■広範囲な膜種による多層成膜 ■高屈折率制御が可能 ■高速で成膜が可能 ■低温・低ダメージで高品質、高結晶性 ■基板および成長面のクリ...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

チャンバー

真空チャンバーを製作いたします

当社では、チャンバー内部が超高真空から大気圧やプラズマ環境、希薄な活性ガス環境などの特殊な環境になるチャンバーの製作をいたします。...高い溶接技術により、仕切りバルブや架台まで含めた複雑な形状の対応が可能...

メーカー・取り扱い企業： 入江工研株式会社

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」

最高温度400℃！小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー