真空チャンバ | イプロスものづくり

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイブリッジ東京営業所

全自動連続粉末・粉体成形機『プログラム成形機』

PRタッチパネル搭載！荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転が可…

プレス機・成形機メーカーであるエヌピーエーシステム製「プログラム成形機」は、ニューセラミックス・金属粉末等成形用の全自動連続粉末・粉体成形機です。タッチパネル（デジタル設定・表示）によるプログラム設定が可能。荷重/時間曲線を自由に設定でき、安定した連続運転ができます。真空成型（成形）は真空チャンバー方式で均一に成形可能。上パンチがワーク（成形体）に当たり荷重がかかると、フローティング...

メーカー・取り扱い企業：エヌピーエーシステム株式会社

真空装置　真空溶解炉　非消耗アーク溶解炉

真空装置＆真空ポンプのことならお任せください！

水冷銅鋳型を用いイナートガス(Ar.He)雰囲気での溶解のため、試料は酸化、窒化することなく、また、るつぼからの汚染がないので極めて良好な溶解ができます。【特徴】 ○耐熱材料のるつぼと反応する金属では絶対欠くことのできない溶解法の一つです。 ○排気から溶解まで僅か数分で作業が完了し、熟練者でなくても操作が簡単にできます。 ○アークの安定領域7×10-3Pa以上の、大気圧より減圧下での...

メーカー・取り扱い企業：アトーテック　株式会社

磁場中熱処理炉『HV-0.5TS』【磁場中での高温熱処理が可能】

非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能！熱処理後に雰囲気をキ…

非磁性加熱源を採用している為、磁場中での高温熱処理ができ、熱処理後に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバに移動し、ガスフローすることによりガス冷却することが可能。また、冷却水循環装置、各種インターロック付きで、オプションとして外径50及び60用熱処理チャンバとの交換取付ができます。【仕様（抜粋）】＜熱処理チャンバ/加熱機構＞ ■外径40×長さ236mm 水冷式二重S...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイブリッジ東京営業所

高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】

高真空仕様の加熱マイクロプローバ！加熱温度は最大500℃で、10mm形…

【仕様（抜粋）】＜試料評価室＞ ■真空チャンバ：φ114×h84mm　SUS304／内面#400/外面#400＋電解研磨 ■フランジ：コンフラット規格 ■ベーキング：150℃対応＜測定部＞ ■プローブ数：4探針プローブ/タングステ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイブリッジ東京営業所

1200℃真空マッフル炉『OSK 93TI101』

管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな…

・常用温度1000°C以下の連続運転に適します。・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。・長方形チャンバ設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと真...

メーカー・取り扱い企業：オガワ精機株式会社

真空装置　真空ホットプレス　VZF

真空装置＆真空ポンプのことならお任せください！

温度と加圧力の最適設定によって短時間で高密度な焼結体が得られます。【特徴】 ○前扉方式のため、試料、ダイスのセッティング、炉材、ヒータ、チャンバなどの保守、点検が容易におこなえます。 ○ヒータ、断熱材は温度、真空、イナートガス、還元、酸化雰囲気などによって選択できます。　ワークによりガス加圧（MAX 9.8気圧）中でのホットプレスも製作致します。 ○通常加圧は片押し（上押し、下押...

メーカー・取り扱い企業：アトーテック　株式会社

高圧加圧ガス冷却横型真空炉『RQシリーズ』

幅広い冷却ガス圧に対応する真空熱処理炉

『RQシリーズ』は、シンプルな冷却ガス上下切替機構を搭載した高圧加圧ガス冷却横型真空炉です。オプションとして対流加熱機能の付加が可能。循環ファンによる対流加熱は850℃まで昇温でき、真空加熱（放射加熱）の欠点である低温での昇温遅れを大幅に改善します。【特長】 ■省エネルギー性を高めるため、インターナルチャンバ外表面温度を200℃以下に維持 ■開閉ドアは、クラッチ式ド...

メーカー・取り扱い企業：株式会社IHI機械システム本社　セールスグループ

真空加熱乾燥炉

スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利…

『真空加熱乾燥炉』は、自動乾燥プロセスレシピが30通りあります。使用温度範囲は最高450℃。スパッタターゲットの真空乾燥をはじめ、真空部品の真空乾燥や、治具等の真空乾燥にご利用いただけます。各種オーダーメイドも製作可能ですので、ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■使用温度範囲：最高450℃ ■到達圧力：10Pa ■自動乾燥プロセスレシピ：30...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

1200℃石英チャンバー真空マッフル炉『OSK 93TI109』

常用温度1000℃以下の連続運転に！石英製棚板により庫内空間を有効利用

『OSK 93TI109』は、管状炉の試料サイズ制限をなくした新たな電気炉です。石英チャンバ－設計(ドアの内側を含め)により、粉塵による庫内汚染や、実験中に発生する腐食性ガスによるヒーターの損傷を防ぎ、実験後庫内の清掃も容易。マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。【特長】 ■常用温度10...

メーカー・取り扱い企業：オガワ精機株式会社

真空ホットプレートチャンバー「PH-224D型」

金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材…

真空ホットプレートチャンバー「PH-224D型」は、金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価に最適です。【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲　室温～200℃ ○プレートサイズ　200×200mm ○圧力範囲　-100KPa（真空）~0.02MPa（N2ガス充填時）詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【特徴...

メーカー・取り扱い企業：株式会社MSAファクトリー

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-42型」

小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-42型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。ウエハ加熱バッチ炉として、6”ウエハ3枚、8”ウエハ２枚の処理能力があります。【特徴】 ○最高温度　300℃ 対応 ○温度コントローラーは、専用タイプにより　プロセスの確認に必要な...

メーカー・取り扱い企業：株式会社MSAファクトリー

真空ホットプレートチャンバー「PH-224型」

加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応

真空ホットプレートチャンバー「PH-224型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。【特徴】 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○空冷にて、最高温度400℃対応詳しくは...

メーカー・取り扱い企業：株式会社MSAファクトリー

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応することができる製品です。加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。【特長】 ■加熱プロ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

加圧ガス冷却横型真空炉『PQシリーズ』

高い保持温度精度を実現する真空熱処理炉

『PQシリーズ』は、幅広い冷却ガス圧に対応可能な横型真空炉です。加熱室内面はシールド板で被覆することで断熱材の飛散を抑制。オプションとしてモリブデン板で被覆することで、加熱室内の放射効率を高め温度分布均一性および均一加熱性を向上します。また、低温度から高温度までの広範囲において、熱処理品の均一加熱と分布の均一性を最良にするため、ヒータを上下および両サイドの4面に配置し、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社IHI機械システム本社　セールスグループ

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」

最高温度400℃！小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる...

メーカー・取り扱い企業：株式会社MSAファクトリー

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる製品です。基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社