- 製品・サービス
16件 - メーカー・取り扱い企業
企業
2537件 - カタログ
14039件
-
-
旋削加工に代わる「拡管加工」真円の精度を極限まで高めることに成功
PR加工後に発生する、内径の歪みを抑えて真円の精度にこだわった拡管加工とは…
CNC旋盤を使用して旋削加工していると様々な問題が発生します。 長いフレームの旋削は、フレームの共振と不安定な固定により、内径、垂直度や平行度に影響を及ぼします。 イングスの拡管加工では、アルミ押し出し材の表面を保持しますので、表面粗さも満足いただけます。また、拡管加工で内径を加工する場合、製造コストを抑えることもできます。 【拡管加工使用例】 ■ACモーターフレーム ■DCモー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イングス
-
-
PRボールねじ搬送のたわみ・速度制限・大口径化・モータ大型化の悩みを解決!…
当社のラックアンドピニオン直動システムは、“高精度・高速・高搬送力・高耐久・長尺”を兼ね備えます。搬送重量がトンクラスでも高速・高精度に搬送可能。ラックはマシンベッドに直接設置の為、ボールねじで発生する”たわみ”の心配は不要です。 バックラッシ最小1arcminの遊星歯車減速機と、累積ピッチ誤差最小30μm/1000mmのラックにより、非常に高精度な位置決めが可能。ラックは最長2mですが、並...
メーカー・取り扱い企業: ストーバー・ジャパン株式会社
-
-
◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ(バラトロンゲージ)による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, データ解析 【主...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
<30W(制御精度10mW)低出力RFエッチングによる、精細でダメー…
【nanoETCH(ナノエッチ)】Model. ETCH5A <30W(制御精度10mA)低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。 ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板:2"(1〜3源)、もしくは4"(1源) ◉ 2"カソード x 最大3源 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCで...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃
CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…
バー):φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃(SH-BN), 850℃(SH-IN) ◎ 短時間昇温 ◎ 面内温度分布 ±2%以内 ◎ 制御精度・再現性±1℃ ◎ 低価格 ◎ 短納期(標準約2週間 *フランジ付き, 回転・上下機構, 取付ブラケット付きなどは除く)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
製 クラムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源(最大4源)、有機蒸着源(最大4源)、又はΦ2"マグネトロン(最大3基)、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライポンプオプション) ◉ グローブボックス連結仕様(*要仕様協議) ◉ 豊富なオプション:基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, et...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…
チャンバー内成膜モジュール: ・抵抗加熱蒸着源(最大4源) ・有機蒸着源(最大4源) ・Φ2"マグネトロンカソード(最大3基) ・プラズマエッチング ・基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライスクロールポンプオプション) ◉ その他豊富なオプション *その他の詳細仕様は当社へお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
SUS304水冷式チャンバー ◉ 到達圧力 5x10-5Pascal ◉ 最大3系統プロセスガス入力 ◉ 最大3系統マスフローコントローラ(オプション) ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ:EXT75DX(Edwards社) ◉ ロータリーポンプ:RV3/RV8(E...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下昇降 300mmストローク ・基板シャッター ・ドライポンプ(RP標準) ・USBでWindows PCに接続、ログの保存管...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
ド x 最大3源 ◉ 真空蒸着:抵抗加熱蒸着(最大2)、有機材料蒸着(最大4) ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCで...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
MMA), etc.. ・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ:Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃~Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
【主な特徴】 ◉ 対応基板:〜Φ4inch ◉ 2"カソード x 最大3源 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCで...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
製 クラムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源(最大4源)、有機蒸着源(最大4源)、又はΦ2"マグネトロン(最大3基)、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライポンプオプション) ◉ グローブボックス連結仕様(*要仕様協議) ◉ 豊富なオプション:基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, et...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
SUS304水冷式チャンバー ◉ 到達圧力 5x10-5Pascal ◉ 最大3系統プロセスガス入力 ◉ 最大3系統マスフローコントローラ(オプション) ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ:EXT75DX(Edwards社) ◉ ロータリーポンプ:RV3/RV8(E...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下昇降 300mmストローク ・基板シャッター ・ドライポンプ(RP標準) ・USBでWindows PCに接続、ログの保存管...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
製 クラムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源(最大4源)、有機蒸着源(最大4源)、又はΦ2"マグネトロン(最大3基)、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライポンプオプション) ◉ グローブボックス連結仕様(*要仕様協議) ◉ 豊富なオプション:基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, et...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
- 表示件数
- 45件
- < 前へ
- 1
- 次へ >
PR
-
大型鋳物 ターニング加工【加工事例集を進呈】
500~4000ミリの中・大物の工作機械、半導体製造装置などの…
株式会社ISS西川機械 -
極細チューブ・極細パイプの受注生産案内
様々な業界のお客様より高い評価!ご希望通りのサイズ、材質にて成…
仁礼工業株式会社 -
トリミングマシン『AD-CS600シリーズ』
フルカット・ハーフカット両方に対応した高精度トムソン(ビク)打…
株式会社若宮エンジニアリング -
【新製品】高性能検査選別装置『MISTOL(R) AI』
外観検査の限界を、AI技術で突破する
日東精工株式会社 -
AI画像処理選別機『AIHシリーズ』
AI画像処理により裏表両面を同時に検査し、異物や不良品を高速か…
株式会社服部製作所 -
【加工事例集贈呈中】幅広い対応が可能な板金加工
ベンディング金型60種以上を保有!R曲げ、プレーナー曲げを含め…
株式会社エッジ・エンタープライズ -
【スーパーマイクロシーブ】5ミクロンの丸穴微細加工技術とは?
従来の微細穴加工の工法とは異なる セムテックエンジニアリング …
株式会社セムテックエンジニアリング -
多言語に対応:複数の粉体の全自動計量+配合システム
高い生産性、品質の維持、完全なトレーサビリティを保証し、ヒュー…
株式会社コーレンス -
小ロット・短納期でオーダーメイドの特殊鋼を提供
当社は二次圧延メーカーとして、300kgからの小ロット対応・板…
中西金属工業株式会社 天満製鈑事業部 -
【X線CT:受託計測】非破壊内部検査
非破壊による内部の欠陥・状態観察が可能! X線CTによる受託計…
株式会社進和 戦略営業推進室