プラズマを用いた官能基修飾による表面改質で新たな機能を提供

PR難めっき樹脂・難接着樹脂へ「非粗化による直接めっき」や「接着剤レス直接…

弊社改質技術では、基材表面へ官能基を強固に結合して付与することで、 一般的なプラズマ表面処理（有機物除去、一時的な親水性の向上など）ではできない表面改質処理を提供できます。 【特長】 ○低誘電材および難めっき材への非粗化直接めっき技術 　フッ素樹脂、LCP、COP、ポリイミド樹脂などへ非粗化でシード層が介在しない直接銅めっきが可能 ○難接着材の非粗化接着剤レス・直接接着技術 　各種フッ素樹脂、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

第三の光加熱源！LEDアニール装置

PR加熱効率向上で省エネルギー化！高速応答性でサーマルバジェット低減を実現

『LEDアニール装置』は、ハロゲンヒータ、フラッシュランプに次ぐ 第三の光加熱源です。 加熱効率向上で省エネルギー化、高速応答性でサーマルバジェット低減を実現。 放射温度計によるリアルタイム温度計測が可能です。 また、基板表面の加熱ができ、金属材料に優れた加熱効率を発揮します。 【特長】 ■加熱効率向上 ■高速応答性 ■高精度温度計測 ■高均一性 ■基板表面の加熱が...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社

表面処理用多目的スパッタリング装置 STV6301型

立体形状部品や外周全面や平板基板の両面、立体形状の成膜に特化した表面処…

樹脂・ガラス・金属等立体形状部品・成形品への表面処理に各種コーティングを効率的に行えるドライ表面処理装置です。金属・セラミックス等各種薄膜を全面に成膜できます。 特徴 ◎立体形状部品への外周全面成膜 ◎特殊機構によるコップ・タンブラー内面コ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

水素プラズマクリーニング装置（イオンクリーニングタイプ）

H2（水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効…

多用途に実績豊富なプラズマクリーニング装置に新タイプ登場。 従来のプラズマによる表面洗浄機能に加え、水素プラズマによる還元洗浄機能を実現。 今まで以上に表面酸化層の除去能力が向上し、クリーニング後の基板の親水性も大きく向上。 従来と同じプラズマクリーニングにも当然対応。さらに従...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）

　独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…

プロセスで導電性カーボン薄膜の形成にも対応。バイオ用途から新エネルギーまで幅広い分野で用途を開拓しています。 新開発アーク放電式マグネトロンカソードによる低電圧・低圧力プラズマは成膜だけでなく基板表面のイオン窒化やエッチングにも応用されており、成膜前処理、下地硬化からコーティングまで高品質一貫処理。 本装置（アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置）の水素フリーDLC膜（ADMSーCN膜）は...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

大型プラズマエッチング装置

ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…

実績豊富なバッチタイププラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ」をベースとし最大Φ６００ｍｍもしくは５００ｍｍ□までステージを拡大。 大型ステージでファインピッチのエッチング・各種有機物のアッシング・表面改質・クリーニングなど幅広いプロセスに対応 「従来機種ＥＸＡＭ」同様にウェハ・ガラス・セラミック基板のエッチングを行なうと共に大型実装基板・カット済みのフィルム基板のエッチング・クリーニング・表面...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマ溶岩コーティング装置（STV6301スパッタリング装置）

最新プラズマ技術で桜島溶岩をコーティング。天然由来の機能性表面処理。あ…

マグネトロンスパッタリングにて桜島溶岩をコーティング。天然由来の溶岩を先端表面処理に応用。溶岩の特性をいかした熱的・化学的に安定な薄膜を形成。 各種素材（金属・ガラス・繊維）上に装飾膜（透明・干渉色）親水膜を実現。天然素材のため人体にアレルギーがなく、素材の変質・変色を防止...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

撥水コーティング装置 テスト受付中

プラズマ処理で撥水コーティング。低温処理で樹脂フィルムに対応。サンプル…

樹脂フィルム・ガラス・金属薄膜、多種の基板を撥水処理。 プロセス変更で親水化やクリーニングにも対応 コパクト・リーズナブル・高信頼性、サンプルテストでプロセス開発に協力。 実績と対応のプラズマ表面処理装置...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

導電性カーボン薄膜形成装置（アーク放電スパッタリング装置）

導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性…

で導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と膜の安定性よりエネルギー・バイオセンサーなどの新分野に対応 導電性カーボン薄膜は硬度や表面の平滑性に優れており、金属への高い密着性より機械部品の表面処理（トライボロジー用途）への応用も可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

リーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。 新たな表面機能を生み出す用途創成型最新ＰＶＤ装置 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）

先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

乳を防いだ低ダメージ成膜を実現しています。 実績豊富な６連式電子銃は高融点金属を含む多層膜電極形成に対応しています。また安定した蒸着が特徴でマイクロアークによる基板ダメージやドロップレットによる膜表面の異常を排除 プロセスや生産量に合わせてリフトオフ蒸着にも対応いたします。リフトオフ蒸着時は厚膜電極に対応した基板背面よりの水冷機構により貴金属厚膜電極の形成が可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

バッチタイプＳＷＰアッシング装置

ダメージレス、ハイレート、大面積対応、イオンダメージを完全除去、完全ラ…

表面波プラズマ（surface Wave excited plasma)による高密度プラズマをイオン遮蔽トラップにてイオンを完全にシールド。基板にラジカルのみを供給。 高密度ラジカルによるウェット同等のダメージレスアッシングを実現。 ハイレートとダメージレスアッシングを両立。コンパクトなバッチタイプで小型基板・化合物半導体・ＭＥＭＳデバイスに対応 ＭＥＭＳ製造プロセスの有機膜犠牲層除去に優れた効果...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＤＬＣ除膜装置（精密金型用プラズマクリーナー）

非球面レンズのＤＬＣ膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…

向上させ緻密なＤＬＣ膜の除去に対応。通常のＯ２クリーニングプロセスだけでなくマルチガスプロセスでＳｉ含有ＤＬＣなどカスタマイズされた各種ＤＬＣ膜の除去に実績。 当然ＤＬＣ除膜だけでなく成型残差や型表面の酸化層の除去、メッキ前のクリーニングにも対応。 型の仕様前後のクリーニング・表面処理に実績のプロセスを提供...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 独自のチャンバ内構造により抵パーティクルのメタルエッチング (nmレベル)を実現しており、高い歩留りと稼働率が特長です。 【特長】 ■...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

自動車部品用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１０７５ＳＲ型）

コンパクトな筐体で自動車外装品など大型樹脂成形品の全面成膜に対応　高速…

『高速バッチ型樹脂用蒸着装置』は、自動車部品（外装品）など 樹脂成形品の蒸着加工に特化した専用蒸着装置です。 大口径の排気系とコンパクトなチャンバによる高速バッチ処理を実現。 シンプルな装置構成と高速バッチ処理で量産ラインの生産性の向上を図ります。 オールドライ排気系の採用と前扉型の装置形状によって 排気系のメンテフリー化とシステムのメンテナンス性にも優れており 高い稼働率を実...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

量産用プラズマクリーニング装置（大型プラズマクリーナー）

自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成…

高いクリーニング効果を各種基板で実現。 基板と生産量に合わせて柔軟なハード構成と高いプロセス能力 クリーニング・ディスカム・アッシング・親水処理、撥水膜処理、各種用途に対応。 基板実装から素材表面処理まで実績豊富な大型プラズマ装置...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

水素アニール装置（電子デバイス用、サンプルテスト対応中）

大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…

水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理（べーく・アニール）に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

赤外線反射防止膜用ＤＬＣコーティング装置

高い赤外線透過率をもつＤＬＣ膜をハイレートで基板両面に形成。 安定の…

硬質膜・表面処理用途で実績豊富なＰＩＧ式ＤＬＣ膜形成装置を赤外線光学用途に展開。９０％以上の高い透過率を持つＤＬＣ膜を基板両面に一括形成 硬質・高い透過率のＤＬＣ膜を高い生産性で実現。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

研究開発用真空蒸着装置

目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。

装備した前扉型 ・電子銃蒸発源により酸化膜や高融点金属の成膜に対応 ・本格的な薄膜デバイスの研究開発・試作が可能 ・複数タイプのイオンプレーティング機構も装備可能 ・半導体・電子デバイスから新素材・表面処理用途まで幅広い用途で実績豊富 ■全手動で抵抗加熱源を基本構成とした簡易実験型 ・基板の高温加熱機構や水冷機構、またはリフトオフプロセス対応など 　豊富なオプションをご用意 ※詳しくはPDF資料...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）

熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…

せてポンプ材質と周辺機器を最適化。 主排気ポンプの水封式真空ポンプを封液循環式とし、循環式封液にアルカリ性溶液を使用し、塩素系ガスの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。 特に表面処理用の熱ＣＶＤ装置の塩素系ガスの排気系に有効で工具や金型・半導体用治具の生産に多数使用中。 Ｓｉエピタキシャル成長時やエッチング時のの塩素系ガスの排気にも応用可能。 主ポンプのの水封式真空ポン...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開…

イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜だけでなくＳｉＣやＴｉＣ、ＣｒＮなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。 独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途を開拓...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店