• 高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置 製品画像

    高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置

    PR【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

    【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし! ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム (オプション) 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能! 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 圧縮ガスドライヤー 製品画像

    圧縮ガスドライヤー

    PR各種圧縮ガスから不純な水分を除去するドライヤー

    各種ガスドライヤーは、圧縮ガスから水蒸気を連続的に分離するように設計されているため、圧力下露点温度を低下させます。 【効果一例】 二酸化炭素は不活性ガスであり、湿度のレベルによっては腐食性が高くなる可能性があります。 したがって、圧縮二酸化炭素ドライヤー(CO2ドライヤー)は通常、特定のプロジェクト要求を満たすためにカスタムメイドされます。 動作圧力、温度、要求される圧力下露点温度、湿度レベル...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社旭ケミカルス

  • 水中不純物・重金属除去装置 『SPM-300シリーズ』  製品画像

    水中不純物・重金属除去装置 『SPM-300シリーズ』

    薬液処理や汚物処理の蒸発が可能な環境改善に適した装置

    『SPM-300シリーズ』は、微少流量での成膜に適した 成膜コーターです。 塗布材料の塗着効率が高く、従来スプレー方式と比較し 1/2に削減、スピン方式と比較すると1/30以下に削減可能です。 常圧環境で塗布成膜するため、真空環境の設備が不要で 高価な真空設備コストを大幅に削減します。 粒径の大きな固形物が混合されている材料が使用可能。 排気、廃液処理が従来システムに比べ...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社浦野技研

  • エキシマUV装置(ハンディタイプ) 製品画像

    エキシマUV装置(ハンディタイプ)

    超小型ハンディ式エキシマUV装置 本体重量:3.8kg 寸法:W3…

    超小型ハンディ式エキシマUV装置 本体重量:3.8kg 寸法:W320×D260×H180mm デモ機貸出可能 【社内実験機仕様】 ・実験可能サイズ:600×700mm(最大) ・ランプ照度:50~140mW ・ランプ灯数:5本 ・ステージ搬送速度:0.5~5.8m/min ・雰囲気ユーティリティー:N2、CDA、大気中 ・クリーンルーム:クラス10,000 ・接触角計で...

    メーカー・取り扱い企業: ブルーオーシャンテクノロジー株式会社

  • 高照度エキシマUV装置 製品画像

    高照度エキシマUV装置

    レンタル専用エキシマUV ・長期貸出可能 15日~1年間以上 ・月…

    【レンタルのメリット】 ・装置導入が難しい ・既存の装置が故障した時 ・急遽、エキシマUV装置が必要になった ・保守、メンテナンス、固定資産税、管理コストを抑えたい ・新規装置導入可能:別途ご相談下さい 【特徴】 ・高照度RF放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダによ...

    メーカー・取り扱い企業: ブルーオーシャンテクノロジー株式会社

  • 実験用エキシマUV照射装置 製品画像

    実験用エキシマUV照射装置

    高照度172nmエキシマランプ 管面照度150mW/cm²以上

    【特徴】 ・高照度RF放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長:MAX G10サイズまで 【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】 ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過...

    メーカー・取り扱い企業: ブルーオーシャンテクノロジー株式会社

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