『液冷式冷凍』超高速凍結機 ZERO-03

PR『液冷式冷凍』常識を超える超高速凍結機　（従来の液冷タイプと比較し熱交…

ZER0-03超高速凍結機は超低温の液体に商品を漬け込む事により瞬間で凍結する液体凍結機になりますが、商品の熱を取り去る吸熱と排熱に新しい技術（特許技術）を導入する事により、従来の液冷タイプに比べて熱交換効率が4倍と飛躍的に高くなり、凍結ムラや解凍後の再現性、1時間当たりの生産性、運用コストなどが安くなりました。 1, 1時間当たりの生産量比較​では、ゼロカラ凍結機は他社同等機種と比べた場合、空冷...

メーカー・取り扱い企業： 双日マシナリー 株式会社 環境・生活産業システム本部

真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。　 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！

新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜（スパッタリング及び重合）するこ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

Druck 半導体製造装置向け圧力計測ソリューション

半導体製造装置やサブシステムの圧力校正試験にPACEシリーズを導入しま…

【SEMICON JAPAN2022 Hall2 総合ゾーン＃2134に出展決定】 流体制御に欠かせないPACE圧力コントローラの校正デモが体験できます！高速圧力制御を実感しませんか？ 【生産ラインの圧力校正試験に圧力コントローラ PACE】 ■高精度、長期安定性、高速反応性と３拍子そろっています ■圧力制御スピード：他社製品の最大5.5倍 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400F』

実験・研究・評価・試作に好適！樹脂フィルムや金属箔に高速、高精度、低ダ…

『VS-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400G』

実験・研究・評価・試作に好適！ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度…

『VS-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究開発用スパッタリング装置

コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…

少量生産対応可能な上位機種の能力を手動操作型の簡易実験機で実現 ８インチ対応の多元高周波スパッタリング装置。高速排気と高いプロセス性能によりＭＥＭＳ・化合物半導体・電子デバイスの基礎研究に対応 電子部品の量産対応実績を持つバッチタイプスパッタリング装置シリーズ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。 単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。 また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 【特長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDepos...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

ロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を搭載して、精密なガスフロー制御を実現します。優れた信頼性と卓越した応答性、正確性、再現性を誇り、汎用性に富んだ、お客様が重点を置く価値や機能に合ったシングルガス対応ならびにマルチガス・...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

高電圧パルス発生器

電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能

・高安定度高圧電源(温度変動50ppm/℃)搭載。 ・電流、温度制御の時定数設定可能。 ・高電圧高速スイッチ(2KV-pp / 40ns)搭載。 ・各電源を機能別にモジュール化。 ・各電源の電圧、電流、温度モニタ機能。 ・負荷短絡時の保護機能。 ・5KVフローティング回路へ80W電力供給、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Ａ・Ｒ・Ｐ

ロードロック式スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

全面エロージョンが可能です。 当社独自のスパッタカソードや急速昇降温基板加熱機構を搭載し 基板温度900℃を実現。 発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜ができます。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■当社独自の急速昇降温基板加熱機構...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することが可能な製品です。 プラズマエミッションモニターによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜、圧電特性低下に寄与する元素検知も可能です。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 ※詳しくはPDF資料をご...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

スパッタリングの基礎知識

【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能！自動車のミラーなどの生産…

グでは真空中にアルゴンガスを導入し、ターゲット材料にマイナスの 電圧を印加することで、蛍光灯でも使われているグロー放電を発生させます。 するとプラスの電荷を帯びてプラズマ化したアルゴンイオンは超高速（秒速約3.2km） でターゲット材料の表面に衝突し、ターゲット材料の粒子（原子・分子）を激しく 弾き飛ばします。 弾き飛んだ粒子は勢いよく基材の表面に付着し、それが堆積することで、薄膜が...

メーカー・取り扱い企業： デクセリアルズ株式会社

多目的スパッタリング装置

研究開発から量産までサポート！

【特長】 ●金属・合金・絶縁膜など広範囲な材料や反応性成膜の形成が可能です。 ●基板固定での高速成膜や、基板回転での大面積成膜が可能です。 ●タッチパネルによる操作性向上、ロギングシステムによるデータ管理が容易。 【各種　選択機能】 ●カソード変更（大型カソード化、4インチカソード多...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

特長 ・高速応答性 ─ 設定値入力後2秒未満で流量安定 ・エラストマー（ゴム）シール ・VCR、VCO、Swagelok準拠の接続部 ・10sccm～200slmのフルスケール流量レンジ ・ノーマリ・ク...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

RAM インライン型スパッタリング成膜装置

パイロットラインから量産ラインへが展開が可能な装置です。

カソードを搭載したデポジションアップ式水平インライン型スパッタ装置です。 下地層にダメージを与えないよう、初期層はRAMカソードで低ダメージスパッタ成膜を行います。 その後、強磁場カソードで高速成膜を行います。 ロードロックストッカー及びアンロードロックストッカーに各15トレイずつ真空保管されます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

硬質膜用スパッタリング装置ＳＴＬ５５２１型（精密レンズ金型用）

最大５元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロー…

ズ金型のコーティングに適したＰｔやＲｕなどの貴金属合金を多元同時スパッタで小径カソードで効率的に形成。またナノ多層構造の積層膜により耐熱性と硬度に優れた膜も形成可能。 精密レンズ金型のような基板を高速に加熱できる特殊基板台と専用ロードロック機構でスループット向上を実現。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

金属膜+保護膜成膜装置

新しい成膜方法をお考えのエンジニア必見！樹脂基板への金属膜、保護膜を全…

新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。射出成形された基板を全自動で真空成膜（スパッタリング及び重合）することが...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

Roll to Roll Sputtering System

Flexible Display用など機能性Film製造用Coatin…

Roll to Roll Sputter SystemはFlexible Display用フィルムなど機能性フィルム製造用コーティング装備で薄いフィルムにコーティング膜の厚さを維持しながら高速コーティングができます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＵＫＷＯＮ

Aera FC-R7800シリーズ　マスフローコントローラ

高精度・信頼性のメタルシールモデル

特長 ・高速応答性 － 設定値入力後1秒未満で流量安定 ・耐腐食設計 ・メタルシール採用 ・VCR準拠の接続部 ・10sccm～200slmのフルスケール流量レンジ ・ノーマリ・クローズ型またはノーマ...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社