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      • 高密度ラジカルソース『HDRS-114』 製品画像

        高密度ラジカルソース『HDRS-114』

        より良いプラズマ源を実現させるため、プラズマ科学の基礎に立ち返ります!

        『HDRS-114』は、高速結晶成長と高品質結晶成長を両立させる、超高真空の 用途に対応した高密度ラジカルソースです。 従来のラジカル源にはない、ハイブリッドプラズマ源を採用。 従来品比10…

      • 小型VUV分光器『RadiMo-DP,SP』 製品画像

        小型VUV分光器『RadiMo-DP,SP』

        コンパクト設計!波長帯域は115-200nm、さまざまな応用にお使いいただけます

        『RadiMo-DP,SP』は、RadiMo用に開発した小型真空紫外分光器です、 真空紫外分光用途に単独でもご使用できます。 従来の同レベルの波長分解能を持つ真空紫外分光器よりも体積比で1/3…

      • 三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』 製品画像

        三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』

        三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発!実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能

        『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン スパッタリング装置です。 多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 (ヒータ温度:95…

      • 高真空蒸着装置『KW-030D』 製品画像

        高真空蒸着装置『KW-030D』

        水晶振動式膜厚モニター搭載!コンパクト設計でクリーンな成膜が可能

        『KW-030D』は、小規模生産用及び各研究機関の実験用として、コンパクト 設計により初心者でも容易に作業ができる高真空蒸着装置です。 ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可…

      • F-RadiMoラジカルモニター『SP型-RadiMo』 製品画像

        F-RadiMoラジカルモニター『SP型-RadiMo』

        真空紫外吸収分光法でフッ素ラジカルの絶対密度計測!計測応用もさまざま

        『SP型-RadiMo』は、吸収分光法により基底状態のフッ素ラジカルの 絶対密度の計測ができる装置です。 光源から放射されるプローブ光のスペクトルは、高精度にキャリブレーション されています…

      • CVD装置『ナノカーボン堆積装置』 製品画像

        CVD装置『ナノカーボン堆積装置』

        3種類の堆積装置をラインアップ!用途に合わせてお選びください

        株式会社片桐エンジニアリングが取り扱う、『ナノカーボン堆積装置』を ご紹介いたします。 当製品は、ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置です。 「CND-050LP」をはじめ、大面積ナノ…

      • 装置 自律型ナノ製造装置 製品画像

        装置 自律型ナノ製造装置

        知的クラスター創成事業の一環として、名古屋大学と名古屋工業大学と共に共同開発

        このプロジェクトは、「ナノテクものづくりクラスター」の形成に向けた研究プロジェクトです。プロジェクトの目的としては、名古屋大学が独自に開発した反応空間内の原子・分子濃度を測定するプラズマ診断技術をもと…

      • 大気圧マイクロホロープラズマ ロボット搭載μ-AP大気圧プラズマ 製品画像

        大気圧マイクロホロープラズマ ロボット搭載μ-AP大気圧プラズマ

        第4の状態(プラズマ状態)を大気圧下で作り出す装置です。

        大気圧マイクロホロープラズマ ロボット搭載μ-AP大気圧プラズマは、第4の状態(プラズマ状態)を大気圧下で作り出す装置です。電極構造をホロー形状にし、ホロー部で電子密度のプラズマが増加し、高密度のプラ…

      • Radimoラジカルモニター <対向型ラジカルモニターDP型> 製品画像

        Radimoラジカルモニター <対向型ラジカルモニターDP型>

        世界初のプロセスで使える超小型ラジカル絶対密度計測装置です。

        Radimoラジカルモニター <対向型ラジカルモニターDP型>は、エッチング・表面処理・薄膜作製時に発生する気相中の原子状ラジカルを計測し、プロセスへのフィードバックを可能にしたモニタリング装置。世界…

      • CCPプラズマエッチング装置『CCP-T60M/B2M』 製品画像

        CCPプラズマエッチング装置『CCP-T60M/B2M』

        高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工!プロセスガスからラジカルを選択的に生成

        『CCP-T60M/B2M』は、高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現する 平行平板型エッチング装置です。 プロセスガスからラジカルを選択的に生成し、低電子温度、高密度プラズマが 得られる…

      • 真空機器関連商品 EBEP処理装置<FAP-EB/2D> 製品画像

        真空機器関連商品 EBEP処理装置<FAP-EB/2D>

        CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。

        真空機器関連商品 EBEP処理装置<FAP-EB/2D>は、低圧高密度プラズマによる高速・高品質表面処理装置で、CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。低圧力領域においてエネルギー可変電子ビ…

      • 株式会社片桐エンジニアリング 技術紹介 製品画像

        株式会社片桐エンジニアリング 技術紹介

        開発、設計から加工・溶接・組立・検査までを一貫して手がけております。

        株式会社片桐エンジニアリングでは、超真空から大気圧領域の真空装置・機器においてお客様の要望に応えたカスタマイズ装置づくりを行っており、開発、設計から加工・溶接・組立・検査までを一貫して手がけております…

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