ポンプ | イプロスものづくり

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【特許技術】静音性に優れた「完全回転バランス型シリンダ装置」

PRシリンダの小型化/静音化でお悩みの方必見。機械的損失を大幅に抑えた高効…

完全回転バランス型シリンダ装置は、従来のレシプロ方式で生ずるピストン往復運動による機械的損失がありません。＜完全回転バランス型シリンダ装置の特長＞ ■従来のピストン運動によるエネルギー損失がありません ■水・オイル無しでの稼働を実現 ■レシプロ方式で見られる振動騒音をおさえました【応用分野】 ■空圧コンプレッサー(エアコン、冷蔵庫等) ■真空ポンプ ■気体・液体等の流体移送ポンプ ■気体圧...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ケイ・アール・アンド・ディ (Ｋ．Ｒ＆Ｄ)
【グリスポンプ、グリス定量塗布の電動化】～電動式エンドシステム～

PR電動化にする事によりエアーでのシステムの電力の大幅なコストダウンを実現…

当社、カトー技研興業株式会社では、定量ポンプ・フロースイッチの開発設計から工事竣工、そしてアフターサービスまでオールインワンサポート対応を承っております。当社の自動塗布システムをご紹介いたします。【電動式エンドシステム】配管の末端圧力で給油完了を確認し、圧力調整弁の信号で電磁弁を切替え、ポンプを停止させるシステムです。【定量電動ポンプシステム】マルチポンプへ...

メーカー・取り扱い企業：カトー技研興業株式会社
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）有り・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプ可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

【主仕様】・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・最大基板サイズ：Φ8inch ・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

【主仕様】・最大基板サイズ：Φ10inch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

nchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その他のMin...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
ポンプ・メンテナンスの改造、移設等、休日対応も承ります。

真空蒸着装置とこれらに関連する機器メンテナンスサービスを行っております…

真空蒸着機は一般的な稼働状態で１～２年に１度のメンテナンスが必要です。弊社では、これまでに新旧様々なタイプの真空蒸着機や真空ポンプなどのメンテナンス、修理、移設、カスタマイズ等を行ってまいりました。特にメンテナンス作業では装置の細かい部分まで分解しクリーニングすることを心がけております。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社フジメカニック
簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト…

成膜系：φ３インチカソード　１元装備　　　：高周波電源　　　　　１源装備　　　　：基板加熱機構標準装備　　　：排気系　拡散ポンプ＆油回転ポンプ 操作系：全手動オプション機構磁性材用カソード　コンベンショナルカソード　ＤＣバイアス逆スパッタ機構　バイアススパッタ機構　基板高温加熱主ポンプ変更（ターボ分子ポン...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

薄膜を作成することができます。ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソフトウエア付属：...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

パッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ）・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ）・基板回転、上下昇降ステージ・Max500℃基板加熱ヒーター・水晶振動子膜厚センサー・7”タッチパネルHMI操作（’Int...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
研究開発用スパッタリング装置

コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…

標準仕様４インチカソード３元装備による多層成膜ターボ分子ポンプ＋油回転ポンプの高速排気逆スパッタと基板加熱機構の標準装備による高い膜質の実現１ｍ□のコンパクトな筐体に多機能を実現上位機種の各部ユニットを搭載可能...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

対応基板サイズ：　Max.φ4インチ×1枚・膜厚分布：　±5％以内（Al成膜時、基板回転併用）・基板加熱機構：　●ランプヒータ　常用400°C　※オプション・排気系：　1）ターボポンプ 　2）ロータリーポンプ 　● ドライポンプ　※オプション・最大ガス導入量：　1） Max.50sccm（Ar）　2） Max.10sccm（O2）　3） Max.10scc...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.
卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の卓上型マグネトロンスパッタ装置です。基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの拡張オプションにより、研究ステージに合せてグレードアップしていただくことが可能です。【特...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ
【MiniLab-SA125A】多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

（最大6）、Φ3"（最大4）・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー＜30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
ロードロック方式スパッタリング装置「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

○DC電源　800V、3.75A （MAX1.5kW） ○トレイサイズ　L350mm×H210mm ○基板搬送方式　ラック＆ピニオン搬送 ○ストッカー　10トレイ収納 ○排気系　ターボ分子ポンプ 2式／油回転ポンプ 2式【性能】 ○膜厚分布　トレイ内 ±1.2%　トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率　４４％（最大） ○タクト　3分／サイクル　 ※1枚目を除く ○到達...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空
多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

ッチング仕様 ■カソード：φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット：Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/各種酸化物/各種窒化物 ■真空排気系：ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ ■真空計：フルレンジゲージ ■ガス流量調整：アルゴン用MFC 50sccm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内径）x 250mm ・真空系：TMP + RP（ドライポンプ オプション）・ペルチェ冷却機構...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社