ポンプ | イプロスものづくり

絞り込み条件

製品分類

メーカー・取扱い企業

高性能・高圧多用途ポンプ【プラステコ】 L.TEXシリーズ

PR小流量から大流量、水状から高粘度まで、様々な流体の定量送液ならプラステ…

用途によって選べるタイプ！！ ●ポンプ単体（装置組込式）　●制御部一体型標準で最大40MPaまでの高圧送液に対応するプランジャ－ポンプです。当社の主力製品である『超臨界不活性ガス定量供給装置』においても多数実績があります。最大流量は 10mL/min ～ 1000mL/min と幅広く豊富な機種をご用意しておりますので、研究・実験用途に適した小流量から量産向けの大流量まで、ご使用目的に...
メーカー・取り扱い企業：株式会社プラステコ本社
浴槽保温ヒートポンプ『bath Hi-PON（バス・ヒーポン）』

PR【関東圏限定販売】浴槽保温コストを４０％～７０％削減　二酸化炭素排…

従来のヒートポンプではお風呂の水質に対応できないため、ヒートポンプで高温の温水を作り熱交換器を介してお風呂を保温していました。今回の新商品は新開発の熱交換器ユニットとヒートポンプユニットの組み合わせによりお風呂の循環水を直接加熱ができるようになりました。直接加熱が実現したことにより、省エネ性が高い運転を実現しながら、バッファタンクと循環ポンプが必要なくなるため、従来と比較して安...

メーカー・取り扱い企業：サイエンス株式会社
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）有り・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプ可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

【主仕様】・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・最大基板サイズ：Φ8inch ・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

【主仕様】・最大基板サイズ：Φ10inch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

nchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その他のMin...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
ポンプ・メンテナンスの改造、移設等、休日対応も承ります。

真空蒸着装置とこれらに関連する機器メンテナンスサービスを行っております…

真空蒸着機は一般的な稼働状態で１～２年に１度のメンテナンスが必要です。弊社では、これまでに新旧様々なタイプの真空蒸着機や真空ポンプなどのメンテナンス、修理、移設、カスタマイズ等を行ってまいりました。特にメンテナンス作業では装置の細かい部分まで分解しクリーニングすることを心がけております。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社フジメカニック
簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト…

成膜系：φ３インチカソード　１元装備　　　：高周波電源　　　　　１源装備　　　　：基板加熱機構標準装備　　　：排気系　拡散ポンプ＆油回転ポンプ 操作系：全手動オプション機構磁性材用カソード　コンベンショナルカソード　ＤＣバイアス逆スパッタ機構　バイアススパッタ機構　基板高温加熱主ポンプ変更（ターボ分子ポン...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

薄膜を作成することができます。ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソフトウエア付属：...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

パッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ）・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ）・基板回転、上下昇降ステージ・Max500℃基板加熱ヒーター・水晶振動子膜厚センサー・7”タッチパネルHMI操作（’Int...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
研究開発用スパッタリング装置

コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…

標準仕様４インチカソード３元装備による多層成膜ターボ分子ポンプ＋油回転ポンプの高速排気逆スパッタと基板加熱機構の標準装備による高い膜質の実現１ｍ□のコンパクトな筐体に多機能を実現上位機種の各部ユニットを搭載可能...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

対応基板サイズ：　Max.φ4インチ×1枚・膜厚分布：　±5％以内（Al成膜時、基板回転併用）・基板加熱機構：　●ランプヒータ　常用400°C　※オプション・排気系：　1）ターボポンプ 　2）ロータリーポンプ 　● ドライポンプ　※オプション・最大ガス導入量：　1） Max.50sccm（Ar）　2） Max.10sccm（O2）　3） Max.10scc...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.
卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の卓上型マグネトロンスパッタ装置です。基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの拡張オプションにより、研究ステージに合せてグレードアップしていただくことが可能です。【特...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ
【MiniLab-SA125A】多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

（最大6）、Φ3"（最大4）・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー＜30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
ロードロック方式スパッタリング装置「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

○DC電源　800V、3.75A （MAX1.5kW） ○トレイサイズ　L350mm×H210mm ○基板搬送方式　ラック＆ピニオン搬送 ○ストッカー　10トレイ収納 ○排気系　ターボ分子ポンプ 2式／油回転ポンプ 2式【性能】 ○膜厚分布　トレイ内 ±1.2%　トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率　４４％（最大） ○タクト　3分／サイクル　 ※1枚目を除く ○到達...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空
多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

ッチング仕様 ■カソード：φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット：Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/各種酸化物/各種窒化物 ■真空排気系：ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ ■真空計：フルレンジゲージ ■ガス流量調整：アルゴン用MFC 50sccm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内径）x 250mm ・真空系：TMP + RP（ドライポンプ オプション）・ペルチェ冷却機構...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
8インチスパッタコーター　SC-708シリーズ

大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4～8インチ…

【仕様】 ○適用可能ターゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Pd 〇スパッタ方式：DC/平行平板型〇排気操作：手動式〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　100L/min(自動リーク付) 〇寸法(W/D/H)：282/450/440mm ...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社
多種金属対応　プログラマブルスパッタコーター

Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

能ターゲット：Au/Pt/Au-Pd/Pt-Pd/Ag/Pd/W/Ni/Mo/Cr/Ti/Al etc. 〇試料サイズ：φ70mm(Max) 〇排気操作：手動式〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　100L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式：DCマグネトロン/平行平板型〇寸法(W/D/H)：360/422/265mm...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社
マグネトロンスパッタコーター　SC-701MC

イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用フルオートマチック…

仕様】〇ターゲットサイズ：φ49mm 〇適用可能ターゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Ag 〇試料サイズ：φ50mm(Max) 〇排気操作：自動〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　20L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式：DCマグネトロン/平行平板型〇寸法(W/D/H)：225/420/320mm...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社
全自動イオンコーター　SC-701AT

SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター

【仕様】〇ターゲットサイズ：φ49mm 〇適用可能ターゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd 〇試料サイズ：φ50mm(Max) 〇排気操作：自動〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　20L/min(自動リーク付) 〇寸法(W/D/H)：225/420/320 ...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社
実験用スパッタ装置

簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

●　価格500万円(税込み) ●　φ3インチターゲット　1元カソード ●　RF300W電源、自動マッチングボックス付 ●　ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、　　マスフローコントローラーによる調整 ●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ●　オプションにて基板ヒーターの取付可。 ●　余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ●　800W×600L×900H...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヤシマ
小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

【仕様】 ■到達真空度：1×10^-4 Pa以下 ■リーク量：1×10^-8 Pa・m3/sec以下（Oリング透過分を除く） ■排気系：TMP+ダイヤフラムポンプ（またはロータリーポンプ） ■真空計　フルレンジ真空計（コールドカソード+ピラニーゲージ）　+キャパシタンスゲージ（オプション） ■基板ステージ：2インチ対応ステージ ■基板加熱温度...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社
バイアススパッタリング装置『SPR-014-B』

良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！

低く、良好なステップカバレージ性を備えた良好な絶縁膜形成ができます。【特長】 ■低いピンホール密度 ■良好なステップカバレージ性 ■次の電極層に有利な平坦性　・排気系はドライポンプと磁気浮上型TMPの排気システム　・基板側とターゲット(カソード)に高周波電力を同時に印可　・ロードロック式の1元スパッタリング装置（容易に基板セット可能） ※詳しくはPDFをダウン...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本シード研究所
RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

【その他の特長】 ■誤作動防止のための安全回路を搭載 ■ターボ分子ポンプによるクリーンな排気により良質な成膜が行える ■冷却水循環装置、小型コンプレッサはオプションで装備可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サンバック本社
移動ロードロックシステム『CEX-2420』

スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接続ポートを装備！各試料ホルダーへ…

6420」間、あるいは、パスカル社製「PLD装置」間で、大気暴露なしに成膜試料を超高真空下で移載搬送できる移動ロードロックシステムです。 L/L室と接続ポート部は、独立したターボ分子ポンプで排気され、試料を常に超高真空下に持ちます。また、スパッタ装置用、PLD装置用の 2つの接続ポートを備え、各試料ホルダーへの試料の移載が可能。無停電電源でバックアップされ、30分以上...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コメット
スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！

】 ■ワーク：最大18L（形状・サイズ・材質等で異なります） ■スパッタカソード：マグネトロン方式 ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■真空排気：拡散ポンプ+RP ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

【主仕様】・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Mode...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）有り・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプ可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model....

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

nchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その他のMin...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

0ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

【主仕様】・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社