『粉体・液体プラントの総合エンジニアリング』

PR作業負担の軽減、混合時間の短縮など様々な課題を解決。改善事例を掲載した…

当社では、設計から施工・管理、機器・部品の製造、販売までカバーする 『粉体・液体プラントの総合エンジニアリング』を行っています。 在庫管理システムと連携し、多品種の原料を自動で計量・供給するシステムや、 新しい素材や付加価値の高い原料の処理工程など、 様々なプラント設備の設計・施工が可能です。 ★当社による粉体設備の改善事例を掲載した資料を進呈中。 　詳細は「PDFダウンロード...

メーカー・取り扱い企業： アクトシステムエンジニアリング株式会社

いまさら聞けない！セラミックスの基本　※解説資料無料進呈中

PRセラミックスの特長や材料から、設計上の注意ポイントまで一挙に解説

セラミックスは硬い、電気に強い、熱に強い、腐食に強い といった特長がありますが 加工によっては歪みや曲りが起こりやすいことも事実です。 当社は1881年から140年以上続く、セラミックスメーカーです。 お客様の仕様に基づいてさまざまなセラミックス部品を提供してきた経験から、 セラミックスの特長を生かすための「設計上の留意点」もまとめた解説資料を作成しました。 【掲載内容】 ■セラミックスの特長...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社友玉園セラミックス

表面処理の特性予測ソリューション

複数の解析ソフトウェアを駆使した表面処理の特性予測ソリューションを提案…

セス装置の解析と表面状態の特性予測をまとめて提供します！ 【解析対象となる物理現象】 ・結合と活性化 ・成膜 ・スパッタや浸食 ・脱離や洗浄　　　など 【評価可能な表面特性例】 ・原料ガスやプラズマの入射量やエネルギー、あるいは浸食/成膜速度の評価 ・物質の原子/分子データに基づきその材料特性を評価 ・入射粒子の表面反応予測 ・処理後の表面粗さ評価 ・処理前後の親水性の変...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

固体、粉体プロセスのモデリングツール 　『gFORMULATE』

プロセスモデルライブラリ（反応、結晶、湿式及び乾式粉砕、噴霧乾燥、湿式…

ステム全体のパフォーマンス解析が可能です。 ■　溶液晶析解析 ■　固液・固気分離、分級、造粒プロセス解析 ■　 経口吸収解析 当製品は欧米メガファーマの協力を得て開発されました。 原料、ユニット操作および製品性能の数理モデルの使用により、医薬品および医薬品の処方及び製造の最適化のための製剤設計が可能です。インビボ（in vivo）性能および製造可能性を含む品質特性に対して、新しい...

メーカー・取り扱い企業： シーメンス株式会社 gPROMS ポートフォリオ

【実験できない範囲も解析が可能】表面処理の特性予測ソリューション

専門知識を持った技術者がサポート！各種解析ソフトを組み合わせる事で、表…

【その他の特長】 ＜解析対象となる物理現象＞ ■結合と活性化 ■成膜 ■スパッタや浸食 ■脱離や洗浄　　　など ＜評価可能な表面特性例＞ ■原料ガスやプラズマの入射量やエネルギー、あるいは浸食/成膜速度の評価 ■物質の原子/分子データに基づきその材料特性を評価 ■入射粒子の表面反応予測 ■処理後の表面粗さ評価 ■処理前後の親水性の変...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

製造ビッグデータ解析ソリューション『VectorScope』

集めて、知って、未来へ導く！“生産性向上”と“現場力強化”を実現する品…

『VectorScope』は、製造現場に蓄積されている、温度や圧力、原料組成など、 製造に関する様々なデータを独自の合成ベクトル手法で「製造状態」という新たな指標で可視化します。 この製造状態と製品品質との関係性を探ることで、お客さまと共に製造現場の 「生産性...

メーカー・取り扱い企業： 三菱ケミカルエンジニアリング株式会社

【導入事例】GaN製造装置のガスノズルの設計最適化

計算時間を大幅に短縮！プロセスインフォマティクス導入事例をご紹介！

局の電源としても採用が 期待されている、パワー半導体です。薄切りの円盤のウエハとして使われるのが 一般的ですが、最初に製造する状態は円柱形です。 GaNの円柱は、下から空いた穴からGaNの原料となるガスを噴出し、結晶を 成長させます。実際の穴は100個以上で、無限の組み合わせがあります。 シミュレーションをすると、それにかかるのは1条件なんと6時間。1000通りやると 6000...

メーカー・取り扱い企業： アイクリスタル株式会社

【解析事例】CVDエッチングプロセス最適条件の探索

最適条件の探索に！多次元表示チャートの活用事例をご紹介！

詳細化学反応解析プログラムCHEMKINと連成した、 エッチングプロセス最適条件の探索事例をご紹介します。 問題設定としては、原料ガス供給量SCCM、酸素濃度を変化させ、 出口C2F6濃度、CF4濃度がそれぞれ最小となり、 エッチング速度最大(膜生成速度最小）となる操作点を探索しました。 計算の結果、具体的にC2F6...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社IDAJ