一酸化ケイ素（SiO）塊・粉末

PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

当社は、リチウムイオン電池（LiB）負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素（SiO）』を提供しています。 粉末状（1～100μm）、粒状（1～5mm）、塊状（50～200mm）に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8％、5μmの粉末でSiO純度99.9％などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法：結晶化学気相成長法 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

銅バスバー試作　※1個からの試作品製作も可能！

PR需要の増えている銅製品！設計の強度アップ、軽量化、簡素化への対応も可能

当社では、ファイバーレーザー加工機及び、ワイヤー加工機を用いて、 製作困難とされている銅板に対し、柔軟に対応致します。 複雑な曲げ加工も自由自在です。柔軟な設計試作に対応。 少量試作専門会社ならではの、1個からの製作が可能です。 必要な数量だけを製作することができます。 【バスバー製作の3つの強み】 ■ファイバーレーザー加工機 ■曲げ加工、自由自在 ■1個からの試作品製...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウシオ

自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置（フルオートリソグラフィ）

レジスト塗布～露光～現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォ…

の基板搬送実績もあります。 露光工程は、オートアライメント機能搭載可能 ポジ・ネガ反転工程にも最適です。 【特長】 ■フォトリソ工程を自動一括処理 ■低価格を実現 ■低～高粘度（1.7cP～10000cP）まで対応可能 ■2～6インチまで対応可能、□4インチも実績あり ■ウエハサイズ自動認識 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減（省スペース化） ■レジスト...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）

段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度～高粘度レジス…

コーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、IｎP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！ 【特長】 ■段取り替え不要で、2サイズウエハ処理可能。 ■低価格を実現 ■低～高粘度（...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動フォトレジスト現像装置（セミオートデベロッパー）

自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様…

【主な仕様】 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP～ ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：1組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動レジスト現像装置（枚葉式） デベロッパー Developer

枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…

枚葉式フォトレジスト現像装置です。 パドル現像、スプレー現像（1流体、2流体）など様々な現像プロセスに対応できます。 薄型ウェハや角基板など多数実績がございます！ また、厚膜レジスト現像～微細なパターンの現像まで幅広く対応できます。 当製品は、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動フォトレジスト塗布装置（スピンコーター）Coater

レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

コーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、InP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！ 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ 【特長】 ■スピ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

逆テーパー角を一定に！PEB対応レジスト現像装置（デベロッパー）

逆テーパー角度を一定に！ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…

設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 TMAH、コリン水溶液、Na2CO3等多彩な薬液に実績があります。 また、薄いウエハでの実績も多数あります（ウエハ厚さ150umなど）のでご相談ください。 【特長】 ■PEBによる逆テーパー角の安定 ■自動ウエハサイズ認識機能 ■パドル、1流体スプレー、2流体スプレーの対応可 ■フットプリントの低減 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

段取り替えなし！複数ウエハサイズ兼用自動レジスト塗布装置コーター

現状のウエハサイズと将来的に使用したいウエハサイズを兼用した装置を作製…

上のウエハサイズを兼用した装置製作が「段取り替えなし」で可能です。 実績例 ■2・3・4インチ兼用装置 ■4・5インチ兼用装置 ■4・6インチ兼用装置 ■6・8インチ兼用装置 ■8・12インチ兼用装置 ウエハ重量、ウエハ材質によっても変わりますので、 まずはお気軽にご相談ください。 2種類のウエハサイズの専用装置を1台ずつ設置することを考えれば、設置面積は実質半分に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

MAX400℃！高温ベーク対応レジスト塗布装置（スピンコーター）

BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能！高温ベ…

どなど多数の薬液に実績ございます！ シリコン（Si）、サファイア、セラミック、LT、GaAs、InP、GaN、SiC、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、IｎP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板もご安心ください！ 【特長・強み】 ■お手頃価格を実現 ■ウェハサイズ自動検知機能 ■自動ウェハ検知機能（マッピン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

厚膜塗布に高粘度専用スピンコーター！自動ポリイミド塗布装置

～10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピン…

【主な仕様例】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

ロール・スプレーコーターの置き換え！回転カップ式レジスト塗布装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

コンパクト！装置幅300mm自動レジスト塗布装置（コーター）

装置「幅」が300mm！ウェハサイズではなくて装置の幅が300mmの装…

【主な仕様】 ■ウェハ搬送置台：1組 ■スピン塗布ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ1～2" ■レジスト滴下ノズル：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）300×1800×1800(Φ4"本体) そ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

厚さ100um！極薄ウェーハ搬送自動レジスト塗布装置　コーター

GaAs、LT、ガラスなどの脆くて薄いウェーハでの搬送・塗布での実績（…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

コンパクト！手動フォトレジスト現像装置（マニュアルデベロッパー）

少量多品種生産、開発用途向けのコンパクトレジスト現像装置です。枚葉式の…

研究開発目的としてだけでなく少量多品種の製品を扱うお客様にご利用いただいております。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■低価格を実現 ■コンパクト！ ■パドル、1流体スプレー、2流体スプレーも選択可能 ■多彩な薬液に実績あり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

両面プロセスに最適！両面自動フォトレジスト塗布装置　コーター

ウェハ反転ユニットを使うことでウェハの両面塗布を自動で行えます！

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

フォトレジスト量削減！回転カップ式塗布装置（スピンコーター）

ポリイミドや高価な高粘度レジストの削減に有効！回転カップ式スピンコータ…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ