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超小型・軽量サーモクーラー baby SAMOL SL-1F
PR驚きの冷却機能を搭載した手乗りサイズの電子冷却装置!サーモ・クーラー
baby SAMOL SL-1Fは手乗りサイズのサーモ・クーラーです。 こんな小ささで、-5℃を作れます。つまり凍るんです!(外気20℃) 完全電子部品ですので、高精度の温度調節にも好適です。 ◆極めて高い冷却能力。 冷却できる温度は標準品で周囲の温度から約30℃下げる事が可能。 特注品では50℃まで冷却できるものも製作可能です。 また、冷却能力は、入力電力の約40%と高い効率です。 ■用途...
メーカー・取り扱い企業: 日本ブロアー株式会社
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PR需要の増えている銅製品!設計の強度アップ、軽量化、簡素化への対応も可能
当社では、ファイバーレーザー加工機及び、ワイヤー加工機を用いて、 製作困難とされている銅板に対し、柔軟に対応致します。 複雑な曲げ加工も自由自在です。柔軟な設計試作に対応。 少量試作専門会社ならではの、1個からの製作が可能です。 必要な数量だけを製作することができます。 【バスバー製作の3つの強み】 ■ファイバーレーザー加工機 ■曲げ加工、自由自在 ■1個からの試作品製...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウシオ
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自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置(フルオートリソグラフィ)
レジスト塗布~露光~現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォ…
の基板搬送実績もあります。 露光工程は、オートアライメント機能搭載可能 ポジ・ネガ反転工程にも最適です。 【特長】 ■フォトリソ工程を自動一括処理 ■低価格を実現 ■低~高粘度(1.7cP~10000cP)まで対応可能 ■2~6インチまで対応可能、□4インチも実績あり ■ウエハサイズ自動認識 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減(省スペース化) ■レジスト...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー(塗布・現像)
段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度~高粘度レジス…
コーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs(厚み150um)、InP(厚み150um)、LT(厚み120um)など薄い基板の搬送実績も多数あります! 【特長】 ■段取り替え不要で、2サイズウエハ処理可能。 ■低価格を実現 ■低~高粘度(...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様…
【主な仕様】 ■スピン現像ユニット:1組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■現像ノズル:1組/CUP~ ■リンスノズル:1組/CUP ■ベークユニット:1組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタリングユニ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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自動レジスト現像装置(枚葉式) デベロッパー Developer
枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…
枚葉式フォトレジスト現像装置です。 パドル現像、スプレー現像(1流体、2流体)など様々な現像プロセスに対応できます。 薄型ウェハや角基板など多数実績がございます! また、厚膜レジスト現像~微細なパターンの現像まで幅広く対応できます。 当製品は、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…
コーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs(厚み150um)、InP(厚み150um)、LT(厚み120um)など薄い基板の搬送実績も多数あります! 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました! 【特長】 ■スピ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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逆テーパー角を一定に!PEB対応レジスト現像装置(デベロッパー)
逆テーパー角度を一定に!ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…
設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 TMAH、コリン水溶液、Na2CO3等多彩な薬液に実績があります。 また、薄いウエハでの実績も多数あります(ウエハ厚さ150umなど)のでご相談ください。 【特長】 ■PEBによる逆テーパー角の安定 ■自動ウエハサイズ認識機能 ■パドル、1流体スプレー、2流体スプレーの対応可 ■フットプリントの低減 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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段取り替えなし!複数ウエハサイズ兼用自動レジスト塗布装置コーター
現状のウエハサイズと将来的に使用したいウエハサイズを兼用した装置を作製…
上のウエハサイズを兼用した装置製作が「段取り替えなし」で可能です。 実績例 ■2・3・4インチ兼用装置 ■4・5インチ兼用装置 ■4・6インチ兼用装置 ■6・8インチ兼用装置 ■8・12インチ兼用装置 ウエハ重量、ウエハ材質によっても変わりますので、 まずはお気軽にご相談ください。 2種類のウエハサイズの専用装置を1台ずつ設置することを考えれば、設置面積は実質半分に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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MAX400℃!高温ベーク対応レジスト塗布装置(スピンコーター)
BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能!高温ベ…
どなど多数の薬液に実績ございます! シリコン(Si)、サファイア、セラミック、LT、GaAs、InP、GaN、SiC、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs(厚み150um)、InP(厚み150um)、LT(厚み120um)など薄い基板もご安心ください! 【特長・強み】 ■お手頃価格を実現 ■ウェハサイズ自動検知機能 ■自動ウェハ検知機能(マッピン...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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~10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピン…
【主な仕様例】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタリングユニット:1組 ■装置サイズ:(例)1200×1000×1800(Φ4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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ロール・スプレーコーターの置き換え!回転カップ式レジスト塗布装置
多彩な薬液に実績あり!低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタリングユニット:1組 ■装置サイズ:(例)1200×1000×1800(Φ4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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コンパクト!装置幅300mm自動レジスト塗布装置(コーター)
装置「幅」が300mm!ウェハサイズではなくて装置の幅が300mmの装…
【主な仕様】 ■ウェハ搬送置台:1組 ■スピン塗布ユニット:1組 ■ウエハサイズ:Φ1~2" ■レジスト滴下ノズル:1組 ■センタリングユニット:1組 ■装置サイズ:(例)300×1800×1800(Φ4"本体) そ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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厚さ100um!極薄ウェーハ搬送自動レジスト塗布装置 コーター
GaAs、LT、ガラスなどの脆くて薄いウェーハでの搬送・塗布での実績(…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタリングユニット:1組 ■装置サイズ:(例)1200×1000×1800(Φ4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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コンパクト!手動フォトレジスト現像装置(マニュアルデベロッパー)
少量多品種生産、開発用途向けのコンパクトレジスト現像装置です。枚葉式の…
研究開発目的としてだけでなく少量多品種の製品を扱うお客様にご利用いただいております。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■低価格を実現 ■コンパクト! ■パドル、1流体スプレー、2流体スプレーも選択可能 ■多彩な薬液に実績あり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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両面プロセスに最適!両面自動フォトレジスト塗布装置 コーター
ウェハ反転ユニットを使うことでウェハの両面塗布を自動で行えます!
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタリングユニット:1組 ■装置サイズ:(例)1200×1000×1800(Φ4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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フォトレジスト量削減!回転カップ式塗布装置(スピンコーター)
ポリイミドや高価な高粘度レジストの削減に有効!回転カップ式スピンコータ…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタリングユニット:1組 ■装置サイズ:(例)1200×1000×1800(Φ4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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UV-LED光源!半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー
光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、…
【主な仕様】 ■マスクサイズ:□3"~□7" ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ6", 角基板 □2"~4" ■カセットステージ:2組 ■センタリングユニット オリフラ自動位置合わせ機能付き:1組 ■露光光源:i線LED光源(500W相当) ■オートアライメント機能搭載(FAST社製) ■装置サイズ:(例)1200×1200×1900(本体) ■搬送方法:ダブルアームクリーンロボッ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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半自動リフトオフ装置(セミオートリフトオフ機)Lift-off
自動機よりも安く、マニュアル装置より使いやすいセミオートタイプのリフト…
を行う装置です。 リフトオフはASAP特殊ノズルによる高圧ジェットによりバリも除去し、メタル剥離を行います。 カセット(キャリア)でセットをすることはできませんが、マニュアルと違いウェハ1枚1枚を自動搬送するので、偏心や位置ズレの心配がありません! ドライイン・ドライアウトで処理に関して作業者に薬液の付着の心配がありません。 リフトオフの最大のメリットである厚膜メタルのリ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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ブラシ洗浄からの置き換え!枚葉式ウエハ洗浄装置(スクラバー)
実績多数の高圧ジェットを採用したスクラバー。ソフトスプレーと組み合わせ…
当社のスクラバー装置は、当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェットにより、枚葉による高速処理・高洗浄力を実現し、薬液の使用量も削減できます。 ノズルは、高圧ジェット方式の他、2流体スプレー、1流体スプレー等の方式も選択可能ですし、組み合わせることも可能です。 ウエハ洗浄だけでなく、フォトマスクの洗浄でも実績があります。 また、DIP処理で問題となるパーティクルの再付着がありま...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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正確に、素早くソーティング。キャリアに挿入されたウエハを自動で取り出し…
【主な仕様例】 ■カセットステージ:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ8" ■印字読み取り COGNEX製ユニット搭載 ■センタリングユニット:1組 オリフラ位置合わせユニット搭載 ■装置サイズ:(例)700×1000×1200(Φ6") ■ウェハ搬送ロボット:1組(シングルアームクリーンロボット) ※詳しくは、お気軽にお問い合...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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【複数サイズのウエハを段取り替えなしで処理!】複数サイズ兼用装置はダウ…
3」、「2・4」、「3・4」、「4・6」、「6・8」インチ 【薄型ウェハにも対応!】 高圧ジェットはウェハ(基板)が薄いと割れるのではないか?という声をよくお聞きします。 弊社では厚さ120umのGaAsのリフトオフの実績もございます(圧力3MPa) デバイスによって圧力調整なども自由に行えます。 【複数サイズウエハの段取り替えがないメリット」】 ■ダウンタイムが少なく高...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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反りウェハも搬送!ベルト搬送式自動レジスト塗布装置(コーター)
ベルト搬送タイプのトラックシステムスピンコーターです。高スループットで…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:1組/CUP ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:2組 ■センタリングユニット:2組 ■装置サイズ:(例)1800×1000×140...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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短時間剥離!手動リフトオフ装置(マニュアル機)Lift-off
短時間剥離!当社独自の特殊ノズルによる高圧ジェットで、枚葉による高速処…
【主な仕様】 ■ウェハサイズ:φ2"~φ8"まで対応可能 ■膨潤機能:パイプヒーター or リサイクルによる温調液 ■使用薬液:DMSO、NMPなど各種剥離液 ■装置サイズ:1400×1100×1900(本体・薬液BOX一体) ■搬送方法:ダブルアームクリーンロボット(CLASS1対応) ■消火器システム その他オプション多数! ※詳しくはPDF資料をご覧...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置(デベロッパー)
厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状…
1流体スプレー方式の現像装置です。 現像液の圧力でスプレーをするため、スプレーによるミストが飛び散りにくく、また現像スピードを速くすることができます。 大型基板や厚膜の現像に最適です。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせた...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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低粘度~高粘度レジスト対応!小口径~大口径まで、どのウェハサイズの装置…
【特長】 ■低価格を実現 ■低~高粘度(1.7cP~10000cP)まで対応 ■2~12インチまで対応 ■複数サイズウエハを処理可能(例、3・4・5インチ兼用、8・12インチ兼用) ■ウエハサイズ自動認識システム ■多彩な薬液に実績...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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角基板対応自動レジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー)
低粘度~高粘度レジスト対応!どのウェハサイズの装置も作製可能です!
コーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs(厚み150um)、InP(厚み150um)、LT(厚み120um)など薄い基板や角基板の搬送実績も多数あります! 【特長】 ■低価格を実現 ■低~高粘度(1.7cP~10000cP)まで対応可能...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置(デベロッパー)
高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在!2流体スプレーレジスト現像…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン現像ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■現像ノズル:1組/CUP ■リンスノズル:1組/CUP ■ベークユニット:4組(Max200℃) ■クーリングユニット:2組 ■センタリングユニット:1組 ■装置サイズ:(例)1...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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静止現像式(パドル)自動フォトレジスト現像装置(デベロッパー)
多彩な薬液に実績あり!低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…
枚葉式でウエハ上に現像液を液盛りして現像を行います。 ディップ方式と違い、1枚1枚現像を行うので、プロセスの再現性が非常に高いです。 薬液使用量を最適化することにより、現像液使用量の削減に繋がります。 液盛り方法もシャワータイプからストレートノズルなどご要望にお...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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多彩な薬液に実績あり!低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン現像ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■現像ノズル:1組/CUP ■リンスノズル:1組/CUP ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタリングユニット:1組 ■UV露光ユニット(L...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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大型角基板用(~430mm)回転カップ式自動レジスト塗布コーター
430mm角までの大型基板を隅まで均一良く塗ることができます!正方形、…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタリングユニット:1組 ■装置サイズ:(例)1200×1000×1800(Φ4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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10000cP!高粘度対応自動レジスト塗布装置(スピンコーター)
10000cPのポリイミドやレジストにも対応可能!ASAP(エイ・エス…
cP以上のレジストでも面内均一±5%以内に納めます(φ300mmウェハ) ASAP(エイ・エス・エイ・ピイ)特許の回転カップ方式によって厚膜を均一良く塗布することが可能です(保有特許:第3821468) 当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行って...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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自動等倍露光装置(オートマスクアライナー)Maskaligner
簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。オートアライメント機能…
【主な仕様】 ■マスクサイズ:□3"~□7" ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ6", 角基板 □2"~4" ■カセットステージ:2組 ■センタリングユニット オリフラ自動位置合わせ機能付き:1組 ■露光光源:超高圧水銀灯(250W,500W) UV-LED光源も対応可能 ■オートアライメント機能搭載(FAST社製) ■装置サイズ:(例)1200×1200×1900(本体) ■搬送...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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高粘度フォトレジスト対応!密閉式自動レジスト塗布装置(コーター)
高粘度フォトレジスト塗布に自信があります!10000cPのポリイミドで…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタリングユニット:1組 ■装置サイズ:(例)1200×1000×1800(Φ4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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半自動レジスト塗布装置(セミオートスピンコーター)Coater
低~高粘度レジスト対応!どのウェハサイズの半自動機(セミオート)も作製…
コン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。 【特長】 ■半自動レジスト塗布機(セミオート)で低価格を実現 ■2~12インチまで対応可能 ■低~高粘度(1.7cP~10000cP)まで対応可能 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減(省スペース化) ■レジスト削減で多数のオプション ※詳しく...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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R&Dや少量生産に最適!手動レジスト塗布装置(スピンコーター)
研究・開発、小ロット対応のマニュアル装置!卓上タイプとは違う自動機と同…
リコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります! 【特長】 ■手動レジスト塗布機(マニュアル)で低価格を実現 ■2~12インチまで対応可能 ■低~高粘度(1.7cP~10000cP)まで対応可能 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減(省スペース化) ■レジスト削減で多数のオプション ※詳しく...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…
【主な仕様】 ■ウェハサイズ:φ2"~φ8"まで対応可能 ■膨潤機能:パイプヒーター or リサイクルによる温調液 ■使用薬液:DMSO、NMPなど各種剥離液 ■装置サイズ:1500×1100×1900(3カップ時、本体) ■搬送方法:ダブルアームクリーンロボット(CLASS1対応) ■消火器システム その他オプション多数! ※詳しくはPDF資料をご覧いた...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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【枚葉式でDIP並みの膨潤】リサイクル式循環ヒーターにより、高温・高剥…
厚膜のパターニングに好適な超高圧ジェットリフトオフ装置です。 ●薄型ウェハにも対応! 高圧ジェットはウェハ(基板)が薄いと割れるのではないか?という声をよくお聞きします。 弊社では厚さ120umのGaAsのリフトオフの実績もございます(圧力3MPa) デバイスによって圧力調整なども自由に行えます。 【特長】 ■DIP並みの膨潤! ■MAX20MPaの超高圧ジェット ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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高圧ジェットで驚きの剝離能力!当社独自の特殊ノズルで、枚葉による高速処…
【主な仕様】 ■ウェハサイズ:φ2"~φ8"まで対応可能 ■膨潤機能:パイプヒーター or リサイクルによる温調液 ■使用薬液:DMSO、NMPなど各種剥離液 ■装置サイズ:1500×1100×1900(3カップ時、本体) ■搬送方法:ダブルアームクリーンロボット(CLASS1対応) ■消火器システム その他オプション多数! ※詳しくはPDF資料をご覧いた...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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