• 『3D溶接検査装置システム』高速ビート検査 製品画像

    『3D溶接検査装置システム』高速ビート検査

    PR『溶接対象形状をロボットで正確にトレース! 寸法検査・形状検査も可能』…

    『3D溶接ビード検査装置』は、ライン状のレーザ光源を検査ワークに 照射し、その反射光を高さデータとして取得する「光切断法」を 採用しています。 ロボットに取付けた3Dカメラでスキャンニングすることにより 三次元形状を計測できます。 また、検査中、通信でロボット位置・姿勢 情報を取得しているため、 加減速や姿勢変化にも対応可能です。 【特長】 ■自動での高速ビード検査 M...

    メーカー・取り扱い企業: 東日本イワタニガス株式会社 開発本部

  • 2D/3DCAD資産を活用したシステム開発 製品画像

    2D/3DCAD資産を活用したシステム開発

    PR文字情報の抽出、自動作図など、「できない」と諦めていたご要望を実現

    当社では『2D/3DCAD資産を活用したシステム開発』を行っております。 CADのカスタマイズ、独自システム構築、OEMなど幅広く対応可能。 市販CADソフトをベースにお客様専用のシステムを開発し、 「できない」と諦めていたご要望を実現いたします。 【市販CADソフトを活用した専用ソフト開発のメリット】 ■安定品質 ■柔軟なライセンス ■フルカスタマイズ ※「PDFダウ...

    • IPROS5904102745771426170_550x550.png

    メーカー・取り扱い企業: アンドール株式会社 ITプラットフォーム営業部 

  • 小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501) 製品画像

    小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

    試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

    D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・異形状・サイズ基板の同時処理  ・高い成膜速度  ・シンプルメンテナンス  ・省フットプリント  ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】  ・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • Oリング フロロアップD(低固着+低アウトガス+耐高真空) 製品画像

    Oリング フロロアップD(低固着+低アウトガス+耐高真空)

    Oリングの桜シールによる低固着性+低アウトガス性のフッ素ゴム(FKM)…

    ゴム材質の特徴である貼り付きやガスの放出といった現象を低減させたフッ素ゴム(2元系)による材質で、高真空用途に最適なグレードです。尚、耐熱性や耐薬品性については汎用FKMと同程度です。桜シール株式会社は、JIS規格による一般的な規格サイズは元より、極小Oリングから大口径リングに至るまでの大小様々なOリングを取り揃え、材質とサイズの両面で適切なOリング選定をサポートさせて頂きます。 * フロロアッ...

    メーカー・取り扱い企業: 桜シール株式会社 日本本社

  • クラスターツール『3ICP+2cassetteモジュール』 製品画像

    クラスターツール『3ICP+2cassetteモジュール』

    SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能!搬送チャン…

    『3ICP+2cassetteモジュール』は、さまざまなモジュールを 搭載可能なクラスターツールです。 ICPRIEモジュールの「SI 500-1M」をはじめ、RIEモジュールの 「SI 500 RIE-1M」や、PECVDモジュールの「SI 500 PPD-1M」、 ALDモジュール「SI ALD-1M」などを搭載可能 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【搭載...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V) 製品画像

    高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

    少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…

    A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適  ・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜  ・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性  ・ウェハ反り矯正機能(特許取得済)によるSiCウェハ対応  ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V) 製品画像

    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

    量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…

    「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~8インチ)  ・真空・プラズマ不要 (熱CVD)  ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200) 製品画像

    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

    量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…

    「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・~56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~12インチ)  ・真空・プラズマ不要 (熱CVD)  ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S) 製品画像

    太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

    結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

    AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・156mm角/125mm角ウェハ対応  ・1500枚/hの高生産性  ・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG)  ・固相拡散用...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター 製品画像

    RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

    各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

    RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置(CVD, MBE, PVD等)や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等)に対応可能。 4) 従来...

    • Riber-insituモニタ画像.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」 製品画像

    ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

    FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

    FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】  ・低温(150~300℃)成膜  ・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜  ・シンプルメンテナンス  ・低CoO(低ランニングコスト)  ・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル  ・導入・維...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア 製品画像

    Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア

    最新の制御機能とデータロギング機能を有する、WindowsベースのSC…

    MOCVD(有機金属気相成長)装置とプロセスをコントロールするための最新のWindowsベースのSCADAパッケージを備えたMOCVD装置制御ソフトウエアです。最新の制御機能とデータロギング機能を有しており、他のソフトウエアにはないカスタマイズ性、操作性が優れています。Veeco, Thomas Swan, Aixtron社等のレガシーMOCVD装置の制御ソフト入れ替え、ソフトウエアアップグレード...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • RIBER社 分子線エピタキシー(MBE)装置  製品画像

    RIBER社 分子線エピタキシー(MBE)装置

    パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

    パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリーニングとパッシベーションを行うレーザーの両端でデバイスホルダーを反転させる機能が含むチャ...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター 製品画像

    Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター

    Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-si…

    Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-situ温度モニターは高精度、高安定性を有する業界最高レベルの温度モニターです。 (1) 圧倒的な温度制御の精度と正確さ (2) メンテナンス後のキャリブレーション時間を短縮 (3) Run to Runの再現性が向上 (4) 様々なアプリケーションに役立つ単波長および二波長反射率オプション 標準波長:930nm, オプシ...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • 常圧CVD装置「AMAX800V」 製品画像

    常圧CVD装置「AMAX800V」

    優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

    常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高スループットを実現しました。 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプロセス性能が得られます。 【特徴】 ○高スル...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所

  • 鋳物加工もお任せ下さい 材料手配から承ります 製品画像

    鋳物加工もお任せ下さい 材料手配から承ります

    砂型鋳造、金型鋳造、金型鋳造、ダイカスト鋳造、石膏鋳造など、あらゆる鋳…

    各種材質、工法の鋳造品につきまして、様々な実績があります(受注品の約40%が鋳造品です) 各鋳造メーカー様との協業により、型の作成~材料手配~機械加工~表面処理まで一貫して承ります 対応材質:鉄鋳物(FC、FCD)、アルミ鋳物、ステンレス鋳物、銅鋳物、アルミダイカスト、石膏鋳造(材質各種) 対応工法:砂型鋳造、金型鋳造、ダイカスト鋳造、石膏鋳造 加工サイズ:300mm×300m...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三栄精機工業

  • 枚葉式常圧CVD装置『A200V』 製品画像

    枚葉式常圧CVD装置『A200V』

    装置サイズを可能な限りコンパクト化!安定した成膜処理と低パーティクルを…

    『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4-O3もオプション対応が可能な装置です。 【特長】 ■フェイスダウンポジション ■...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所

  • スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A 製品画像

    スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • Agnitron社 中古再生MOCVD装置 製品画像

    Agnitron社 中古再生MOCVD装置

    完全に再生(リファブ)され、アップグレードされたレガシーMOCVD装置…

    Agnitron社は中古装置の使用履歴、装置特徴を等を熟知しており、ニーズを満たす中古装置の再生(リファブ)、アップグレードを実施します。また材料科学、プロセスエンジニアリングに精通しており、装置のエンジニアリングだけに留まらず、装置の過去使用履歴が将来の性能にどのように影響を与えるか、部品の再利用可否、交換する適切な時期を把握していますので安心して装置を購入、使用して頂けます。 (1) 標...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

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