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844件 - メーカー・取り扱い企業
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【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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『無料サンプル』進呈中！【PDFダウンロード】ボタンからお申し込み方法…
世界の化学気相成長（CVD）装置市場規模は、2022年に281億3,000万米ドルに達しました。今後、IMARC Groupは、2023年から2028年の間に8.30%の成長率（CAGR）を示し、2028年までに461億9...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローバルインフォメーション
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無料サンプル応募受付中！京セラの鋼旋削加工用インサート新材種
X(旧Twitter)連携企画！鋼切削加工用インサート最新材種のサンプ…
下記URlから希望インサート型番・必要事項を入力！ ※応募締切：9月29日（金） 23:59 ご応募は下記URLから！ ◆寿命2倍も！発売以来大好評の鋼加工用新材種◆ 鋼加工用 新CVDコーティング「CA115P/CA125P」は、コーティングと超硬母材ともに刷新した鋼加工用の新材種です。 耐摩耗性と耐欠損性を高次元で両立し、多様な加工環境で長寿命を実現します。 中～荒加工用...
メーカー・取り扱い企業： 京セラ株式会社 機械工具事業本部
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プロセスの安定性を維持！誘電体および金属材料のナノメートル厚の膜を配置
当社の半導体における、回路形成「CVD(化学蒸着)」についてご紹介します。 化学蒸着は、ウェーハ上に誘電体および金属材料の ナノメートル厚の膜を配置。 このプロセスは非常に高温(800-2000℃)になるため、 デュブ...
メーカー・取り扱い企業： 有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 本社
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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CVDイットリアは耐プラズマ性に優れた高純度保護膜です。
「CVDイットリア」は、耐プラズマ性に優れた透明性保護膜です。 密着性が高い緻密膜ですので、プラズマ処理プロセス（F系、Cl系） で使用されるウィンドウ類の保護膜として有効です。...
メーカー・取り扱い企業： テクノクオーツ株式会社
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低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解…
験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社
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ニーズに合わせたラインアップ！成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置
大村技研では、お客様のニーズに合わせて、成膜装置や ランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。 縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。 【特長】 ■ニーズに合わせた設計・製作 ■成膜装置やランプ加熱によるアニール装置 ■多様なライ...
メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社
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ベッカー社 ウルトラダイヤモンド素材切削工具総合カタログ
多結晶CVDダイヤモンド（フィルム状0.8mm～1.8mmの厚み）を切削工具用として開発、ベッカー社（ドイツ）『ウルトラダイヤモンド素材切削工具総合カタログ』。 材種としては、単結晶ソリッドダイヤモンド「M...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノア
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炭化ケイ素の化学蒸着 市場概要
CVD炭化ケイ素は、化学気相成長（CVD）プロセスによって製造される炭化ケイ素材料である。CVD炭化ケイ素材料は、優れた熱的、電気的、化学的特性のユニークな組み合わせを持っており、高性能材料を必要とする半導体産業の用途に理想的に適している。 QYResearchが発行した最新市場調査レポート「炭化ケイ素の化学蒸着の世界市場レポート 2023-2029年」によると、CVD SiCの世界市場規模は2029...
メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research
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どこよりも早く『電圧降下（F47/F42）試験』に対応し、対策からレポ…
内において設備の故障や大きな負荷の変動により、AC供給電源が突然の電圧降下（半サイクルから数秒）を起こした状態をシュミレートし、その場合の被試験装置の耐性を評価する試験を行います。 エッチャー、CVD、CMP、洗浄機、排ガス処理装置、ステッパー、イオン注入装置、自動検査装置等のプロセス装置全てが対象で、電源容量の大きい装置にも対応しています。 さらに、対策からレポート作成までフルサポートいた...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社キューセス
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精度：±0.005 ℃ 、分解能：0.0001℃、温度レンジ：-200…
。 ＜基本仕様＞ ・精 度：±0.005℃フルレンジ(４線式白金測温抵抗体) ±0.03℃フルレンジ（３線式白金測温抵抗体) ・ITS90、EN60751(DIN90)、CVD(カレンダーバンドゥーセン)温度係数（Pt)に対応 ・計測範囲：-200～962℃(Pt)/-210～1820℃(TC)/0～500kΩ(サーミスタ) ・分解能：0.0001℃/0.00001...
メーカー・取り扱い企業： ビカ・ジャパン株式会社
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大好評につき改訂版を発刊!新たな執筆者を加え、最新の大気圧プラズマ技術…
による 新しい生体防御理論構築と,ヘルスバイオサイエンスへの経済学的考察 第4 章 大気圧プラズマによる表面改質と洗浄 第5 章 大気圧プラズマによる膜形成 第1 節 大気圧プラズマCVD によるシリコン薄膜の形成 第2 節 大気圧プラズマCVD による酸化物堆積(※) 第3 節 大気圧プラズマCVD による高ガスバリア性炭素膜の合成 第6 章 エッチング・加工技術 第...
メーカー・取り扱い企業： S&T出版株式会社
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『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中
除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見！ 高温…
ITZグループの一員である当社は、⽇々進化するエレクトロニクス産業おいてタイムリーな提案こそがお客様にとっての価値と考え、新製品開発とサービス向上に取り組み、お客様と共に成⻑を⽬指します。 CVDやMOCVDの後段、除害装置の前段での副生成物の堆積に起因するトラブルにお悩みではないでしょうか。 KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー
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ホットフィラメント（ホットワイヤー）を搭載したコンパクトな卓上型CVD…
試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種（ラジカル）が試料表面に堆積して膜を形成します。...【特徴】 ○メタンなどの炭化水素ガスの高温フィラメント分解により、 導電性と耐食性が両立するダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜が作製可能。 ○窒素前駆体をフィラメント加熱機構により加熱分解させることによって、アンモニ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ
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簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEとして使用可。ご要望に応じて…
お使いいただける、誘導結合プラズマによる成膜装置です。 十数分の時間でハードウエアを交換し、誘導結合プラズマエッチング装置 として使用する事が可能。 現場でのハードウエアの交換で、CVD及びRIEとして使用できる為、 導入コストを抑える事が出来ます。 【特長】 ■簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEとして使用可 ■グラフィックインターフェイスで操作が簡単 ■ご...
メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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