• 絶対寸法フィルター 製品画像

    絶対寸法フィルター

    PR医療分野や産業分野など広い分野で使用!より高精度なフィルターとして位置…

    当社では、フィルター内の全開孔サイズを「絶対に正確な寸法で形成されて いることを保証する」という「絶対寸法フィルター」を取り扱っております。 X線を用いた高精度なフォトリソグラフィ及び電鋳加工技術を駆使し、 全孔の開孔寸法をφD±0.3μmという超高精度で製作。 また、粒子への傷防止や目詰まり低減を目的とした加工(R/テーパー加工) や、CTC(血中癌細胞)補足用の特殊孔形状の加...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプトニクス精密

  • 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • 多種金属対応 プログラマブルスパッタコーター 製品画像

    多種金属対応 プログラマブルスパッタコーター

    Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

    QUICK COATER SC-701HMC IIは、Ni、Cr、W、Ti、Al等、多種金属対応のハイスペックモデルです。 ソフトウェア制御で高精度コントロールが可能。各種金属の薄膜作製を手軽に行なえます。 【特徴】 〇プログラマブルスパッタコー...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』 製品画像

    L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

    半導体、プリント基板、表面処理に!高い密着力を実現する室温スパッタ装置

    酸・無電解めっきからの置換)などの用途に適しています。 【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生産性 ○膜種例:Ti、Cu、Al、ITO、IZO、SiN、SiO3、Al2O3、Ni、etc. 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーマプレシジョン

  • 卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』 製品画像

    卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

    初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能!研究ステージに合せてグレー…

    <FDS-1C-160R Sputtering System> ■スパッタ電源:DC500V/0.8A ■カソード:φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット:Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/etc. ■真空排気系:ロータリーポンプ 162L/min ■真空計:ピラニゲージ ■ガス流量調整:アルゴン用MFC 20sccm ※詳しくはPDF資...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社FKDファクトリ

  • 多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』 製品画像

    多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

    放電操作が容易!RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

    60T Sputtering System> ■スパッタ電源:RF300W×2台 オートマッチング仕様 ■カソード:φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット:Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/各種酸化物/各種窒化物 ■真空排気系:ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ ■真空計:フルレンジゲージ ■ガス流量調整:アルゴン用MFC 50sccm ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社FKDファクトリ

  • R&D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中 製品画像

    R&D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中

    「サンプル作業時間が1/3になった!」。コンパクト設計で自動化も推進。…

    ・多元同時/多積層膜スパッタ成膜 基板中心を各カソードが狙う構造のため、多元同時スパッタが可能。 シャッタコントロールにより積層膜が作成可能。 ・磁性体薄膜に対応 各種磁性体材料(Fe,Ni,Co等)にも対応するカソード。 ・LTSの採用 LTS(※1)の採用でカソード近傍の不均一プラズマの基板への影響とカソードマグネットの磁場の影響を最小限に抑制。 注)※1:LTS:Lon...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.

  • 研究開発用スパッタリング装置 製品画像

    研究開発用スパッタリング装置

    高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

    ・誘電体膜ほか  SiN, SiO2, ZrO, TiO2, 重合膜 ・透明導電膜  ITO, ZnO ・金属膜ほか  Au, Ag, Cu, Si, Ti, Sn, Cr, Al, Ni, DLC, 電磁波シールド...

    メーカー・取り扱い企業: 芝浦メカトロニクス株式会社

  • 割れない!削らない!低コストな『スパッタリングターゲット』 製品画像

    割れない!削らない!低コストな『スパッタリングターゲット』

    酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能!熱…

    客様のご要望により各種分析も実施可能です。 【対応可能材質】 金属材料:Si、Nb、Ti、Cr、Ta、Al… 酸化物 :SiO2、Ta2O5、Al2O3、ITO… 合金材料:Cu+Ag、Ni+Cr、Ti+Cl… ※製造工程の紹介資料も進呈しております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: USTRON株式会社

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