小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

絶対寸法フィルター

PR医療分野や産業分野など広い分野で使用！より高精度なフィルターとして位置…

当社では、フィルター内の全開孔サイズを「絶対に正確な寸法で形成されて いることを保証する」という「絶対寸法フィルター」を取り扱っております。 X線を用いた高精度なフォトリソグラフィ及び電鋳加工技術を駆使し、 全孔の開孔寸法をφD±0.3μmという超高精度で製作。 また、粒子への傷防止や目詰まり低減を目的とした加工(R/テーパー加工) や、CTC(血中癌細胞)補足用の特殊孔形状の加...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトニクス精密

大型樹脂基板用蒸着装置

成膜前の高周波プラズマによる放電洗浄により、樹脂基板に対して高い密着力

『大型樹脂基板用蒸着装置』は、自動車の外装品の大型樹脂成形品への 薄膜形成を目的とした大型蒸着装置です。 複数の電子銃蒸発源を装備し、Al、Cu、Niなどの金属膜を長さ1mの 大型樹脂基板へ低温での高速成膜が可能。 自動車部品だけでなく電子機器への電磁波シールドにも実績を持っており、 大型チャンバ（φ2000）、電子銃蒸発源、大型排気系...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

【その他の特長】 ■抵抗加熱蒸発源 ・Niメッキされた銅電極により酸化抑制工具不要で蒸着ボートの交換作業容易 ・ボート以外にフィラメントの装着も可能 ■基板保持機構 ・Φ70の試料ステージは上蓋をハッチ式のチャンバ上蓋に設置してある為...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

薄膜形成

薄膜形成

ッキ・ゾルゲル法を用いた加工対応ができます。 光学・電子部品などを製作する際に応用する技術であり、使用目的・ 手段に合わせて膜選択や膜設計も致します。 〔薄膜種類〕 電極用：Cr・Al・Ni・Cu・Ti・Au・Pt・Pd・Ta・Mo・ITO等 光学用：ＡＲコート（単層・マルチ）、各種反射ミラー、光学フィルター　等 厚膜形成に付きましては電解メッキ・無電解メッキ加工・印刷加工が可...

メーカー・取り扱い企業： 豊和産業株式会社

卓上型蒸着装置『Mebius』

卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

【性能】 ■受注後納期：概ね2.5ヶ月 ■抵抗ボート：タングステンで2700℃程度までの昇温可能 ■入力最大電流：ボートで120A時にAC100V11A程度(実績) ■蒸発可能な物質：Ni(2017年11月現在) ■ボートサイズ：幅6～10mm／厚み0.2～0.15mm 性能詳細についてはお問い合わせでご連絡を頂いた際にご相談とさせて下さい。 ※詳しくはPDFをダウンロ...

メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社

超高真空対応小型電子ビーム蒸着源 「KME-70」

シンプルな設計となっており、研究開発用途におすすめな製品です。

【仕様】 ○取付フランジ　ICF-70 ○試料印加電圧　1.5kV～2kV（標準） ○蒸着可能な材料例　Fe, Co, Ni, Nb, Pt ○材料移動調整距離　25mm ○ベーキング温度　200℃ ○シャッター駆動　回転（手動） ○T-S間距離　150mm（標準） ○参考蒸着レート　0.5Å/s 　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

立体形状への成膜加工

平面モノだけでなく、立体モノへの成膜もできます！ご希望の成膜箇所をお聞…

■対応膜種 　金属膜：Al、Au、Ag、Cu、Ni、Cr、Mg、B、Ti、Zr、Nb、Mo、Pd、In、Si、Ta、W、Sn、Pt　など 　積層膜：Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr　など 　酸化膜：A...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社