【技術資料】焼成依頼前に必読！材料ごとの適切な炉×温度の対応範囲

PR【研究・開発・OEM向け】焼成依頼前に知っておくと便利な《炉の設備×温…

焼成依頼に役立つ『炉×温度×材料の対応範囲』について紹介した本資料は、「大気焼成炉の対応温度とその実績」や「雰囲気焼成炉の対応温度とその実績」、「所有炉の対応温度」などを図を使いながら分かりやすく紹介した資料です。 【掲載内容】 ■よくあるお悩み事 ■加工実績例 ■大気焼成炉の対応温度及び実績分野 ■雰囲気焼成炉の対応温度及び実績分野 ■所有炉の対応温度 ■分野別の焼成温度域 ■受託加工フロー ...

メーカー・取り扱い企業： 新興窯業株式会社 工場

独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

窒化法『S.P.N.法』

処理による肌荒れが少なく鏡面仕上げ品・シボ加工面等にも安心して適用可能

『S.P.N.法』は、従来のプラズマ電源を用いるイオン窒化法と異なる プラズマエネルギーを利用した鋼の窒化法です。 処理物の表面肌を荒らすことが少なく、合金鋼の場合に欠点とされる 化合物層の発生を抑えることができるため、従来法に比べ「寸法変化」 「脆さ」の低減等の特徴を有します。 【特長】 ■ステンレス鋼をはじめほとんどの鋼種に窒化が可能 ■スリット加工品に対しても安定グロー...

メーカー・取り扱い企業： 山崎化学エイチ・ティ株式会社

卓上型／スタンドアローン 大気圧プラズマ装置

シンプルな卓上型の大気圧プラズマ装置やダイレクト方式の装置など豊富に掲…

当社取り扱いの『卓上型／スタンドアローン 大気圧プラズマ装置』を ご紹介します。 前後スライドステージによるシンプルな卓上型の大気圧プラズマ装置 「MyPLシリーズ」をはじめ、スタンドアローンタイプの「ILPシリーズ」や キャリアガスに不活性のアルゴンを使用したダイレクト方式のプラズマ装置、 アルゴンガスを使用した大気圧プラズマのヘッドユニット「MDシリーズ」 などを取り扱っており...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イトー

プラズマ窒化処理（イオン窒化処理）

真空中でプラズマエネルギーを利用した環境重視の窒化処理についてのご紹介…

朝日熱処理工業株式会社では、真空中でプラズマエネルギーを利用した 環境重視の窒化処理を行っております。 真空炉中、炉壁と処理品との間で直流電圧をかけると、グロー放電が発生。 グロー放電を起こすための反応ガスとして、水素とガスを使用しています。 励起したプラズマ中に、窒化反応ガスとして窒素ガスを導入すると、 窒素原子は、同様に励起してN+のイオンに変わります。 このN+イオン...

メーカー・取り扱い企業： 朝日熱処理工業株式会社

プラズマガン『SG-100』

緻密で溶射効率のよい皮膜が得られる！新設計のノズル電極により長寿命化を…

＜コントロールコンソール「3710/3620」＞ ■使用ガス：Ar、Ar+He、Ar+H2、Ar+N2 ■制御範囲 　・電流：150～1200A 　・ガス：Ar 30-200L/min、He 7-43L/min ＜パウダーフィダー 「1264」＞ ■回転速度：0.5～25rpm ■粉末供給量：5～225g/min ■供給精度：±1% ■ホッパー容量：3360cc...

メーカー・取り扱い企業： ユテクジャパン株式会社

大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」

従来比50％の性能UP！低N2消費（約45％削減）の大気圧プラズマ装置

大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」は、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。 これによりワークへのダメージを与えない状態で連続処理が可能になりました。 また、ワークが帯電した状態でも除電され、処理後の気中のパーティクル付着もありません。 【特徴】 ○低温処理 ○ダメージフリー ○ES...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

『TP-50B』は、電波法による設置許可申請も不要の50Ｗ型で、操作も簡単、気軽にプラズマ加工が行える卓上プラズマエッチング装置です。 独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能で、半導体故障解析用試料の前処理（配線の露出）から、各種プラズマ加工に幅広く対応致します。 また小型のため、スペースの限られた研究室で活躍します。 【特長】 ■卓上サイズでコンパクト ■局所的なプラズ...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

ダメージレスで接着性＆濡れ性向上！大気圧広幅低温プラズマ処理機

デモ機有り！　初回は無償でサンプル作成いたします。 安価なガスで低温…

表面処理機でお困りの方は是非お声掛けください。 プラズマ処理機、コロナ処理機、フレーム処理機、各種処理装置を取り揃えております。 アクシス社の大気圧プラズマは樹脂、ガラスや金属などへの接着性、密着性、親水性、印刷性の向上、コーティング、塗装、接着、密着の前処理、有機物の除去や洗浄などのクリーニングとしても有効です。 金属、ガラス、樹脂の表面活性なら是非お試しください。 弊社にて濡れ性の確認...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

プラズマ処理装置　WLP600S

6インチと8インチのウエハーに対応！平行平板方式のプラズマ処理装置

WLP600Sは、平行平板方式のプラズマ処理装置です。 6インチと8インチのウエハーに対応し、低価格・省スペースを実現しました。 コントロール・パネル上の操作のみでDP（ダイレクトプラズマ）モードとRIE（リアクティブイオンエッチング）モードの2種類のプラズマ方式を切り替えられ、ポリイミド系樹脂のエッチングやフォトレジストの表面改質など多様な用途にご利用頂けます。 【特徴】 ○容易なプ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エスクラフト

５G向けフッ素樹脂への直接めっきや接着剤レス接合をプラズマで実現

フッ素樹脂をはじめとする難接着材料への直接めっきや異種材料の接着剤レス…

当社の表面改質技術は、特殊な減圧プラズマ状態で基材表面に官能基を強固に付与しすることで様々な機能を持たせることができます。 特に接着・密着性向上の面では、5G向け回路基板製作に必要な「フッ素樹脂への直接銅めっき」や「接着剤レスによる接合」を実現。 接着材レス接合はフッ素樹脂と銅、異なるフッ素樹脂同士などを接着剤を使用せずに貼り合わせ、10N/cm以上の密着性を得ることが出来ております。 減圧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

粉末用イオン注入装置

IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。 粉体へのイオン注入…

特徴 ･多種のガスが使用可能（Ar, He, N2, O2, SiH4, 混合ガス） ･装置はレシピで動作可能 ･PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。 プロセスの利点 低温表面処理：元の材料特性が保持されます。 コーティング不要：イオンが深部までで注入されるため、表面は剥がれません。 部品の形状を尊重：追加の加...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

大気圧プラズマ装置による5G向けプリン基板、FCCL向け

伝送ロスを低減するダイレクト接着技術・無電解メッキ前処理に！

大気圧プラズマ装置を利用した５G・６G向けプリント基板やFCCL製造プロセスに寄与します。 弊社の『Precise』はプラズマ発生部を処理部と分離されているため（ダウンストリーム型）、 処理方面にダメージを与えずに、分子結合を主体に表面に官能基・水酸基を付与することで、 液晶ポリマー（LCP）やフッ素樹脂へ、滑らかな表面のまま、ダイレクトに接着が可能です。 弊社プラズマ処理における接着・接合は分...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

フイルム表面処理用ロールダイレクトプラズマ装置『RD』

光学フイルム分野に好適！高い均一性とフィルムダメージレス（パーティクル…

『RD』は、既設の製造ラインへの設置が容易な、フイルム表面処理用 ロールダイレクトプラズマ装置です。 高い均一性とフィルムダメージレス（パーティクル発生無し）を実現。 100m/min以上の速度でも実績があります。 また、1ヘッドタイプ or 3ヘッドタイプの豊富なラインアップがございます。 【特長】 ■グロー放電処理 ■高い処理性能 ■真空不要の常圧プロセス ■...

メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部

プラズマCVD装置『PEGASUS』

低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性！

0mm×D2000mm×2000mm ■プラズマソース：ICP、RFバイアス ■ガス種：SiH4、O2、N2、HMDSO、NF3 ■ウエハサイズ：～φ12インチ（FOUP対応） ■成膜速度：～300nm/min ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社セルバック

大気圧リモートプラズマ装置『RT』

低温処理＆電界遮蔽構造でダメージレス！LCD工場を始め数多くの生産工程…

『RT』は、低温処理＆電界遮蔽構造の大気圧リモートプラズマ装置です。 高速（10m/min)処理で10°以下を達成（LCD向けガラス基板の処理）。 160～3400mm巾まで対応の豊富なラインアップをご用意しています。 LCD分野では、ガラス表面の濡れ性改善、wet洗浄効果の向上...

メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部

大気圧プラズマ装置『小型実験機タイプ』

小片基板の濡れ性改善、密着性向上、表面改質に！実験用途に特化した大気圧…

『小型実験機タイプ』は、A4サイズ程度までの枚葉処理に対応する 大気圧プラズマ装置です。 リモート処理、ダイレクト処理どちらも使用可能。 実験用途に特化しており、扱いやすい半自動タイプです。 小片基板の濡れ性改善、密着性向上、表面改質などにご使用いただけます。 【特長】 ■小型装置 ■様々な処理に対応 ■実験用途に特化 ■対応サイズ：～A4（A4以上のサイズは別途ご相...

メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部

大気圧プラズマ処理装置　Arc Jet式

アジア有力企業において多数の実績あり。

ーク表面の有機物除去 【特徴】 ■処理幅の狭い面積に最適: 10/20/35mm　 ■ロボット機構との組み合わせにより立体物への処理が可能 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, Ar,O2,等 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

大気圧プラズマ処理装置　ダイレクト式

アジア有力企業において多数の実績あり。

表面の有機物除去 【特徴】 ■幅広対応: ～2,250mm ■優れた表面改質性能 ■物理的、化学的に処理が可能 ■メンテナンスフリー ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, Ar, O2等 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

大気圧プラズマ処理装置　リモート式

アジア有力企業において多数の実績あり。

特徴】 ■電子・イオンのアタックがなくラジカルのみでの化学的な処理のため処理膜へのダメージを低減 ■電極形成後の導電フィルム・ガラスの処理に最適 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, O2,Ar等 詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク