小型触媒式脱臭装置【運搬可能なテスト機あります】

PRキャスター付きで移動できる小型触媒式脱臭装置！触媒式だからこそ、フィル…

トルエン、キシレン、酢酸エチル等のVOC（揮発性有機化合物）ガスや悪臭を含んだ排気ガスを、 酸化分解処理することによりVOCの除去や脱臭を行う『小型触媒式脱臭装置』です。 局所排気や一時使用を可能にするため、軽量・コンパクト化を実現し、 キャスターを付けることで必要な場所へ移動させて使用できる、可搬式脱臭を可能とした装置です。 【特徴】 ・処理風量 1Nm3/min、3Nm3/min、 5Nm3...

メーカー・取り扱い企業： TESSHA株式会社

無料で！レーザ樹脂溶着テストを実施中です。

PRレーザ溶着はそんなに難しくない！溶着テストについて紹介した資料を進呈中…

当社常設のラボで、溶着実験可能です。 樹脂プレート(平板)をご準備頂けましたら、無料で溶着実験を承っています。 また、下記ファシリティを用いた、溶着結果の評価も可能です。 ・マイクロスコープ（ライカ社製） ・強度試験機（自動） ・簡易工作機（切断／穴あけ） ・リークテスト 本体のみの見学やデモンストレーションも、お気軽にお問い合わせください。 ※お手数ですが、御来社に際しては、事前...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社広島

フォトレジストの研究開発用露光ツール　

フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

フォトレジストの研究開発用露光ツール！ フォトプロセス解析用露光装置シリーズ ■□■ラインナップ■□■ ■UVES-2000（g/h/i/248nmおよびブロード光対応解析露光装置） ■UVES-2500 （g/h/i/248nmおよびブロード光対応レジスト感度評価露光装置） ■ArFES-3500LP（193nm対応解析露光装置） ■...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

□10mm/25ショット 　　　　　　　　□5mm/100ショット ○レジスト透過率測定機能搭載 ○アウトガス捕集、自動搬送 【その他の特徴】 ○UVES-2000（g/h/i/248nmおよびブロード光対応解析露光装置） →高圧水銀ランプを搭載し、フィルタにより436、405、365、248nmの光を取り出し、露光することが可能です。 ○UVES-2500（g/h/i/248...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズ

フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。

シリーズはPEB及び248mm露光によるin-situ反応解析、脱保護反応パラメータ算出機能。FT-IR室内にベークプレートを配置し、加熱し ながら官能基の変化を観察で来ます。また、紫外線(248nm)照射装置も搭載されており、露光中における酸発生のメカニズムなどの解析にも利用できます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

露光解析ツール　位相シフト･フォーカス･モニタ

±25nm3σ以内の高精度。フォーカス･マトリクスが不要です。

露光解析ツール　位相シフト･フォーカス･モニタは±25nm3σ以内の高精度。フォーカス･マトリクスが不要です。既存のオーバーレイ計測器でフォーカス測定ができます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000

EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置

レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行えます。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

フォトプロセス解析露光装置　ES-3500LP

ウシオ電機社製エキシマランプを搭載。193nm対応解析露光装置。

フォトプロセス解析露光装置　ES-3500LPはVUVES-4500で用いているレーザー光源の代わりに、ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。レーザー光源のような、 大がかりなガス供給システムを必要とせず、場所を選ばず設置可能。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○g/h/i/248mm及びブロード光対応 ○露光エリア□10mm/25ショット 　...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社