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28件 - メーカー・取り扱い企業
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レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…
N、LT、LN等小口径化合物基板向けにコンパクトな装置も取り扱っております。 開放・密閉兼用のカップ構造により、高粘度〜低粘度まで幅広いレジストに対応いたします。 【主な仕様例】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組/CUP ■エッジ・バックリンス:各1組/CUP ■ベークユニット:2組(Max2...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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UV-LED光源!半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー
光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、…
【主な仕様】 ■マスクサイズ:□3"~□7" ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ6", 角基板 □2"~4" ■カセットステージ:2組 ■センタリングユニット オリフラ自動位置合わせ機能付き:1組 ■露光光源:i線LED光源(500W相当) ■オートアライメント機能搭載(FAST社製) ■装置サイズ:(例)...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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自動レジスト現像装置(枚葉式) デベロッパー Developer
枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン現像ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■現像ノズル:1組/CUP ■リンスノズル:1組/CUP ■ベークユニット:4組(Max200℃) ■クー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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~10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピン…
【主な仕様例】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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半自動リフトオフ装置(セミオートリフトオフ機)Lift-off
自動機よりも安く、マニュアル装置より使いやすいセミオートタイプのリフト…
ウェハ(基板)をセットするだけで自動で搬送・リフトオフ・リンスを行う装置です。 リフトオフはASAP特殊ノズルによる高圧ジェットによりバリも除去し、メタル剥離を行います。 カセット(キャリア)でセットをすることはできませんが、マニュアルと違いウェハ1枚1枚を自動搬送するので、偏心や位置ズレの心配がありません! ドライイン・ドライアウトで処理に関して作業者に薬液の付着の...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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ロール・スプレーコーターの置き換え!回転カップ式レジスト塗布装置
多彩な薬液に実績あり!低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置(フルオートリソグラフィ)
レジスト塗布~露光~現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォ…
【主な仕様例】 ■カセットステージ:1組 ■スピン塗布ユニット:1組 ■スピン現像ユニット:1組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ6"、□4インチも可 ■レジスト滴下ノズル:1組 ■バック・エッジリンス:1組/塗布CU...
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厚さ100um!極薄ウェーハ搬送自動レジスト塗布装置 コーター
GaAs、LT、ガラスなどの脆くて薄いウェーハでの搬送・塗布での実績(…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー(塗布・現像)
段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度~高粘度レジス…
【主な仕様例】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:1組 ■スピン現像ユニット:1組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:1組 ■バック・エッジリンス:1組/塗布CUP ■現像ノ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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段取り替えなし!複数ウエハサイズ兼用自動レジスト塗布装置コーター
現状のウエハサイズと将来的に使用したいウエハサイズを兼用した装置を作製…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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両面プロセスに最適!両面自動フォトレジスト塗布装置 コーター
ウェハ反転ユニットを使うことでウェハの両面塗布を自動で行えます!
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組 ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:1組 ■センタ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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反りウェハも搬送!ベルト搬送式自動レジスト塗布装置(コーター)
ベルト搬送タイプのトラックシステムスピンコーターです。高スループットで…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:1組/CUP ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クーリングユニット:2組 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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ベルト搬送方式によるウエハ表面、裏面を同時に露光可能な装置です。 f…
【主な仕様】 ■マスクサイズ:□5"~□7" ■ウエハサイズ:Φ4"~Φ6" ■カセットステージ:ローダー、アンローダー各2組 ■センタリングユニット オリフラ自動位置合わせ機能付き:1組 ■露光光源:超高圧水銀灯(250W,500W) UV-LED光源も対応可能 ■装置サイズ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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逆テーパー角を一定に!PEB対応レジスト現像装置(デベロッパー)
逆テーパー角度を一定に!ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン現像ユニット:2組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■現像ノズル:1組/CUP ■リンスノズル:1組/CUP ■ベークユニット:2組(Max200℃) ■クー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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MAX400℃!高温ベーク対応レジスト塗布装置(スピンコーター)
BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能!高温ベ…
【主な仕様】 ■カセットステージ:2組 ■スピン塗布ユニット:1組 ■ウエハサイズ:Φ2"~Φ12" ■レジスト滴下ノズル:2組/CUP ■バック・エッジリンス:各1組/CUP ■高温ベークユニット:1組(Ma...
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