液体ろ過用 フィルターバッグ【シンプル・コンパクト・大流量】

PR幅広い用途に合わせたフィルターバッグを選択可能です。また様々なハウジン…

『FALA フィルターバッグ』は、多種類のろ材、ろ過精度、サイズの中から適したフィルターバッグをご提供できます。 高捕集グレードや油分吸着機能を持つフィルターバッグもあります。 また、様々なバッグフィルターハウジングに互換性があるフィルターバッグも取り揃えておりますので、ランニングコストや納期などでお困りごとがありましたら、是非一度ご検討ください。 ■フィルターバッグろ材材質 表面ろ過 ・ナイ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カジカコーポレーション

組込用小型高圧ポンプ　FSBL-50

PR電気を使用しないエア駆動式。防火・防爆地区に適応します。 発売以来8年…

『FSBL-50』は純水、IPA、NMPなどの流体を高圧に送り出して、 ウエハーなどの洗浄対象に噴射して膜を除去する目的の装置に組み込まれるポンプです。 接液部の材質はSUS316、逆止弁は新開発のポペット弁により長寿命で金属粉の発生がありません。 また、昇圧部のシール材はフッ素系高分子ポリエチレンを標準採用、NMPなど有機溶剤系仕様としてカルレッツも対応可です。 【特長】 ■コ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

高周波RF電源・高効率パルスRF電源

高効率高周波電源【ローコスト・省電力・コンパクト設計】600W以上の耐…

【13.56MHｚ　1ｋW/3kW/5kW（パルス）】 NRFが新しく開発した高効率高周波電源【NR1NP】【NR3NP】【NR5NP】は、従来製の高効率RF電源と比較し、独自の高信頼性パワーアンプにより、飛躍的に耐久性をUPさせました。 高効率アンプの弱点は、構造上、反射電力に弱いことでしたが、、NRFの高効率RF電源は、出力3kWに対して、実に600W以上の耐反射能力を持ち、短絡・...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダRFテクノロジーズ 営業本部

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性 　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

『730シリーズ』は、コンパクトサイズ・ローコスト・高精度を実現した セトラシステムズ社の真空センサです。静電容量の変化を検知して、 リニアな直流電圧信号に変換し出力します。 温度補償範囲が広く耐圧性能に優れるため、様々...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4-O3もオプション対応が可能な装置です。 【特長】 ■フェイスダウンポジション ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

高濾過精度オールメタルガスフィルター

コンパクトサイズでより高流量のガスを処理

ピュアロンジャパン製 ガスフィルターです。 全ての材質にＳＵＳ３１６Ｌを使用。高流量・高差圧下においても０.００３μｍ以上の粒子を高い効率で除去致します。従来品と比較し圧力損失が極めて低く、コンパクトサイズでより高流量のガスを処理できます。１０Ｌ/ｍｉｎ程度の少流量から２５０Ｌ/ｍｉｎ程度の中流量までの幅広いラインナップをご用意しております。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積：48x48cm 基板サイズ： 最大4インチ プレカーサー材料：５系統 方式：ホットウォール...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。 米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ハステロイオールメタルガスフィルター

全ての材質にハステロイを使用

ｍ以上の粒子を高い効率で除去します。１０Ｌ/ｍｉｎ程度の少流量から２５０Ｌ/ｍｉｎ程度の中流量まで幅広いラインナップをご用意しております。従来のメタルフィルターと比較して圧力損失が極めて低く、コンパクトサイズでより高流量のガスを処理できます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ