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    薄くて軽い! ケイドン「超薄型ボールベアリング」

    PRわずか4.76mmの断面寸法を実現。省スペース・軽量化により、設計自由…

    ケイドンの『超薄型ボールベアリング』は断面寸法が小さく、省スペース化と軽量化を実現しており、設計の自由度が向上します。 内径は25.4~1016mm、断面寸法は4.76~25.4mmまで幅広くラインアップ。 4点接触型、アンギュラコンタクト型、深溝型があり、特殊環境での使用も可能です。 【特長】 ■専門メーカーとして量産体制を確立しており、短納期にも対応 ■ボールベアリングのため...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社木村洋行

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    柔軟性・高放熱性 液状エポキシ樹脂シリーズ(常温硬化・加熱硬化)

    PR1~2.8W/m・Kまでの高放熱性(高熱伝導率)樹脂に柔軟性を付与しま…

    近年、部品の小型化・高集積化に伴い、絶縁材料としても放熱性エポキシ樹脂が求められる中で 応力緩和も必要とされており、そのニーズにお応えすべく柔軟性放熱樹脂シリーズを開発致しました。 低粘度で作業性も良く、1~2.8W/m・Kの放熱性を持った製品シリーズとなっております。 従来の加熱硬化タイプに加え、環境にも優しい常温硬化タイプも取り揃えております。 いずれも2液性です。 非柔軟性...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社寺田

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    レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

    高速高解像度レーザー露光装置

    『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、B...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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    高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

    高速パターン・ジェネレータ

    『VPG+シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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    露光用 ランプシリーズ

    光源と光学系技術の開発・応用力の粋を集めた各種ランプのご案内です。

    ランプメーカーとして、光源と光学系技術の開発・応用力の粋を集めた超高圧水銀ランプ、クセノンショートアークランプ、DEEP UV ランプ、メタルハライドランプ(GLシリーズ)、低圧水銀ランプ、毛細管型高圧水銀ランプ、ハロゲンランプは、露光分野でも高く評価されています。...

    メーカー・取り扱い企業: ウシオライティング株式会社

  • i線ステッパー露光装置 製品画像

    i線ステッパー露光装置

    Canon製FPA3000/Nikon製NSRのサービスを行っておりま…

    i線ステッパーであるFPA3000シリーズは、標準的なシリコンウェハ量産機としての実績に加え、 化合物ウェハの特長である反りや重さに対する対応力が高く、その分野でも広く支持されています。 弊社では適正在庫の保持に尽力し、現像機・顕微鏡・CDSEMを備えたデモ環境を整えております。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ ウェハサイズ変更 ■ レチクルサイズ変更 ■ レチクルチェンジ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社インターテック販売 東京本社(拠点-関西営業所、熊本営業所)

  • 低振動5相ステッピングドライバー 製品画像

    低振動5相ステッピングドライバー

    1軸から3軸一体型までの低振動型ステッピングドライバー

    KPROSシリーズはとにかく振動を抑制して位置決めされたい場合、そして何より超低コストを希望されるユーザー。今までに体験されたことの無い低振動の位置決め技術をご体験下さい。...KPROSシリーズは業界常識やぶりの低コストで1軸から3軸ワンボードまで取り揃えております。そしてステッピングの振動領域を特殊技術により抑制し共振領域も消えます。ステッピングドライバの革命です。是非1度お試し下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケー・プロジェット

  • 半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ 製品画像

    半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

    高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

    『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...【基本性能】 ■最小図形寸法: 500nm ■描画速度: 580mm2/分(FXモード時)、325mm2/分(QXモード) ■ラインエッジラフネス:20nm(QXモード) ■CD均一性:30...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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    6-Dメカニカルステージ

    6-Dクオリティで最高級のメカニカルステージ

    ALIO社は2001年に設立以来、一貫して、Nanoにこだわって、 ステージを製造してまいりました。クロスローラーガイド、エア ベアリング、リニアモーター、PZTモーター等、アプリケーション に最適のステージを250種以上のスタンダードステージより組み 合わせて提供します。...Hybrid Hexapodシリーズ ・可動軸:XーYーZーΘーTilt XーTilt Yの自由曲線 ・X-...

    メーカー・取り扱い企業: オーテックス株式会社

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    集積化ガスシステム対応ガスフィルター

    高濾過精度

    半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製集積化ガスシステム対応ガスフィルターです。...【特徴】 ○高濾過精度で定評のあるセラミックスエレメントタイプ(0.003μm)と、メタルエレメントタイプ(0.003μm)があります。 ○Cシール/H1Gシール/Wシールに対応しています。(Cシール/Wシールは1.125インチタイプも対応しています) ○数LPMの少流量から120L...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ピー・ジェイ

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