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【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…
『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社
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中小規模の生産に最適な卓上小型鋳造機
鋳造条件をメモリーできるタッチパネル搭載の低価格デジタル鋳造機。 大型鋳造機のバックアップや小ロット生産用のセカンドマシーンとしても最適です。 ■回転式の加圧鋳造機■ チャンバー内のルツボに必要量の地金を入れて真空又は不活性ガス溶解を開始。鋳造はルツボと鋳型の入ったチャンバー自体を回転させて加圧鋳造を行います。 ■圧力0.3MPaでパワフル鋳造■ 最大0.3MPaの鋳造圧力でパワ...
メーカー・取り扱い企業： 吉田キャスト工業株式会社
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低真空環境での加熱工程を簡易に・安価に実現！
PH222は、真空チャンバータイプのホットプレートです。最高温度400℃タイプ（加熱条件により、水冷が必要です）。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布は±2.0％、プログラム式温度コントローラー（別売）により、温度プログラム設定が可能です。 真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくは...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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新型コロナウィルスで不足するN95マスク再利用の滅菌をサポート、アメリ…
シェルラブのSMO5-M強制循環式オーブンは、アメリカ国立衛生研究所が発表したN95マスクのフィルター機能を維持した滅菌方法（70℃×60分の乾熱サイクル）を、強制循環による安定した温度分布の維持により実現しています。（再利用目安：2回/同研究所調べ） ■安定した温度分布でムラなく加熱 ■立ち上がりが早い加熱 ■取り出し時の接触回数を抑えられるスライド棚 ■棚は0.5インチ（12.7mm）...
メーカー・取り扱い企業： 東栄株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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＜電気炉＞RHF -シリコンカーバイドヒーター式高温チャンバー炉
RHFシリーズは、シリコンカーバイド製ヒーターを使用したチャンバー炉で…
RHFシリーズは、シリコンカーバイド製ヒーターを使用したチャンバー炉で、４種の炉内容積と最高使用温度1400℃、1500℃、1600℃の3種の組合せ（合計１２機種）から選択可能です。 堅牢な作りと高速昇温（1400℃到達時間が40分以内）を可能にする高性能ヒーター素子、そして長寿命が特徴です。...標準仕様 常用温度1300℃（最高温度1400℃）、常用温度1400℃（最高温度1500℃）...
メーカー・取り扱い企業： ヴァーダー・サイエンティフィック株式会社
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CWFシリーズは卓上タイプの研究用汎用チャンバー炉です。最高温度130…
CWFシリーズは卓上タイプの研究用汎用チャンバー炉です。最高温度1300℃で、5種類のサイズからお選びいただけます。 CWF-Bではドアに設けられた取り込み口から空気が流入し、煙突が排ガス等を速やかに排気することでサンプルの焼灼を促進します。 CWF-BALは重量計を内蔵しており、加熱中の重量変化変化をモニタリングする必要がある、熱重量測定（TGA）や強熱減量試験（LOI)に最適です。...
メーカー・取り扱い企業： ヴァーダー・サイエンティフィック株式会社
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ELFは、幅広い用途に適合する最高温度1100℃の卓上小型チャンバー電…
標準仕様 常用温度1100℃（最高温度1200℃） 炉内容積： ６、１４、２３ Ｌ 各種 前回開閉式ドア 標準仕様の温調器は、PID制御301型です。設定温度、昇温速度、設定温度での維持時間を調整することが可能です。 遅延スタート機能/ プロセスタイマー機能が標準装備 真空成型による高性能断熱材 頑丈な硬質セラミック炉床が標準装備 セラミック製排気口が上部に設置されています...標...
メーカー・取り扱い企業： ヴァーダー・サイエンティフィック株式会社
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BLFシリーズは、炉底部が昇降するため、昇降式炉、またはエレベータ炉と…
文字通り、炉底が電気的に上昇して、上部に位置する炉の中にサンプルが入ります。そのため、操作面でたくさんの利点があります。エレベータで昇降する炉床により、通常のチャンバー炉と比較して急激な温度変化を試料に与えることが可能です。また、炉内でサンプルが４辺の発熱体に囲まれる為、熱が均一に伝わります。 また、最高使用温度も、超高温の1700℃、1800℃モデルと、3リットル1200℃のモデルがありま...
メーカー・取り扱い企業： ヴァーダー・サイエンティフィック株式会社
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30セグメントPID自動制御！スライドチャンバー構造による高速冷却
『OSK 75YU SLシリーズ』は、炉心管に高純度石英管または アルミナ管を使用したスライド式雰囲気管状炉です。 30または50セグメントの「時間温度曲線」を任意に設定可能。 また、SCR(シリコン制御整流器)によるPID自動制御、 位相角始動、電流制限抵抗による電力制御などの特長がございます。 【標準付属品(一部)】 ■炉心管(1) ■真空フランジ(1) ■断熱ブロ...
メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社
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倒立顕微鏡用培養装置（加温冷却チャンバー ）
フィードバック式制御を採用している為、検体付近の正確な温度調整が可能です。 ・専用チラー付属 ・検体温度フィードバック制御 ・35mmディッシュ、スライドガラス、チャンバースライド、カバーガラスチャンバー対応...倒立顕微鏡用 設定温度範囲 ドライレンズ（長焦点）15℃〜40℃ オイルレンズ・ドライレンズ（短焦点）20℃～40℃ （室温25℃±1...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社東海ヒット
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Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…
真空環境、不活性ガス雰囲気下(N2, Ar etc)に対応した 卓上型のチャンバー式加熱オーブンです。 装置前面のタッチパネルディスプレイで容易に温度制御レシピを設定できます。 また、クラス1のクリーンな環境で、温度安定性の高い加熱処理を実現しました。 1×10-5 To...
メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社
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300mm(12インチ)ウェーハ対応の半導体製造向けクリーンオーブン
『SO2-12-F』は、FPD製造装置のベストセラー、枚葉式クリーンオーブンの 技術を取り入れた半導体製造向けのクリーンオーブンです。 300mm(12インチ)FOUP対応で全自動での運用が可能。50枚/1チャンバーの 処理が可能で、2チャンバーまでの増設ができます。 ポリイミドキュアなどの低温処理で高スループット、短タクトタイムを実現します。 【特長】 ■FOUP対応全自...
メーカー・取り扱い企業： 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部
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顕微鏡ステージで細胞培養する超小型インキュベータ
・顕微鏡ステージで温度とCO2を制御して継続的に細胞を培養します。ライブセル観察、タイムラプス撮影を簡便に実施します。 ・・最小限の操作で培養環境をお手軽にコントロール、機能性能を絞り込んだコンパクトな構成でお求めやすい価格のパッケージです。 ・カスタムを前提とした組み換え自在なプリフィクス構造で、顕微鏡や培養容器に合わせて柔軟にカスタマイズ...・透明なまま熱くなるガラスヒーターを小型チャン...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ブラスト
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引上げ駆動部とステンレスチャンバーを一体化することで軽量化！大学の研究…
『TCA4-6C』は、安価なテトラアーク炉とのご要望を受け「TCA4-6型」の 各機能と特許“アーク電流制御”はそのままに、ゲッター機能を省いて コストダウンとコンパクト化を実現したテトラアーク式単結晶引上装置です。 引上げ駆動部とステンレスチャンバーを一体化することで軽量化。 試料の出し入れも簡単にできます。 尚、装置は炉体・制御部、電源部、手元操作ボックスより構成しております...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノサーチ
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融点1200℃までの金属に対応するデジタル鋳造機
吸引加圧鋳造で溶湯をよりスムーズに細部へ供給。 鋳造条件をメモリーできるタッチパネル搭載で、再現性の高い高性能鋳造機です。 ■３つの鋳造モード■ 製品の形状や金属に合わせて『加圧鋳造』『吸引鋳造』『吸引加圧鋳造』の３つの鋳造モードが選択できます。 ■３つのオペレーション■ 『フルオートマチック』『タイマー式オートマチック』『マニュアル』の３種類から選択できます。自動だけでなく、全...
メーカー・取り扱い企業： 吉田キャスト工業株式会社
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高速昇温による温度評価に最適です！！
最高温度は600℃。温度モニター機能付きです。チャンバー部は窒素雰囲気（充填式）です。昇温スピードは10℃/sec、温度分布は±5％です。...【ハロゲンランプ加熱装置 PR410】 ◆PR410のスペック（標準タイプ）◆ 温度設定範囲：室温-600℃ ヒーター容量：10KW、AC200V 均熱板部：耐熱合金、サイズ200×200(mm) チャンバー部：窒素雰囲気、耐熱ガラスチャ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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サーモ洗浄用チャンバー炉 サーモ・アフターバーニング内蔵でガス加熱
金属部品のサーモ洗浄用途に用いられます。...電気モーター、塗装された金属部品の表面、プラスチック射出成形機のノズルのサーモ洗浄が挙げられます。貧酸素に設定された減雰囲気のチャンバー炉によりは、過熱による破損を防ぐため加工品の局部的な自動発火を効果的に回避します。...
メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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使いやすい装置作りへのたゆまぬ改良。特殊仕様製品の製作にも積極的に対応…
『TCH-20』は、前面扉式水冷ジャケットチャンバー方式により作業性が 向上した酸化物単結晶引き上げ装置です。 加熱温度は2100℃。装置重量の軽量化と性能向上をポイントに 装置設計の徹底を行いました。 また、特殊仕様製品の製作にも積極的に対応します。 是非お問い合わせください。 【特長】 ■前面扉式水冷ジャケットチャンバー方式により作業性が向上 ■装置重量の軽量化と性...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノサーチ
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真空・各種ガス雰囲気での高温アニール装置で、赤外線加熱による急速昇温、…
・円筒上真空チャンバー外周には、８個の真空ポートがついた拡張性の高い真空チャンバーを採用。 ・上面が大きく開き、試料の設置・取出し作業が容易にできる。 ...最高昇温速度 150℃/sec、加熱時間 1500℃まで約1min 熱源からの放出ガスや電磁誘導の影響を与えないクリーン加熱 高温の試料を観察できるオプションも用意しています。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーモ理工
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窒素パージ高温（600℃）対応。酸化防止機能が必要な加熱プロセスに最適…
高温窒素パージホットプレート「PH-212-600型」は、窒素パージ高温（600℃）対応の 高温ヒーター仕様です。ダイボンディング、はんだ付けなど、幅広いアプリケーションにも対応（生産、試作、評価、分析など）しています。ワーク、アプリケーションに合わせて、チャンバー構造、ガス噴出しパターンなどがカスタマイズ可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。...【特長】 ○窒素パージ高温（6...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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金属、ウエハ等の高速昇温加熱プロセスに！
高速ランプ加熱装置RP-420型は最高温度700℃対応の高速ランプ加熱装置です。小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源にハロゲンランプヒータを採用しており、金属プレート等を高速、高温処理プロセス用です。ワークチャンバーは引出プレート式でワークの 供給排出が簡易に行えます。 また操作パネルは、タッチパネルにより、操作性に優れます。排熱タイプは、水冷、空冷の2方式がありま...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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約2万回のア－ク溶解の経験！高融点の金属の合金を作る時に有効な装置
『アーク溶解炉』は、アーク溶解の目的として、ルツボ材と反応して金属塊が 作れない時、高融点の金属の合金を作る時に大変有効な装置です。 研究室レベルに好適な「卓上型アーク溶解炉」や、開発などで手軽に 作業できるように小型化と低価格化を実現した「小型真空アーク溶解炉」、 均質な合金が安定して製作できる「自動アーク溶解炉」などをラインアップ。 当社は専門的知識と技術を有し、全ての金属の...
メーカー・取り扱い企業： アトーテック 株式会社
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加飾成形『真空成形による車載光透過デザインの高精度位置決め技術』
熱板成形に駆動を付加した、高精度位置合わせを実現！車載パーツのエンブレ…
を重視する製品や、加飾工程の歩留まり改善に大きく貢献します。 【位置合わせ実用例】 ■車載パーツ：エンブレム光透過（ASANOロゴ） ■使用機械：TFH-UD ■成形方式：熱板成形（チャンバー式上下駆動） ■フィルム：ピアノブラック印刷 / PC / 蒸着 / PC/ 隠蔽ブラック印刷＋透過 t0.3 【無料サンプル成形受付中！】 ※現在サンプルの無料成形テスト（対応可否あり...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社浅野研究所
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最高温度は200℃！サイズ、材質等カスタマイズできます！！
高温加熱工程、プロセス評価用途に。...◎最高温度200℃。 ◎サイズ、材質、表面処理など、各種対応。 ◎精密電子制御（PID方式など）、サーモスタット、コントローラーなどにて温度制御方式を選択可能。 ◎薄型、固定式等、各種構造に対応。 ◎その他、チャンバー、固定治具、特殊センサーユニットなど、製作致します！...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能！
真空チャンバー ホットプレート 「PH221」は、チャンバー構造ホットプレート（最高温度200℃）です。ホットプレートに真空チャンバーを組み合わせたタイプで、低真空環境での加熱工程を簡易に実現いたします。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布 ±2.0％。プログラム式温度コントローラー（別売）により、温度プログラム設定が可能です。真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベー...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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