チャンバー式 | イプロスものづくり

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した卓上型真空はんだリフロー装置です。有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも余裕で対応することができます。【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業：ユニテンプジャパン株式会社

高田工業所社製試作用枚葉式ウェット処理装置『TWPmシリーズ』

リフトオフ・レジスト剥離プロセスによるウエハー表面処理を行う試作研究用…

試作研究用『TWPmシリーズ』は以下の特長を備えた装置になります。 ■特長・高い剥離性能をもつ独自のジェットリフトオフ機構・多品種少量・生産量の変動への対応に向けた、フレキシビリテイの向上とランニングコストの削減・枚葉化による品質・歩留り向上（クロスコンタミの無い精密処理の実現と面内の均一性・制御性の向上）・高い剥離性をもつ独自のジェットリフトオフ機構 ...

メーカー・取り扱い企業： JFE商事エレクトロニクス株式会社プロセスソリューション営業部実装プロセス営業室

小型回転式真空プラズマ装置『MUG-80』

一括処理で時間短縮&コスト削減！　少量の粉体・微小な部材の表面改質に！

ご要望の多かった、回転式卓上プラズマ装置の小型版がついに登場！『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置！通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全...

メーカー・取り扱い企業：株式会社魁半導体

研究開発向け枚葉式レジスト剥離・リフトオフ装置『高田工業所製』

昇温した有機薬液による化学反応と高圧ジェットの物理的アシスト利用した剥…

通常ストレートノズルと、高圧ジェットノズルを併用した研究開発向けメタルリフトオフ処理装置。コンパクトなTWPmから、搬送ユニットを省いてさらに小型化とコストメリットを追求したモデル。レジスト剥離・リフトオフ、リンス、乾燥までをひとつのチャンバーで行う、1チャンバー完結タイプはハイスループットだけでなく、省フットプリント化にも貢献致します。また、使用した薬液を分離回収し再利用することも可能で...

メーカー・取り扱い企業：日精株式会社本社

親水・洗浄・密着強化『回転式真空プラズマ装置』

乾式で『粉体や固体全面』の『表面改質(親水・洗浄・密着強化)』を一括処…

『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置！通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全面に均一なプラズマ処理一括処理する事ができます。【特徴】 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社魁半導体

スピン洗浄装置　高性能型減圧式スピンコーター

【デモ機貸し出し可能！】N2置換、溶剤ガス導入、真空状態、等自動で行い…

高性能型減圧式スピンコーターは、各種基板にレジスト液を自動でスピンコートする装置です。チャンバー内の雰囲気をコントロールして、均一な高精度のコートができる様、技術が盛り込まれています。即ちN2置換、溶剤ガス導入、真空状態、等自動で行います。詳しくはお問い合わせ下さい。...【特徴】 ○各種基板にレジスト液を自動でスピンコート ○チャンバー内の雰囲気をコントロール →均一な高精度の...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

角型ゲートバルブ

「シングルゲートバルブ」と「デュアルゲートバルブ」をラインアップ！

当製品は、半導体製造装置のプロセスチャンバー用の真空ゲートバルブです。カム駆動式による逆圧対応の「シングルゲートバルブ」と完全水平移動の為、 Oリングの擦れが無い「デュアルゲートバルブ」をラインアップ。お客様ご要求仕様に基づくカスタマイズも承ります。【特長】〈デュアルゲートバルブ〉 ■完全水平移動の為、Oリングの擦れが無い ■左右の独立駆動によりPM/TMチャンバ...

メーカー・取り扱い企業：ナカンテクノ株式会社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

基板制作装置　スプレー式小型エッチング装置

まだ手動ですか？卓上サイズで試験・実験に適した『スプレー式小型エッチン…

『スプレー型小型エッチング装置』は、プリント基板などのエッチング処理や、現像処理をする卓上サイズの基板制作装置です。エッチング液（塩化第二鉄）の化学反応を使って、銅箔を回路パターン通りにエッチング（化学腐食、蝕刻）加工をします。手動でやっている作業をスプレー型小型エッチング装置に置き換えれば、再現性も高まり、作業効率も向上！フィルムへのプリント時のエッチングにも使用されたこ...

メーカー・取り扱い企業：サンハヤト株式会社

サーマルALD装置『Phoenix G2』

量産に必要な多くの安全対策仕様！コンパクトな装置サイズで成膜温度50～…

『Phoenix G2』は、中規模量産に適したサーマル式のALD装置です。優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザインで、多用途に対し容易に使用可能。また、セミオートローダー又は真空ロードロックに対応しており、適切なチャンバーサイズ(＜370mm×470mm)となっております。【特長】 ■優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

G8対応　枚葉スピン式　大型マスク洗浄装置　MSC-1500

リンス、乾燥を専用のチャンバーで行うことにより、精密洗浄が可能

AGV対応、ケミカル処理、リンス、乾燥する大型マスク洗浄装置です。反転機構により両面洗浄も可能です。...【特徴】 ■塗布、現像、エッチング、剥離、洗浄の各プロセスに対応 ■　レジスト残渣／有機物残渣の剥離洗浄 ■　金属粒子や研磨、ダイシング後などの粒子除去洗浄 ■　固着微粒子、吸着微粒子の除去洗浄 ■　受け入れ洗浄、各種工程間の洗浄（成膜前、露光前、剥離後、エッチング後、　バック...

メーカー・取り扱い企業：株式会社カナメックス厚木工場

スピン洗浄装置　自動フォトリゾ装置 JASC-1200AD型

対象ワークは200mm□基板又はφ300mm基板に適用します！

自動フォトリゾ装置はカセットからカセットでレジストスピンコート、真空ベーク、アライナー、スプレー現像を自動で行う装置です。勿論工程の選択も出来ます。ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1人で作業が出来ます。工程間の搬送は多関節ロボットを採用しています。本機の対象ワークは200mm□基板又はφ300mm基板に適用します。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...【特徴】...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

プラズマドライクリーナー　プラズマクリーナー　プラズマ洗浄装置

ご要望に合わせてカスタマイズ出来るプラズマクリーナー

・卓上型、低コスト、高性能タイプ・実験用から本格量産まで使用可能・RIEモード標準（DPモード切替器はオプション）・アルゴン・酸素の2系統のマスフローメーターを搭載・標準油回転ポンプ付標準機を基にお客様のご要求に合わせて、カスタマイズもいたします。弊社では小型バッチ式から中型、大型バッチ式さらに各種自動機まで幅広くラインナップしております。チャンバー構造は石英バレル、平行平板、...

メーカー・取り扱い企業：ヤマトマテリアル株式会社

スピン洗浄装置　自動フォトリゾ装置

【デモ機貸し出し可能！】ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1…

自動フォトリゾ装置は、カセットからカセットでレジストスピンコート、真空ベーク、アライナー、スプレー現像を自動で行う装置です。勿論工程の選択も出来ます。ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1人で作業が出来ます。工程間の搬送は多関節ロボットを採用しています。本機の対象ワークは、200mm□基板又はφ300mm基板に適用します。詳しくはお問い合わせ下さい。...【特徴】 ○...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

高田工業所社製量産用枚葉式ウェット処理装置『TWPシリーズ』

リフトオフ・レジスト剥離プロセスによるウエハー表面処理を行う量産用枚葉…

量産用『TWPシリーズ』は以下の特長を備えた装置になります。 ■特長・高い剥離性能をもつ独自のジェットリフトオフ機構・多品種少量・生産量の変動への対応に向けた、フレキシビリテイの向上とランニングコストの削減・枚葉化による品質・歩留り向上（クロスコンタミの無い精密処理の実現と面内の均一性・制御性の向上）・1チャンバー完結　完全枚葉処理・パドル処理、低速回...

メーカー・取り扱い企業： JFE商事エレクトロニクス株式会社プロセスソリューション営業部実装プロセス営業室

スピン洗浄装置　高性能型減圧式スピンコーター HMSC-300A

均一な高精度のコートができる様、技術が盛り込まれています！

高性能型減圧式スピンコーターは、各種基板にレジスト液を自動でスピンコートする装置です。チャンバー内の雰囲気をコントロールして均一な高精度のコートができる様技術が盛り込まれています。即ちN2置換、溶剤ガス導入、真空状態、等自動で行います。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...【特徴】 ○各種基板にレジスト液を自動でスピンコートする装置 ○チャンバー内の雰囲気をコントロー...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

《新型》UDSスピン枚葉装置（エッチング・RCA・洗浄・現像等）

フットプリント・購入コストの大幅低減とスループットUp・基板品質大幅向…

■エッチング、RCA洗浄、現像といった各種WETプロセスに好適 ■1-チャンバーで「薬液⇒リンス⇒乾燥」のフルプロセスを、Dry-In/Dry-Outで対応　◎従来方式：2-チャンバー構成（チャンバー間移送時に基板は薬液付着状態）　◎新方式：UDS式では1-チャンバー構成。 ■基板の基本動作　◎「上段部…基板のLD」⇒「下段部…ケミカル処理」⇒ 　　　　　　　　　　　　⇒「中段部...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

マイクロ波イオン・ラジカル源　IMIS-211Q

石英放電管タイプでチャンバー内突き出し型の有磁場型マイクロ波励起イオン・ラジカル源【特徴】 ○プラズマ室は石英製で、金属汚染の少ないイオン・ラジカルが得られる ○特殊なアンテナ構造、磁気回路のため漏洩磁場が少ない ○完全金属シール構造により　MBE装置等、各種超高真空装置に使用可能 ○取付が容易な空冷式 ○加速用高圧電源（オプション）の使用により　イオン加速が可能...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

スピンドライヤー　SRD型

【デモ機貸し出し可能！】高品質を実現した1キャリア（25枚又は13枚）…

SRD型は、従来のすぐれた乾燥性、操作性に加えて高品質を実現した1キャリア（25枚又は13枚）処理タイプの乾燥装置です。蓋にULPA又は、HEPAフィルターを内蔵し、クリーンエアーを導入することにより、チャンバー内のクリーン度を飛躍的に向上させます。クレドールの交換により2～3種類の、ウエハーの乾燥が出来ます。詳しくはお問い合わせ下さい。...【特徴】 ○蓋にULPA又はHEPAフィ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社