• 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』 製品画像

    ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

    PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

    『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

    • images2021052016285434.gif
    • screen2.jpg
    • gisan.png
    • images2021040516155314.png

    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    PCで行うことができます。 ・装置設置寸法:1,767(W) x 754(D) x 1,645(H)mm ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。 ●マルチチャンバー式も製作可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • バッチ式プラズマアッシング処理装置(バッチ式プラズマアッシャー) 製品画像

    バッチ式プラズマアッシング処理装置(バッチ式プラズマアッシャー)

    ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置

    本装置は、同軸バレル構造をチャンバーに持つ、ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置です。 ウエハサイズは、5インチ以下、6インチ、8インチに対応しています。 また、オプションにて4インチと6インチ、5インチと6インチウエハ兼用も可能です。 シリコンウエハ上に形成されたフォトレジスト薄膜を高周波プラズマ励起により、低ダメージアッシング(灰化除去)や表面改質等、多様なプロセス用途に利用...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社リバティー

  • リフトオフ装置 ※テスト可能機種あり 製品画像

    リフトオフ装置 ※テスト可能機種あり

    枚葉式・バッチ式のラインナップから、各工程及び仕様を選択し装置をカスタ…

    ダルトンのリフトオフ装置は6種のラインナップと6種類のオプションを有し、用途やウエハーの性質に合わせて使用をご選定頂けます。 【ラインナップ】 ・HU型(量産向け)…バッチ、枚葉の併用仕様。より早く、確実な仕上がり ・HM型(研究開発・量産向け)…Jet処理のみで剥離が可能なウエハーに好適。 ・CHU型(研究開発向け)…HU型の特長を受け継ぎながら、コンパクト化を実現 ・MJ型(研究...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン

  • スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • マイコン制御式 プリント基板用エッチングマシーン ES-800M 製品画像

    マイコン制御式 プリント基板用エッチングマシーン ES-800M

    マイコン制御により、短時間で高品質のエッチングを実現

    両面をスピード処理できる、シャワー式小形半自動式のエッチングマシーン...主な仕様 処理工程:投入→エッチング→絞り→水洗槽 処理最大幅:330mm 処理最小長さ:100mm 搬送部ローラーピッチ:45mm チャンバー長:400mm(スプレー有効長300mm) エッチング液最大液量:40リットル エッチング液:塩化第二鉄 40ボーメ(サンハヤト製 H-20L指定) エッチング液フィ...

    メーカー・取り扱い企業: サンハヤト株式会社

  • プラズマドライクリーナー  プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置 製品画像

    プラズマドライクリーナー  プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置

    ご要望に合わせてカスタマイズ出来るプラズマクリーナー

    ・卓上型、低コスト、高性能タイプ ・実験用から本格量産まで使用可能 ・RIEモード標準(DPモード切替器はオプション) ・アルゴン・酸素の2系統のマスフローメーターを搭載 ・標準油回転ポンプ付 標準機を基にお客様のご要求に合わせて、カスタマイズもいたします。弊社では小型バッチ式から中型、大型バッチ式さらに各種自動機まで幅広くラインナップしております。チャンバー構造は石英バレル、平行平板、...

    メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社

  • 小型マルチスピンプロセッサー エッチング・洗浄・現像 製品画像

    小型マルチスピンプロセッサー エッチング・洗浄・現像

    スキャン時には周速制御による均一性向上も可能!従来より多数の御使用を戴…

    現像、エッチング、リンス、乾燥と一連のパターニング処理を 従来型のSpinにて行う装置のご紹介です。 基板品種により現像、エッチングの処理時スプレー又はパドルの レシピ選択ができ、スキャン時には周速制御による均一性向上も可能。 本機は低コストで、従来より多数の御使用を戴き実績も豊富ですが、 循環再利用のプロセスには2チャンバーでの対応が必要となります。 廃液・排水、排気のき...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ソフエンジニアリング

  • 真空蒸着装置『MiniLab-080』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-080』

    蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

    80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料),EB蒸着, RF/DC/P...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    PCで行うことができます。 ・装置設置寸法:1,767(W) x 754(D) x 1,645(H)mm ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。 ●マルチチャンバー式も製作可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • マイクロ波イオン・ラジカル源 IMIS-211Q 製品画像

    マイクロ波イオン・ラジカル源 IMIS-211Q

    マイクロ波イオン・ラジカル源 IMIS-211Q

    石英放電管タイプでチャンバー内突き出し型の 有磁場型マイクロ波励起イオン・ラジカル源 【特徴】 ○プラズマ室は石英製で、金属汚染の少ないイオン・ラジカルが得られる ○特殊なアンテナ構造、磁気回路のため漏洩磁場が少ない ○完全金属シール構造により  MBE装置等、各種超高真空装置に使用可能 ○取付が容易な空冷式 ○加速用高圧電源(オプション)の使用により  イオン加速が可能...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

1〜11 件 / 全 11 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg