【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

平行平板式減圧プラズマ処理装置　真空プラズマ装置

各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基（親水、親油、密着性…

「PC-RIEシリーズ」は、各種基板/フィルム等に対して、様々な表面改質効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積（ALD）装置

Arradiance社製卓上型ALD装置　卓上型ながらプラズマユニット…

テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。 直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド 最...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイチ・ティー・エル HTL（エイチティーエル）

精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600

ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置

世界最大の真空装置・機器メーカーとして160年近い歴史を持つライボルトオプティクスは、業界のリーダーとして長年の経験を有し、高精度な光学コーティングを実現するための真空薄膜製造装置およびプロセスを提供しています。研究開発用途から大量生産の大型設備まで様々な真空チャンバーサイズを取り揃え、お客様の多様なニーズにお応えいたします。... ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッタ...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積：48x48cm 基板サイズ： 最大4インチ プレカーサー材料：５系統 方式：ホットウォール...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社