【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

小型回転式真空プラズマ装置

一括処理で時間短縮&コスト削減！　少量の粉体・微小な部材の表面改質に！

『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置！ 通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。 本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全面に均一なプラズマ処理一括処理する事ができます。...【特徴】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社チェッカーズ

平行平板式減圧プラズマ処理装置　真空プラズマ装置

各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基（親水、親油、密着性…

「PC-RIEシリーズ」は、各種基板/フィルム等に対して、様々な表面改質効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積（ALD）装置

Arradiance社製卓上型ALD装置　卓上型ながらプラズマユニット…

テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。 直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド 最...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイチ・ティー・エル HTL（エイチティーエル）

真空装置　基板用平行平板プラズマ処理装置　PC-RIEシリーズ

処理可能基板サイズ550×650ｍｍ。無廃液化・低ランニングコストを実…

「PC-RIEシリーズ」は、中型液晶基板、プリント基板等のアッシング、デスミア、表面改質、Ｆ系ガスエッチング等の処理が行えます。チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 →クリーン化，無廃液化 ○低ランニングコス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。 【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600

ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置

世界最大の真空装置・機器メーカーとして160年近い歴史を持つライボルトオプティクスは、業界のリーダーとして長年の経験を有し、高精度な光学コーティングを実現するための真空薄膜製造装置およびプロセスを提供しています。研究開発用途から大量生産の大型設備まで様々な真空チャンバーサイズを取り揃え、お客様の多様なニーズにお応えいたします。... ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッタ...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

VacuTEC-真空プラズマトリーター

低電力と特別な処理用ガスを必要としない設計！材料に応じて20～120秒…

Tantecの『VacuTECプラズマトリーター』は、多様な射出成形部品の 大量処理を目的として設計されています。 本装置は、処理時間が短く、処理後工程での塗装、接着、印刷および ペイント用途に適した接着性を実現。 導電性表面と非導電性表面の両方を処理でき、非常にコスト効率よく 表面の濡れ性と接着性を向上できます。 【特長】 ■主電源と圧縮空気に接続するだけで使用可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社第一メカテック

『流動層式大気圧 プラズマ粉体処理装置』

大容量の粉体表面改質装置

本製品は、粉体の表面改質（溶液への分散性向上、コーティングの 前処理等）を大容量で行うことが可能な処理装置です。 粉体を液体のように混合・攪拌することが可能な「流動層」技術を応用し、 プラズマにより生成された活性種を効率よく粉体に曝すことで プラズマ発生部と処理部を分離します。 また、真空チャンバーを必要としないためスケールアップも容易。 従来の装置では採用できなかった用途へも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

コールドカソードイオン銃

ホットカソードには無い極めて低い温度、低い真空度で動作！

　オメガトロンのイオン銃技術とノウハウを結集し、シンプルで信頼性の高いコールドカソードイオン銃を完成させました。 放電電極に高価なレアメタルをおごっているにもかかわらず、最適設計により部品点数を削減したため、品質をより向上させつつ販売価格を１２３万円（税抜き）とすることができました。 また、オプションのユニットをお選び頂ければ、従来のような高機能・高性能タイプにリーズナブルにステップアップする...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オメガトロン

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積：48x48cm 基板サイズ： 最大4インチ プレカーサー材料：５系統 方式：ホットウォール...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社