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62件 - メーカー・取り扱い企業
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【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…
『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社
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高田工業所社製試作用枚葉式ウェット処理装置『TWPmシリーズ』
リフトオフ・レジスト剥離プロセスによるウエハー表面処理を行う試作研究用…
試作研究用『TWPmシリーズ』は以下の特長を備えた装置になります。 ■特長 ・ 高い剥離性能をもつ独自のジェットリフトオフ機構 ・多品種少量・生産量の変動への対応に向けた、 フレキシビリテイの向上とランニングコストの削減 ・枚葉化による品質・歩留り向上 （クロスコンタミの無い精密処理の実現と面内の均一性・制御性の向上 ） ・高い剥離性をもつ独自のジェットリフトオフ機構 ...
メーカー・取り扱い企業： JFE商事エレクトロニクス株式会社 プロセスソリューション営業部 実装プロセス営業室
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一括処理で時間短縮&コスト削減！ 少量の粉体・微小な部材の表面改質に！
ご要望の多かった、回転式卓上プラズマ装置の小型版がついに登場！ 『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置！ 通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。 本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体
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研究開発向け枚葉式レジスト剥離・リフトオフ装置『高田工業所製』
昇温した有機薬液による化学反応と高圧ジェットの物理的アシスト利用した剥…
通常ストレートノズルと、高圧ジェットノズルを併用した研究開発向けメタルリフトオフ処理装置。 コンパクトなTWPmから、搬送ユニットを省いてさらに小型化とコストメリットを追求したモデル。 レジスト剥離・リフトオフ、リンス、乾燥までをひとつのチャンバーで行う、1チャンバー完結タイプはハイスループットだけでなく、省フットプリント化にも貢献致します。また、使用した薬液を分離回収し再利用することも可能で...
メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社
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少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…
A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 ・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 ・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性 ・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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乾式で『粉体や固体全面』の『表面改質(親水・洗浄・密着強化)』を一括処…
『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置！ 通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。 本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全面に均一なプラズマ処理一括処理する事ができます。 【特徴】 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…
PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,767(W) x 754(D) x 1,645(H)mm ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。 ●マルチチャンバー式も製作可能です。...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…
OLED（有機EL）, OPV（有機薄膜太陽電池）, OTFT（有機薄膜太陽電池）, 又, グラフェン, TMD（遷移金属ダイカルコゲナイド）などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省ス...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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バッチ式プラズマアッシング処理装置（バッチ式プラズマアッシャー）
ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置
本装置は、同軸バレル構造をチャンバーに持つ、ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置です。 ウエハサイズは、5インチ以下、6インチ、8インチに対応しています。 また、オプションにて4インチと6インチ、5インチと6インチウエハ兼用も可能です。 シリコンウエハ上に形成されたフォトレジスト薄膜を高周波プラズマ励起により、低ダメージアッシング（灰化除去）や表面改質等、多様なプロセス用途に利用...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社リバティー
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蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…
『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。 【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、 又下チャンバーはCF70ポートが6式標準...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック
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Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…
真空環境、不活性ガス雰囲気下(N2, Ar etc)に対応した 卓上型のチャンバー式加熱オーブンです。 装置前面のタッチパネルディスプレイで容易に温度制御レシピを設定できます。 また、クラス1のクリーンな環境で、温度安定性の高い加熱処理を実現しました。 1×10-5 To...
メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社
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実験目的にあわせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置
☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置☆ お薦めPOINT ＜実験目的にあわせたカスタマイズ!!＞ 1．試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意 2．カソードサイズは2〜6インチに対応 3．2インチカソードタイプは3源式にも対応 ＝ 薄膜の積層を実現 4．多彩なオプションをご用意 基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc....☆金属薄膜...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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枚葉式・バッチ式のラインナップから、各工程及び仕様を選択し装置をカスタ…
ダルトンのリフトオフ装置は６種のラインナップと６種類のオプションを有し、用途やウエハーの性質に合わせて使用をご選定頂けます。 【ラインナップ】 ・HU型（量産向け）…バッチ、枚葉の併用仕様。より早く、確実な仕上がり ・HM型（研究開発・量産向け）…Jet処理のみで剥離が可能なウエハーに好適。 ・CHU型（研究開発向け）…HU型の特長を受け継ぎながら、コンパクト化を実現 ・MJ型（研究...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン
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【デモ機貸し出し可能！】N2置換、溶剤ガス導入、真空状態、等自動で行い…
高性能型減圧式スピンコーターは、各種基板にレジスト液を自動でスピンコートする装置です。 チャンバー内の雰囲気をコントロールして、均一な高精度のコートができる様、技術が盛り込まれています。 即ちN2置換、溶剤ガス導入、真空状態、等自動で行います。 詳しくはお問い合わせ下さい。...【特徴】 ○各種基板にレジスト液を自動でスピンコート ○チャンバー内の雰囲気をコントロール →均一な高精度の...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…
各種研究開発、材料開発等の小規模実験用途から要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。 【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【成膜室】 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.
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高い汎用性を備えたシンプルな構造！独自のプラズマ制御方式を採用していま…
『立体物用プラズマCVD装置』は、豊富な蓄積データを有し、 独自のプラズマ制御方式を採用しています。 チャンバー容積は1m3。 多段式大量一括処理可能で、高い汎用性を備えたシンプルな構造です。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■チャンバー容積：1m3 ■独自のプラズマ制御方式 ■多段式大...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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「シングルゲートバルブ」と「デュアルゲートバルブ」をラインアップ！
当製品は、半導体製造装置のプロセスチャンバー用の真空ゲートバルブです。 カム駆動式による逆圧対応の「シングルゲートバルブ」と完全水平移動の為、 Oリングの擦れが無い「デュアルゲートバルブ」をラインアップ。 お客様ご要求仕様に基づくカスタマイズも承ります。 【特長】 〈デュアルゲートバルブ〉 ■完全水平移動の為、Oリングの擦れが無い ■左右の独立駆動によりPM/TMチャンバ...
メーカー・取り扱い企業： ナカンテクノ株式会社
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ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…
『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度：1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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マイコン制御式 プリント基板用エッチングマシーン ES-800M
マイコン制御により、短時間で高品質のエッチングを実現
両面をスピード処理できる、シャワー式小形半自動式のエッチングマシーン...主な仕様 処理工程：投入→エッチング→絞り→水洗槽 処理最大幅：330mm 処理最小長さ：100mm 搬送部ローラーピッチ：45mm チャンバー長：400mm（スプレー有効長300mm） エッチング液最大液量：40リットル エッチング液：塩化第二鉄 40ボーメ（サンハヤト製 H-20L指定） エッチング液フィ...
メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…
『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。 【特長】 ■研究開発向けのデスクトップサイ...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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まだ手動ですか？卓上サイズで試験・実験に適した『スプレー式小型エッチン…
『スプレー型小型エッチング装置』は、プリント基板などのエッチング処理や、現像処理をする卓上サイズの基板制作装置です。 エッチング液（塩化第二鉄）の化学反応を使って、銅箔を回路パターン通りにエッチング（化学腐食、蝕刻）加工をします。 手動でやっている作業をスプレー型小型エッチング装置に置き換えれば、 再現性も高まり、作業効率も向上！ フィルムへのプリント時のエッチングにも使用されたこ...
メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社
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ヨーロッパ 発の技術！Leuven instruments装置の日本国…
・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shaleシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能 ・Ganistarシリーズ：IBD（イオンビーム堆積） 低温低圧条件...
メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社
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長時間・多量の真空蒸着またはスパッタリングのプロセスに有効
日本電子株式会社 水晶振動子式膜厚コントローラ/モニターに接続して、真空蒸着時の膜厚や蒸着レートを計測/制御するための多点センサーです。 真空チャンバー内長さ、センサーヘッドタイプ、水晶振動子（クリスタル）枚数を、選択して組み合わせることができます。 〇特長 ・検出孔が定位置 ・晶振動子（クリスタル）が6枚または12枚装着可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせく...
メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社
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量産に必要な多くの安全対策仕様！コンパクトな装置サイズで成膜温度50～…
『Phoenix G2』は、中規模量産に適したサーマル式のALD装置です。 優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザインで、 多用途に対し容易に使用可能。 また、セミオートローダー又は真空ロードロックに対応しており、 適切なチャンバーサイズ(＜370mm×470mm)となっております。 【特長】 ■優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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SEM用試料の前処理用として最適！シリーズ最小のコンパクトコーターです…
「SC-701MkII」は、シリーズ最小のコンパクトコーターです。 デバイスの電極膜付けにも使用可能で、シンプル＆イージーオペレーションです。 イオンダメージを軽減する間欠スパッタ機能を標準搭載。 試料ブロックを用いて簡単にT-S間距離を変更できます。 SEM用試料の前処理用として最適です。 【特長】 ○シリーズ最小のコンパクトコーター ○低価格／小型軽量タイプ ○熱ダメージ防...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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走査電子顕微鏡用試料作製に最適！ 試料作製の煩わしさを解消します。
「SC-701AT」は、全自動コーターです。 排気操作完全自動式で、膜厚制御連動式です。 走査電子顕微鏡用試料作製に最適で、デバイスの電極膜付けにも使用できます。 【特長】 ○電子顕微鏡用試料を全自動で手軽に作製 ○プリセット方式により、膜厚のコントロール（簡易型）が可能 ○前処理装置だからこその簡単操作/高い再現性 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【仕様...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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フルオートで大気に曝されることなく成膜完了！ 〜サンプル測定実施中！…
従来のスパッタ装置では困難であった“1バッジ内での複数材料の成膜”をワークマスク採用で可能にし、フルオートモードで試料が大気に曝されることなく成膜完了します。 ○省スペースで作業スペースにメリット ○成膜の再現性が上昇するメリット ○工数削減、エラー減少、気分上昇メリット ○ワンボタンで成膜までフルオート→作業効率メリット ○１インチカソードで材料費を削減メリット スパッタを高精度...
メーカー・取り扱い企業： 九州計測器株式会社
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G8対応 枚葉スピン式 大型マスク洗浄装置 MSC-1500
リンス、乾燥を専用のチャンバーで行うことにより、精密洗浄が可能
AGV対応、ケミカル処理、リンス、乾燥する大型マスク洗浄装置です。反転機構により両面洗浄も可能です。...【特徴】 ■塗布、現像、エッチング、剥離、洗浄の各プロセスに対応 ■ レジスト残渣／有機物残渣の剥離洗浄 ■ 金属粒子や研磨、ダイシング後などの粒子除去洗浄 ■ 固着微粒子、吸着微粒子の除去洗浄 ■ 受け入れ洗浄、各種工程間の洗浄（成膜前、露光前、剥離後、エッチング後、 バック...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社カナメックス 厚木工場
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小型でスペース効率の優れた装置！基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…
当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を 設計開発。 上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンスでき、小型でスペース効率の 優れた装置です。 【特長】 ■シリンダーキャ...
メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社
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改善成功事例 事例2 金属蒸着セル KMDW-Cell
◆◇◆経緯◆◇◆ 従来使用している金属蒸着方法は、ボート式であり、金属膜を蒸着する際に、 100A以上もの大電流を印加している。ボート式は、初心者でも容易に蒸着可能であるが、 大電流を使用することで、膜質に悪影響をもたらす要因と考えられる。 また、蒸着の際の飛散量が激しく、チャンバー内のメンテナンスが頻繁に必要となり、 綺麗な環境での使用は困難となっている。...◆◇◆対処法◆◇◆ ...
メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社
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レジストコート剤の粘度に応じた好適加速度選択が可能！メンテ性にも気配り…
当社で取扱う小型レジストコータのご紹介です。 ガラス基板にレジストコート材をスピンナーにより塗布処理。 チャンバー内気流制御、メンテ性にも気配りをしており、 レジストコート剤の粘度に応じた、好適加速度選択が可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、スピン洗浄装置、スピンコーター、半導体製造装置、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソフエンジニアリング
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精密光学用イオンビームスパッター装置 IBS1400／1600
ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置
世界最大の真空装置・機器メーカーとして160年近い歴史を持つライボルトオプティクスは、業界のリーダーとして長年の経験を有し、高精度な光学コーティングを実現するための真空薄膜製造装置およびプロセスを提供しています。研究開発用途から大量生産の大型設備まで様々な真空チャンバーサイズを取り揃え、お客様の多様なニーズにお応えいたします。... ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッタ...
メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社
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3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢…
当製品は、当社が得意としているプラズマCVDプロセス技術を応用し、 樹脂容器材質として一般的に普及している「PETボトル」への DLCコーティングに特化した成膜装置です。 PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティングを施すことで、 内容物の酸化による風味劣化防止や、炭酸成分の溶出防止、 また容器軽量化による物流コストの低減などに貢献します。 【特長】 ■必要...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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スピン洗浄装置 自動フォトリゾ装置 JASC-1200AD型
対象ワークは200mm□基板又はφ300mm基板に適用します！
自動フォトリゾ装置はカセットからカセットでレジストスピンコート、真空ベーク、アライナー、スプレー現像を自動で行う装置です。勿論工程の選択も出来ます。ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1人で作業が出来ます。工程間の搬送は多関節ロボットを採用しています。本機の対象ワークは200mm□基板又はφ300mm基板に適用します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...【特徴】...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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プラズマドライクリーナー プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置
ご要望に合わせてカスタマイズ出来るプラズマクリーナー
・卓上型、低コスト、高性能タイプ ・実験用から本格量産まで使用可能 ・RIEモード標準（DPモード切替器はオプション） ・アルゴン・酸素の2系統のマスフローメーターを搭載 ・標準油回転ポンプ付 標準機を基にお客様のご要求に合わせて、カスタマイズもいたします。弊社では小型バッチ式から中型、大型バッチ式さらに各種自動機まで幅広くラインナップしております。チャンバー構造は石英バレル、平行平板、...
メーカー・取り扱い企業： ヤマトマテリアル株式会社
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単品試作から用途に合わせて製作可能！「EBガン」や「Kセル」などをライ…
当社の取り扱う『薄膜作成コンポーネント』をご紹介します。 世界最小クラスのUHV対応「マグネトロンスパッタカソード」をはじめ、 ICF70よりマウント可能な「EBガン」やルツボ最小2cc～100cc対応の 「Kセル」などをラインアップ。 また、有機・金属材料対応の「マルチ抵抗加熱ソース」や「コニカル型 蒸着ソース」などもご用意しております。 【ラインアップ】 ■マグネトロ...
メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社
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豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置
コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積：48x48cm 基板サイズ： 最大4インチ プレカーサー材料：５系統 方式：ホットウォール...
メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社
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スキャン時には周速制御による均一性向上も可能！従来より多数の御使用を戴…
現像、エッチング、リンス、乾燥と一連のパターニング処理を 従来型のSpinにて行う装置のご紹介です。 基板品種により現像､エッチングの処理時スプレー又はパドルの レシピ選択ができ、スキャン時には周速制御による均一性向上も可能。 本機は低コストで、従来より多数の御使用を戴き実績も豊富ですが、 循環再利用のプロセスには2チャンバーでの対応が必要となります。 廃液・排水、排気のき...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソフエンジニアリング
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【デモ機貸し出し可能！】ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1…
自動フォトリゾ装置は、カセットからカセットでレジストスピンコート、真空ベーク、アライナー、スプレー現像を自動で行う装置です。 勿論工程の選択も出来ます。 ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1人で作業が出来ます。 工程間の搬送は多関節ロボットを採用しています。 本機の対象ワークは、200mm□基板又はφ300mm基板に適用します。 詳しくはお問い合わせ下さい。...【特徴】 ○...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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高田工業所社製量産用枚葉式ウェット処理装置『TWPシリーズ』
リフトオフ・レジスト剥離プロセスによるウエハー表面処理を行う量産用枚葉…
量産用『TWPシリーズ』は以下の特長を備えた装置になります。 ■特長 ・ 高い剥離性能をもつ独自のジェットリフトオフ機構 ・多品種少量・生産量の変動への対応に向けた、 フレキシビリテイの向上とランニングコストの削減 ・枚葉化による品質・歩留り向上 （クロスコンタミの無い精密処理の実現と面内の均一性・制御性の向上 ） ・1チャンバー完結 完全枚葉処理 ・パドル処理、低速回...
メーカー・取り扱い企業： JFE商事エレクトロニクス株式会社 プロセスソリューション営業部 実装プロセス営業室
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試作開発 枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置『高田工業所製』
昇温した有機薬液による化学反応と、高圧ジェットの 物理的アシスト利用…
通常ストレートノズルと、高圧ジェットノズルを併用した研究開発や、少量生産向けレジスト剥離・メタルリフトオフ処理装置。 手狭なスペースでも設置可能なコンパクト設計（従来機から約40％コンパクト化） レジスト剥離・リフトオフ、リンス、乾燥までをひとつのチャンバーで行う、1チャンバー完結タイプはハイスループットだけでなく、省フットプリント化にも貢献致します。また、使用した薬液を分離回収し再利用するこ...
メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社
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