• 【PFAS処理の解説資料進呈】低コスト・低負荷で効果的な浄化技術 製品画像

    【PFAS処理の解説資料進呈】低コスト・低負荷で効果的な浄化技術

    PRPFAS処理にお困りの方必見!粉末活性炭×独自フィルターで吸着ろ過を完…

    PFASは10,000種類を超える有機フッ素化合物の総称で、フライパンのコーティングや消火剤など身近に使用されています。 これらは発がん性のリスクが懸念され、分解されにくい「永遠の化学物質」と呼ばれ問題となっています。 当社は2023年4月から、沖縄県にてPFAS浄化装置をいち早く運用し、水質分析~装置設計~運用に至るまで一貫して取り組んできました。 ECOクリーンLFPの技術は、独自のフィル...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社流機エンジニアリング

  • 【総合カタログプレゼント】工場の環境問題を解決!改善事例をご紹介 製品画像

    【総合カタログプレゼント】工場の環境問題を解決!改善事例をご紹介

    PR吸引(入口)~排気(出口)までトータルにご提案!デュコルの環境改善設備

    デュコルでは、発生する汚染物質の種類や発生状況に応じた設備をご提案します。粉じんやガスの発生源から吸引と適切な処理をして屋外換気まで、低コストでトータル設計させていただくとともに、アフターサービスまでを一貫して行います。 【こんなお困り事ありませんか】 ■吸い込み口の吸引力が弱くなっている ■メンテナンスをしたことがない ■作業環境が悪く改善したい ★デュコルの『環境改善設備 総...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社デュコル   

  • 大型真空オーブン 製品画像

    大型真空オーブン

     高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱 乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…

    800mm□×800mmH/バッチの大量処理が可能な多用途対応の真空オーブン。 高真空処理・真空置換後の不活性大気圧処理、低真空ガスフロー処理、複数の処理モードを1台で実現。 高真空中の均一加熱で脱ガス・ベーキング。 低真空・ガスフロー...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 遠赤外線アニール炉 製品画像

    遠赤外線アニール炉

    遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮

    遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮します。 樹脂成形品のアニール処理を画期的に変えるシステムです。 ●処理時間の大幅短縮  遠赤外線の放射加熱及び熱風拡散を併用する事により処理時間を大幅に短縮できます。  従来温風バッチ炉 1〜2時間→ノリタケアニール炉 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部 東京営業所

  • 化合物半導体用電極膜アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    化合物半導体用電極膜アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

    化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

    電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。 生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 金属ナノペースト焼結接合対応真空半田付装置 製品画像

    金属ナノペースト焼結接合対応真空半田付装置

    神港精機の真空半田付装置に新型登場 優れた均熱性・昇降温特性と雰囲気制…

    パワーデバイスモジュールの生産を支える神港精機の真空半田付装置がアップグレード。昇降温特性と均熱性能を向上させ処理寸法も拡大。従来通りの雰囲気制御性能と処理温度の高温化によって金属ペーストの焼結接合に対応。 低酸素濃度の実現と100%水素雰囲気による還元力によっての濡ペーストの酸化防止し濡れ性を大きく向上。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 連続アニール炉 製品画像

    連続アニール炉

    遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉

    当社製の遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉です。 処理時間の大幅短縮、コストダウン、インライン化に最適です。 (特長) ●早い加熱処理  例その1:自動車ヘッドランプ 溶着後の歪除去 60分⇒5分  例その2:ICトレー 射出成形後の寸法安...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部 東京営業所

  • フラッシュランプアニーリング装置 FLA 製品画像

    フラッシュランプアニーリング装置 FLA

    半導体など各種材料に!数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

    をすることが可能です。非常に短いパルス(マイクロ/ミリ秒レベル)のキセノンフラッシュランプにより、超高速昇温レートで表面のみ加熱しますので、フレキシブル基板、 耐熱温度の低い基板上の膜のアニ-リング処理等に使用できる研究開発用の小型装置です。コンパクトで使い勝手がよく、各種アプリケーションの研究開発に最適です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー

  • 真空ガス置換オーブン 製品画像

    真空ガス置換オーブン

    Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…

    す。  これによりプロセスガス中のパーティクル量は非常に少なく、クリーンなガスでウェハを加熱することができます。 対流冷却機構  450PBの冷却は全てプロセスチャンバーの外部から行われ、処理されたワークが冷気に晒されることはありません。  チャンバーは、冷却エアインレットと排気ダクトを装備した独立キャビネットに囲まれています。  チャンバーを冷却して加熱されたエアは排気前に空冷と混...

    メーカー・取り扱い企業: ハイソル株式会社

  • 水素雰囲気コンベア炉(還元雰囲気連続熱処理装置) 製品画像

    水素雰囲気コンベア炉(還元雰囲気連続熱処理装置)

    豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子…

    炉内を水素還元雰囲気置換。N2による不活性雰囲気では実現できない低酸素濃度と還元雰囲気処理をコンベア炉による連続処理で実現。 水素雰囲気の還元効果を応用し、通常のリフローでは対応できない高い信頼性を求められる高温半田付や連続還元雰囲気処理処理に対応。 各種ペーストの焼成にも実績豊富...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 設備 調質アニール機(射出成形) 製品画像

    設備 調質アニール機(射出成形)

    残留応力を取り除くため、一定時間一定温度で加熱した後、徐々に温度を常温…

    一般的にプラスチックのアニール処理は主に歪み取りが目的になります。 多くのプラスチックは高い圧力で金型に押し込められた状態で冷却されるため 歪みが発生する場合があり、これを残留応力とも言います。 寸法を重視する精密部品...

    メーカー・取り扱い企業: 多田プラスチック工業株式会社

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • セントロサーム 超高温バルクアニール炉 製品画像

    セントロサーム 超高温バルクアニール炉

    超高温熱処理と優れた温度均一性の実現により、ブール・インゴット、ウエハ…

    ワイドバンドギャップ半導体デバイスの歩留まりを向上するためには、応力に起因する欠陥や転位を最小限に抑える必要があります。その手法の一つとして、半導体結晶の超高温熱処理があります。c.CRYSCOO HTA高温アニール炉は、ワイドバンドギャップ半導体のバルク結晶からデバイスまでのバリューチェーンにおいて生産性を大幅に改善させるために開発されました。優れた温度制御(...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用) 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    ローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 活性化アニール炉『VF-3000H』 製品画像

    活性化アニール炉『VF-3000H』

    R&D~量産まで使用可能!3~6インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉

    『VF-3000H』は、超高温処理が可能で、パワーデバイス製造に適した 活性化アニール炉です。 ミニバッチ、50枚の処理が可能で、3インチ~6インチまで幅広い ウェーハサイズに対応します。 ハードウェアと制御システム...

    メーカー・取り扱い企業: 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部

  • 石英ガラス 高純度アニール炉 製品画像

    石英ガラス 高純度アニール炉

    熱源はSiCヒーターを採用!高いクリーン性能を実現した高純度アニール炉

    『石英ガラス 高純度アニール炉』は、アニール工程における 石英ガラス製品の表面汚染を大幅に減少させることが可能です。 ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現。 処理製品の大口径化、長尺化に対応するべく炉体の大型化を進めており、 お客様のご要望に応じて専用設計いたします。 【特長】 ■ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現 ■熱...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンエンジ株式会社

  • 縦型真空アニール装置 製品画像

    縦型真空アニール装置

    ウェハプロセス対応 本格量産システム アニール・シンター・ポリイミドキ…

    スに最適。縦型石英管型アニール装置。 最大8インチ相当のウェハや各種基板に対応。CtoCシステム採用による自動化&クリーンシステム。 中温から高温まで安定した温度分布性能と急令機構による短タクト処理 真空だけでなく各種雰囲気(不活性、酸化、還元)雰囲気処理も可能な多機能型熱処理装置 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

    小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

    横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。 ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム&大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。 石英管急冷機構を標準装備。短タクト処理を実現。 拡張機能により6インチウェハまで対応。 水素雰囲気還元熱処理に加え高真空アニールや減圧中ガスフロー熱処理等各種モードの処理が可能。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置) 製品画像

    ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置)

    300mmウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基…

    真空置換後の低酸素雰囲気(N2)中で高均一性熱風加熱。300mm ウェハをカセット単位で加熱処理。システムLSIポリイミドキュア、フレキシブルプリント基板キュア・アニールに対応。300mmウェハカセット単位のキュアリングで高品質化と量産化を両立 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 真空熱処理装置(ホットプレートタイプ) 製品画像

    真空熱処理装置(ホットプレートタイプ)

    急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングな…

    実績豊富な真空半田付装置の基本構成を応用。半田付用の熱板加熱で高速熱処理。 高密度実装基板・プリント板の成膜前の脱ガス・乾燥。セラミックス材料の乾燥など多用途に最適。 太陽電池セルの低温べ―クや薄膜のアニールにも有効でインライン化にも対応。...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 小型遠赤外線アニール炉 製品画像

    小型遠赤外線アニール炉

    携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉

    携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉です。 (特長) ●遠赤外線の持つ浸透力により、処理時間の短縮が可能。バッチ炉120分⇒10分以下 ●高精度な温度分布が可能。温度精度±3℃ ●省スペース化が可能。従来...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部 東京営業所

  • 加圧RTA装置 製品画像

    加圧RTA装置

    基板加熱温度最高1000℃!基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減!

    150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロセス特有の元素抜けを軽減 ■減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能 ■...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』 製品画像

    DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

    ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能!クオーツ製チューブ型チャ…

    【その他の特長】 ■ターボポンプ搭載可能 ■ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 電線・ケーブル製造装置『プラズマアニーラー』 製品画像

    電線・ケーブル製造装置『プラズマアニーラー』

    ウォームアップ/クーリングダウン時間なし。高品質な連続アニール処理が可…

    『プラズマアニーラー』は、PlasmaIt社製の鉄・非鉄金属製のワイヤ・ チューブ・ストリップ等の長尺物を連続でアニール処理を行う装置です。 高出力アニーリングが可能で、ウォームアップ/クーリングダウン時間は ありません。 小規模設備、低電力で、イニシャルコスト・ランニングコストが リーズナブルです。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

  • RTP装置『AS-Premium』 製品画像

    RTP装置『AS-Premium』

    最大156mm×156mm基板対応!真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

    『AS-Premium』は、大気・真空下プロセスに対応しているRTP装置です。 アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ)で、 低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーターとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大15...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • RTP装置『AS-Master 200』 製品画像

    RTP装置『AS-Master 200』

    ターボポンプ搭載可能!低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

    『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • RTP装置『AS-One 100/150』 製品画像

    RTP装置『AS-One 100/150』

    アニール処理後急速冷却機構!Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…

    ロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ■マスフローコントローラー:最大5 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中) 製品画像

    水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中)

    大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…

    水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理(べーく・アニール)に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 高真空アニール装置 「SAF-52T-II」 製品画像

    高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

    生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

    高真空アニール装置 「SAF-52T-II」は、主に水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去、電極膜の安定化のための熱処理を行うことを目的として開発された装置です。 W460×D350×H35mm の加熱棚が左右計10段、170×134mmの標準トレーを最大60枚収納可能です。 【特徴】 ○独立して稼動可能な...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】 製品画像

    光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】

    耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…

    性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥・焼成できます。 【特長】 ■自由なパルスシーケンス形成 ■独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能 ■独自開発のソフトにて事前に処理結果を予見可能(独自設計ツールSimPulse) ■R&Dから迅速な量産への移行可能(R2R対応可) ※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク

  • アニール機 製品画像

    アニール機

    遠赤外線で各種材質のアニールが可能!複雑形状品、異形材質構成に対応でき…

    【その他の特長】 ■短時間アニール  ・手法従来品に比べ、短時間処理が可能 ■高品質アニール  ・コンベア一方式で、安定したアニールができる  ・成形機と直結した自動連続生産が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 太陽フロロ株式会社

  • スーパータル シングルウェハーリアクター 製品画像

    スーパータル シングルウェハーリアクター

    電子・半導体業界用!1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール

    従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

  • ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置 製品画像

    ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【アルミ旋盤加工・アルミ精密切削】 製品画像

    【アルミ旋盤加工・アルミ精密切削】

    旋盤加工/アルミ加工/精密部品加工

    レーザー加工・板金・製缶 【拠点】 大阪府守口市 フィリール株式会社 本社 ベトナム(ホーチミン) フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■1個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフ...

    メーカー・取り扱い企業: フィリール株式会社 本社

  • 【切削加工・アルミ加工】 製品画像

    【切削加工・アルミ加工】

    切削加工/金属加工

    レーザー加工・板金・製缶 【拠点】 大阪府守口市 フィリール株式会社 本社 ベトナム(ホーチミン) フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■1個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフ...

    メーカー・取り扱い企業: フィリール株式会社 本社

  • RTA装置 製品画像

    RTA装置

    トレイ搬送にも対応可能!優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

    『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

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