『JPCA Show 2024』に出展のご案内

PR電子回路業界及び関連業界全体の発展に寄与する展示会に出展します！

株式会社アインは、東京ビッグサイトで開催される『JPCA Show 2024』に 出展します。 当展示会は、様々な電子・情報通信・制御機器に使用される 電子回路・実装技術や、新しいコンテンツとソリューション等を展示。 当社はパワーデバイス用の厚銅セラミックス基板「AMB基板」及び、 メッキ法を用いたセラミックス配線基板「DPC基板」を展示予定です。 皆様のご来場を心よりお待...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイン 本社工場

【単品～量産まで対応可！】基板改造・基板改修サービス

PR1台でも、100台でもお任せください 難易度の高い基板もスピーディー…

基板改造・基板改修はアート電子にお任せください。 リワーク、ジャンパー配線、パターンカットなどのスピーディかつ正確な作業に加え、これまでの豊富な基板改造・基板改修の実績に基づくノウハウのご提供や、より効率良く確実な改造・改修につながるご提案を行います。結線・カットする箇所さえご教示頂ければ、最も効率的な配線を当社にて考案し、ご提案することが可能です。...1台でも、100台でも、お気軽にご相談く...

メーカー・取り扱い企業： アート電子株式会社 本社

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。 基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

スピン洗浄装置　自動フォトリゾ装置 JASC-1200AD型

対象ワークは200mm□基板又はφ300mm基板に適用します！

レー現像を自動で行う装置です。勿論工程の選択も出来ます。ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1人で作業が出来ます。工程間の搬送は多関節ロボットを採用しています。本機の対象ワークは200mm□基板又はφ300mm基板に適用します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

ファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。 また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 【特長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネッ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

多元スパッタリング装置

基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…

『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、 金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。 また、基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、 均一な膜厚分布を実現します。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し、基板温度900℃...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

処理装置の総合カタログ「枚葉式ウエハ処理装置総合カタログ」

【無料配布中】自動エッチング装置や自動基盤用現像装置の総合カタログ

2インチから18インチのウエハ及び300mm口基板をローダーより多関節ロボットを使用し各工程を経てアンローダーカセットまで自動で処理する「枚葉式ウエハ処理装置」の総合カタログを無料配布中です！ デモも随時ご相談受付ておりますので、ぜひお気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ロードロック式スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

『ロードロック式スパッタリング装置』は、ムービングマグネットにも対応し 全面エロージョンが可能です。 当社独自のスパッタカソードや急速昇降温基板加熱機構を搭載し 基板温度900℃を実現。 発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜ができます。 【特長】 ■当社独...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

『ドライエッチング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動で 連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作いたします。 ガス種およ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

スピン洗浄装置　自動フォトリゾ装置

【デモ機貸し出し可能！】ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1…

う装置です。 勿論工程の選択も出来ます。 ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1人で作業が出来ます。 工程間の搬送は多関節ロボットを採用しています。 本機の対象ワークは、200mm□基板又はφ300mm基板に適用します。 詳しくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

スピンドライヤー（乾燥機）

【デモ機貸し出し可能！】シリコンウエハーやマスク、フィルム基板のスピン…

ハーの乾燥が出来ます。12インチは2キャリアタイプまで。 ・異常振動が発生した場合、自動的に停止します。 ・特殊シールにより回転軸からのパーティクルの発生を防止しています。 ・特殊仕様/ガラス基板、セラミック基板系のスピン乾燥機も製作しています。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

『アッシング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動連続処理することが できる量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング 及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

す。 プラズマエミッションモニターによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜、圧電特性低下に寄与する元素検知も可能です。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

スピンドライヤー　SPD-1200G

【デモ機貸し出し可能！】蓋にULP又はHEPAフィルターを内蔵し、クリ…

本機は、ガラス基板やセラミックス基板、フィルム基板等の乾燥を行う装置です。 乾燥物は、専用カセットに入れた物をスピンドライヤーのローターにカセット枠を設け、其処にセットします。 チャンバー内は回転で陰圧となり、蓋...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

スピン洗浄装置　卓上型マニュアルスピンコーター

【デモ機貸し出し可能！】300mm□ガラス基板対応の卓上型マニュアル式…

卓上型マニュアルスピンコーターは、300mm□ガラス基板対応の卓上型マニュアル式です。 条件設定は操作パネルのタッチパネルで行います。 各処理モード中はタッチパネル上に各モードが表示されます。 詳しくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ロードロック式EB蒸着装置

好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセ…

『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最高900℃の高温プロセスが可能で...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社