特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置

PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富山技販

真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

DLCコーティング装置

広範な膜特性の制御可能！基板加熱源は水冷型と加熱型から選択いただけます

また、マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作できます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能 ■基板加熱源は水冷型と加熱型から選択可能 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 ■様々な基板材質に成膜可能 ■広範な膜特性の制御可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ドライフィルムラミネーター

ドライフィルムラミネーターのご紹介です

・有効：600mm ・速度：Max3.0m/分 ・ロール：特殊耐熱シリコン ・加圧：エアーシリンダー ・加熱：遠赤外線ヒーターMax150℃ ・電源：単相200V/JK型 ・加熱：電磁誘導発熱方式...プリント基板（リジットPWB）製造工程において、各種銅張積層板に感光性レジストフィルム（ドライフィルム）をラミネートする専用機です。 ■その他機...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エム・シー・ケー 東京 電子事業本部

油圧式混合装置『リアクターHシリーズ』

優れたパワーと性能！大規模専門業者向けの油圧式混合装置をご紹介いたしま…

『リアクターHシリーズ』は、高い生産性と高出力のスプレー性能を実現する 油圧式混合装置です。 混合比率の増減エラー検出時の圧力不均衡の調整が可能。 1:1以外の固定比率の用途にAポンプまたはBポンプを柔軟に変更できます。 この他にも、実証されたグラコの油圧式リアクター技術と可変比率機能を 組み合わせた可変比率混合装置「リアクターH-VR」も取り扱っています。 【特長】 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイシス