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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置
PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…
『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販
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設置場所を選ばない卓上タイプ!研究・開発用途に最適な熱式ナノインプリン…
明昌機工の『NM-1101』は、研究・開発用途に最適な 熱式ナノインプリント装置です。 熱インプリント、室温インプリントの2種類のナノインプリント機能を 備えていて、高速加熱冷却が特長です。 設置場所を選ばないコンパクトな卓上タイプです。 【特長】 ■研究・開発用途に最適 ■高速加熱冷却 ■モータ駆動によるソフトプレス ■設置場所を選ばないコンパクトな卓上サイズ ■...
メーカー・取り扱い企業: 明昌機工株式会社
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『熱硬化型焼結銅ペースト』半導体パッケージの高集積化に貢献
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高精度かつ高強度!『メタルコアシリーズ』
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