小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

熱CVD装置

反応ガスの流れが均一！反応室内にガスが淀むことがない熱CVD装置

『熱CVD装置』は、試料装填後、真空に排気した反応管内で気相成長を 行うための装置です。 石英製反応室、基板加熱系、真空排気系、ガス導入系及び制御系からなり、 基板上に成膜が出来ます。 本装置に使用する真空系構成部品は、真空の復旧が容易となる様、適した 高温熱処理を施した材料を用いています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所

原子層堆積装置『AFALD-8』

優れた段差被覆性と精密な膜厚制御！高品質な成膜が可能

クタタイプ：プラズマ、熱 ■プラズマ方式：CCP、13.4MHz 最大1000w ■前駆体（金属プリカーサ）搭載数：最大4基 ■反応ガス搭載数：最大3系統（マスフローコントローラ） ■最高基板加熱温度：400℃（設定値） ■真空ポンプ：ドライポンプ（ケミカル対応型） ■ホットウォール：標準搭載 ■配管加熱：標準搭載 ※個別制御可 ■圧力コントロール：自動調圧バルブ ※各室個別制御可...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

熱風式プリヒーターXPR-610【デモ機無料貸出可】

ROHS対応・高出力ヒーター搭載、多層基板のプリヒートに！

●PID制御 　正確な温度管理が可能です。 　基板に合わせて加熱範囲を変更可能です。 ●デジタル表示 　設定温度が一目で確認できます。 ●静電気対策仕様 ●簡易型基板ホルダー付属 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...■型番：XPR-610 ■定格電圧：100V AC 50/60Hz ■消費電力：590W ■電源コード：1.5m(...

メーカー・取り扱い企業： 太洋電機産業株式会社

電熱器具・抵抗器などに使用　絶縁シート

耐熱性、耐水性及び電気絶縁性に優れています！

絶縁シートD581、D581Aは、集成マイカをシリコーン接着剤で一体化した製品です。 高温時における発煙、臭気、ガスの発生及びふくれなどが 非常に少ないことが特徴です。 本製品は加工性にも大変優れていることから、 ユーザー様よりご要求頂いた形へ加工させて頂くことで、 各種耐熱絶縁部品として幅広くご愛顧頂いております。 また、UL94 V-0に加え、UL サーマルインデックス74...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社岡部マイカ工業所

フリーマウント式金属蒸着源『KFMD-1』

メンテナンスフリー！ボートタイプで取扱容易なフリーマウント式金属蒸着源

『KFMD-1』は、ボートに材料を充填し、通電加熱により蒸着をする 簡易蒸着源です。 ボート(蒸着)向きの調整が可能なため、取付方向を選ばず、 既存の装置への増設に対応可能です。 熱輻射シールドなどを設置することで、基板や真空槽内部への ダメージを軽減することができます。 小型で簡易な設計の為、研究開発用途におすすめです。 【特長】 ■コンパクトな取り付けフランジI...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社