特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置

PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富山技販

小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

真空重ね合せ装置　真空貼合装置

真空中で2枚のガラス基板等のアライメントを行い、高精度に重ね合せます。

ガラス基板等の仮固定用にUVランプを装備しております。...基本仕様 基板サイズ Max: 300 (W)x400 (L)mmt:0.5~11mm 重ね合せ精度 10μm以下(パターンピッチ公差含まず) 真空チャンバー 真空度10Pa以下 加圧力 Max 1,000kgf (ロードセルにより検出) ガラス基板固定 静電チャック方式 加熱機構 上下テ...

メーカー・取り扱い企業： 常陽工学株式会社

分子線エピタキシー（MBE）装置

コンパクトなサイズ（１インチ〜２インチ）対応のMBE装置です。

D-Cell）を搭載しております。また、他社製蒸着セルの搭載も可能であり、ご指示頂きました蒸着セルをご選択可能な設計をしております。超高真空対応に、標準にて液体窒素用シュラウドを装着しております。基板加熱・回転機構を装備しております。窒化物半導体や酸化物半導体は、RFアトムソースを接続する事により、成長可能です。また、蒸着チャンバーを複数ドッキング可能な設計になっており、将来的な増設等のご希望にお...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

真空貼り合せデモ機による試作評価に関するFAQ　真空貼合装置

真空貼合の試作評価をやってみませんか？

平面もしくは湾曲面に対して、液晶ディスプレイや機能性フィルムを高精度に真空貼合するためのノウハウで、御社の試作評価にお応えします。 デモご希望の方は、弊社HPまでお問合せください。...・実験室はクリーンルームですか ・実験室は温湿度管理できますか ・実験室は暗室になりますか ・どんな貼り合せ方式の試作評価ができますか ・ガラス以外の基板も対応できますか ・アライメントのレベルはど...

メーカー・取り扱い企業： 常陽工学株式会社

イオンアシスト蒸着用TELEMARKイオンソースシリーズ

イオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供します

TELEMARK製のイオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供いたします。イオンアシスト蒸着（IAD）技術は余分な基板加熱なしに高密度で安定な成膜可能なプロセスです。TELEMARKのグリッドレスイオンソースシステムは独自のデザインのイオン源により、ガラス、プラスチック、金属の様々な基板で安定なイオンアシスト蒸着を可...

メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社

原子層堆積装置 「ALD-Series」

複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…

クト比の基板に対しても付き回りよく成膜することが可能 ○基板温度を抑え成膜することが可能 ○基板面内分布に優れている 【仕様】 ○φ4インチ基板、25枚一括処理 ○基板回転機構 ○基板加熱温度：25～120℃ 【対応膜種】 ○SiO2 ○TiO2 ○Al2O3 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

Smart film Vacuum Conditioner

PET Filmの前処理　&　Filmの熱収縮の調整　＆ITO膜の連続…

Smart film Vacuum Conditioner(SVC)はPET Filmの脱ガス・脱水分などの前処理及びFilmを無張力状態に加熱処理することで、Filmの熱収縮の調整（平坦化）、ITO膜の連続的な結晶化処理が可能な設備です。 ■装備特徴 • Flimを無張力で熱処理して0.1%以下の極低熱収縮Filmを生産 • 均一な基板温度に加熱可能 (基材の平坦化) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＵＫＷＯＮ

周辺機器　真空プローバーシステム

お客様のニーズに応えて新しい真空システムの誕生です！

当社では、お客様のニーズに応えて新しい真空システム 『周辺機器　真空プローバーシステム』の設計・製造・販売を行っております。 【特徴】 ○真空チャンバー部分は内寸φ150（内径）ｘ90ｍｍ（高さ）と 大き目な設計のため冷却、加熱機構の他、研究用途に応じた対応が可能 ○本体寸法：420ｍｍ（幅）ｘ420ｍｍ（奥行き）ｘ545ｍｍ（高さ） ○チャンバー内寸：φ150（内径）ｘ90ｍｍ（高さ） ○アル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

ヌード型複合真空計『SG701シリーズ』

容易に取付け可能！筺体・電源等を省略した新しいかたちのヌード型複合真空…

『SG701シリーズ』は、各真空計コンポーネントを分離して装置への 組み込みを簡素化した装置組込み型の真空計です。 B-Aゲージ測定子内にピラニフィラメントと温度センサーを設け、 大気から超高真空領域までの広範囲の測定・制御が可能です。 また、グリッド・コレクタを常時、通電加熱した計測（タフモード）を オプションとしてご用意しており、汚染劣化・コレクタの感度低下を 低減いたしま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ミラプロ

研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

【ラインアップ(抜粋)】 ＜真空成膜装置＞ 　■RFマグネトロンスパッタ装置 　■対向ターゲットスパッタ装置 　■電子ビーム蒸着装置 ＜各種研究用装置＞ 　■高真空高温炉装置 　■基板加熱装置 　■電流導入端子各種 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

パルスレーザパルス蒸着システム

パルスレーザパルス蒸着システム

ム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

真空技術とFAの要素技術を融合！設計・製造からサポートまで対応

重ね合わせ装置やシール剤塗布装置と窒素置換容器、特型GBの設計・制作

半導体・各種産業向けの蒸着装置、スパッタ装置、ＣＶＤ装置等の成膜装置の設計・製作を行っております。装置完成後の現地搬入・立ち上げ、稼動後の保守を含めたトータルでのサービスが可能な体制となっております。排気セット等のユニット単位での設計製作も行っております。また、各種実験補助設備の設計や真空設計の応用に豊富な経験があり、仕様検討の段階よりお手伝いさせていただきます。...【製品】 蒸着膜形成装置 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス

真空薄膜形成装置や表面分析装置　長年培った真空技術がこの一冊に！

長年培った真空技術！真空機器関連及び理化学機器における製品ラインアップ…

【掲載製品　抜粋】 ■コンパクトレーザーMBE装置 ■モバイルコンビレーザーMBE装置 ■アクセスドア光学システム ■RHEEDユニット ■基板加熱ユニット ■磁気結合型回転導入機　　ほか ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル