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19件 - メーカー・取り扱い企業
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PR手間なく(ワンタッチ)・簡単に(工具レス)・誰でも同じ力で強力固定。フ…
装置や設備の段取り作業(スライド調整/角度の割り出しなど)において、 このようなお悩みはございませんか? ・締めすぎ・締め不足による力のバラツキ、締め忘れが発生する ・誰でもミスなく作業ができるようにクランプ完了を見える化したい ・ネジでの締め付けでは手間と時間がかかりすぎる プッシュクランパーとはレバー操作でワンタッチ固定が可能。 クランプ完了がわかりやすく、誰でも確実...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イマオコーポレーション
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PR安全性が高いClass1製品仕様!高出力パフォーマンスでリーズナブルな…
『UBI Basic』は、アルミ・鉄・SUS等の金属部品、工具、銘板などの 小・中型ワーク向けの高出力でコストパフォーマンスに優れたレーザーマーカーです。 一品一様のマーキング工程に適しており、独自のMicro aWave レーザーソースにより様々な対象物にマーキングが可能。 Z軸ボタンによりステージの昇降、電磁式インターロックを 標準搭載、正面スタートボタンで簡単にマーキング開...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社東陽 グローバル商品課
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
ピ管理などの全てを7"タッチパネルで一元管理。 ◉ ユーザの登録したフィルムレシピ、プロセス制御(真空引/ベント、成膜時間、出力/時間、MFC流量圧力自動制御、カソード切替、シャッター開閉、加熱・昇降回転調整など)を全自動運転(手動も可能)〜Windows PCでデータロギングができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ・2inchマグネトロンカソードx3源(標準1源) ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ ステージ上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式) ◉ 基板回転 ◉ RF(1KW)/DC(800V)バイアス印加(逆スパッタ) ◉ 使用環境に応じたエレメントの選択: グラファイト, CCコ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
チングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LP...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃
CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…
r), 不活性ガス, H2, He, CH4, C(*O2不可) ◎ 基板固定用サンプルクリップ付属 ◆オプション仕様◆ ◎ 真空フランジ(JIS, ICF, ISO) ◎ 基板回転, 上下昇降機構 ◎ ヒーターコントローラ Model. BWS-PS/HC-Mini...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
最大3源) ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能(オプション 要仕様協議) ◉ その他オプション: 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
M-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板回転/昇降, プラズマエッチング, ドライポンプ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下昇降 300mmストローク ・基板シャッター ・ドライポンプ(RP標準) ・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
+ 有機蒸着源x1(*DCスパッタのみ) ・蒸着範囲:Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系:ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ(ロータリー、又はドライスクロールポンプ) ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作(’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタカソード x 3:自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:基板回転・昇降、基板加熱(Max500℃)、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)連続多層膜・2源同時成膜(RF/DC...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
チングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
最大3源) ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能(オプション 要仕様協議) ◉ その他オプション: 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下昇降 300mmストローク ・基板シャッター ・ドライポンプ(RP標準) ・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
最大3源) ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能(オプション 要仕様協議) ◉ その他オプション: 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
又はSQC-310) 多チャンネル薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライポンプ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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