- 製品・サービス
35件 - メーカー・取り扱い企業
企業
14件 - カタログ
302件
-
-
エアカーテン『Pamir』※設置効果シミュレーション付き資料進呈
PR【電気代削減・シミュレーション無料】均一な空気のカーテンで冷気をしっか…
FRICO社は、スウェーデンで85年以上の歴史があり、 その「エアカーテン」は世界でも高いシェアを誇る製品です。 『Pamir』は、隙間のない均一な空気のカーテンにより、 建物の出入り口における空気の流出入を防ぐ製品です。 整流効果の高い独自構造を採用。噴流幅が薄く、噴流速度も一定の為 到達風速分布が安定し、優れた熱遮断効果が得られます。 空調効率の向上が期待でき、大幅な...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フカガワ
-
-
PR親水性による水膜形成で気化冷却を促進。空調室外機や屋根の散水冷却などに…
『エクセルピュア』は、アクリル、ポリカーボネート、PET、 ガラスなどの基材表面に超親水被膜を形成するコーティング剤です。 親水性により、被膜表面に付着した水分が薄い水膜を形成し、 水分の蒸発が促進されることで気化冷却効果が生まれ、 施工部分の冷却効率が改善されます。 ★PDFダウンロード”より、本製品のカタログのほか 散水後の表面温度観察結果をまとめた資料をスグにご覧いただ...
メーカー・取り扱い企業: 中央自動車工業株式会社 営業開発部 営業推進グループ
-
-
複雑な加熱コイル形状に威力、高周波加熱、温度、発熱、磁場分布が見える!
ます。 クッキングのIHヒーティングお始め、機械加工、プレス、鋳造に至ります。 課題は誘導加熱コイルが複雑な配置をしておりモデル定義が困難なこと、 温度依存性を考慮した解析でなければ、実際の温度分布と差が出てしまう等 があります。 μ-TMは誘導加熱専用モジュールとする事で、これら課題に挑戦しています。 【特長】 ・誘導加熱コイルによる磁場解析と非定常温度解析をシームレスに ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ミューテック
-
-
12インチ対応 ウェハーワックス貼付装置『TEC-1001MB』
化合物半導体ウェハーなど、様々なワークに対応可能です!
ス貼り付け専用の装置です。 ウェハーの特性に合わせ、圧力や温度、時間の条件設定が可能で、 デバイスへのダメージも抑制できます。 加熱・冷却機構の適正化と高剛性な機構設計により、均一な温度分布や 安定した荷重分布を実現し、精度悪化に影響するワックス厚みムラの発生を防ぎます。 【特長】 ■ウェハーの特性に合わせ、圧力や温度、時間の条件設定が可能 ■デバイスへのダメージも抑制で...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社くまさんメディクス MPSD事業部 大津第1工場
-
-
250℃のロール表面温度で±0.5℃以内の温度分布を実現するジャケット…
高温下で円筒度・真円度ともに0.003mm以内 ■常温下の円筒度・真円度・振れは究極ともいえる0.002mmを実現 ■カレンダやコーティング時の微小な変形を防止 ■ロール表面温度250℃での温度分布は±0.5℃以内の高精度 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: トクデン株式会社
-
-
ロータリー式ベーキング装置
当社が開発したロータリー式ベーキング装置、ムーブ・スカイは縦型炉構造のため設置面積を大幅に縮小しました。各ステージの仕切り壁により昇温時間の短縮、温度分布の向上、熱効率の改善を実現できました。また従来型タイプよりも搬送トラブルが減り、投入・取出しはラインとの組合せが簡単です。 ★設置スペース大幅縮小 縦型炉構造であるので設置スペースを大幅に縮...
メーカー・取り扱い企業: 木田精工株式会社
-
-
ウェーハ温度分布計測に必要不可欠なツール
【特徴】 ○半導体製造装置の開発・プロセス条件出しや温度分布計測に必要不可欠な 熱電対付きシリコンウェーハを温度計測器専門メーカの安立計器がご提供 ○引張荷重200g以上という高強度な熱接点固定部を実現 ○熱電対の経年変化による精度ズレの影響を最小...
メーカー・取り扱い企業: 安立計器株式会社
-
-
【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃
CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…
-BN(BNプレート, Moカバー):φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃(SH-BN), 850℃(SH-IN) ◎ 短時間昇温 ◎ 面内温度分布 ±2%以内 ◎ 制御精度・再現性±1℃ ◎ 低価格 ◎ 短納期(標準約2週間 *フランジ付き, 回転・上下機構, 取付ブラケット付きなどは除く)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
基板温度900℃を実現!基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…
『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、 金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。 また、基板ステージに3軸機構(昇降、公転、自転)を搭載し、 均一な膜厚分布を実現します。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し、基板温度900℃を...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
-
-
基板加熱温度最高1000℃!基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減!
加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロセ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
-
-
熱源はSiCヒーターを採用!高いクリーン性能を実現した高純度アニール炉
するべく炉体の大型化を進めており、 お客様のご要望に応じて専用設計いたします。 【特長】 ■ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現 ■熱源はSiCヒーターを採用し温度分布性能の向上を図る ■対象製品の大きさに合わせて専用設計が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: アドバンエンジ株式会社
-
-
最高温度400℃!小型、高温のホットプレートです。
高温ホットプレート「PA4007型」は、全体サイズが158×106mmと小型のため、様々な場面でご使用頂けます。 また、最高で400℃まで加熱出来ますが、温度分布も±0.8%と大変優れています。 MSAファクトリーのデジタル温度コントローラ PCCシリーズとワンタッチで接続頂けます。 【特徴】 ○最高温度:400℃ ○プレートサイズ:70×80...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社MSAファクトリー
-
-
『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』
半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
VD装置」 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 「カーボンナノチューブ合成装置」 ■全自動でCNT合成が可能 ■優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現 ■基板プラズマクリーニングシステム搭載 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
-
-
フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…
『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応して...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
-
-
光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…
計) 4.カーボンヒータの抵抗値の設計 5.電極設計 6.冷却水系統の設計 7.給気・排気系統の設計 8.運転モード設計 9.炉内の流れの設計指針(製品品質を考慮) 10.温度制御・温度分布測定方法 カーボンヒータ加熱炉の主な仕様 (1)最高温度:2,500℃ (2)ヒータ:断熱材:カーボンヒータ/カーボン系成形断熱材 (3)炉体構造:水冷ジャケット (4)炉体材質:ス...
メーカー・取り扱い企業: プロセスD&Tラボ 千葉
-
-
200mm/300mmウェーハ、ガラス、250mmのサブストレートPK…
【フラックスレス蟻酸リフロー】 ■処理時間:60~100枚/時 ■プロセス温度:100~260℃ (最大450℃) ■温度分布:±3℃以下 (9-point 測定) ■省スペースフットプリント: 4.95m2 / L x W x H =1.8 x 2.75 x 2.55 m 4層シングルウエハーチャンバー設計によ...
メーカー・取り扱い企業: Yield Engineering Systems, Inc.
-
-
枚葉式プラズマリフロー装置(フラックスレスリフロー)テスト受付中
フラックスレスウェハバンプリフロー装置。微細バンプのリフローをウェット…
チャージアップダメージフリープロセス。 信頼性の高い安定した搬送機構 均一な温度分布による300mmウェハ面内のリフロー温度プロファイル 300mmウェハの本格量産ラインに対応。各種上位通信、SMIFポッド等規格対応。 テストから設計、納入、立上まで一貫したチームサポート...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
-
-
ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」
膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。
昭和真空は、約15年の実績を誇るベストセラー装置SPH-2500のフルモデルチェンジを行いました。 ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」は、従来装置の特徴を受け継ぎつつ最新のテクノロジーを採用し、あらゆる面で従来機を超える性能を達成致しました。 【特徴】 ○外形:W1200×D2500×H1440設置面積はそのままに大幅に低背化を実現 ○カソードを改良すること...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
-
-
真空アニール装置
、セル内部の水分や有機ガスを除去できるので、パネルの品質も向上させることが出来ます。内部ヒーターやファンの改良により、クリーン度の高い槽内環境を実現しました。 当社独自の技術により、真空加熱中の温度分布がよく、プロセス時間も短縮されます。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社協真エンジニアリング 本社
-
-
スプレーコーター内での使用、薬液関係等、水のかかる環境での加熱工程に最…
【標準仕様】 ○温度設定範囲:室温~150℃ ○プレートサイズ:620×500mm(カスタマイズ可) ○電源電圧:AC200V, 3kW(カスタマイズ可) ○温度分布:±2.5% ○温度コントローラー:PCC-100, PCC-107等 ○保護等級:IP43程度 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社MSAファクトリー
-
-
液晶ディスプレイの第7世代以降の大型パネル対応
加圧・加熱により粘着シート等の粘着剤に混入した気泡を除去し、粘着強度を短時間に増大させる装置です。 当社独自の技術により均一な温度分布が得られ、プロセス時間も短縮されます。 液晶ディスプレイの第7世代以降の大型パネル対応のインライン枚葉式のオートクレーブ装置もご用意しております。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社協真エンジニアリング 本社
-
-
多様な温度プロファイルに対応!気流制御でワークの酸化・汚染を抑制します
『SC3305』は、前設備から直接基板を受け取り、キュア後マガジンへ 収納まで全自動で行うインラインキュア装置です。 8品種自動切替え機能を標準装備。 1基板上3点計測における温度分布を±5℃以内に治めます。 マガジンアンローダーは、空マガジンストック、満杯マガジンストックとも 306mmの有効スペースを確保(標準仕様)しました。 【特長】 ■8品種自動切り替え...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社双葉機工
-
-
ウェットエッチングによる、コストダウンに配慮した仕様をご提案します。
自動薬液供給、秤量、回収装置を装備可能。 ■エッチング液の濃度管理機構の装備が可能。対象薬液はご相談ください。(例:TMAH、KOH、HF、HCLなど) ■出荷前検査としてエッチング処理槽内の温度分布の計測が可能。 ■上下揺動機構の他、ウエハー回転機構の追加が可能。 ※当社の東京テストセンター(墨田区)にて、テストを実施頂けます(オンライン対応可) ※詳しくはカタログをダウンロード頂...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン
-
-
不良及び結晶欠陥の解析に有効!幅広いクライオスタット用のインターフェイ…
『DLS-83D/1000』は、温度、周波数スキャン、C-V特性等の測定が可能な バルク内欠陥・界面準位測定装置です。 「DLS-1000」は、10^8cm3レベルのバルク内欠陥、界面準位の高感度な 測定に対応。ライブラリーを標準装備しておりますので解析が容易に行えます。 高感度アナログ/デジタル(測定はアナログ、データ処理はデジタル) ロックイン平均法を採用したユニークなシステ...
メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
-
-
電熱機器のエキスパートとしてお客様の加熱工程をトータルサポート
するマンション型加熱装置をはじめ、マガジン加熱装置にて 製品の品質向上、歩留まりの改善に貢献 ○水晶デバイス製造工程 →ブランクマウンタ後のキュアに於いて従来の遠赤方式と比較し 良好な温度分布にて製品の品質向上に貢献 ○その他の工程 →LED光束維持試験装置・ホットプレス ○自動車関連をはじめとした様々な製造工程 →大型加熱熱板・金属ブロック加熱装置・高温加熱装置・高温灼熱ブロ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社九州日昌 東京営業所
-
-
ウェハプロセス対応 本格量産システム アニール・シンター・ポリイミドキ…
ネスや低酸素濃度を求められるプロセスに最適。縦型石英管型アニール装置。 最大8インチ相当のウェハや各種基板に対応。CtoCシステム採用による自動化&クリーンシステム。 中温から高温まで安定した温度分布性能と急令機構による短タクト処理 真空だけでなく各種雰囲気(不活性、酸化、還元)雰囲気処理も可能な多機能型熱処理装置 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
-
-
携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉
携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉です。 (特長) ●遠赤外線の持つ浸透力により、処理時間の短縮が可能。バッチ炉120分⇒10分以下 ●高精度な温度分布が可能。温度精度±3℃ ●省スペース化が可能。従来連続炉の30% ●前後装置の導入により、自動化が可能。 ※テスト機を保有していますので、テスト検証が可能です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部 東京営業所
-
-
スプレーコーター 立体レジスト塗布装置 DC110/DC210
MEMSデバイス及び各種半導体研究用に開発されたスプレーコー夕ー!
スプレーコーター 立体レジスト塗布装置 DC110/DC210は、はMEMSデバイス、及び各種半導体研究用に開発されたスプレーコー夕ーです。微細粒子化が可能なスプレーノズルにより、サブストレート上の傾斜面、台形や直角頂点部といった従来のスピンナーで塗布が困難であった部分にも均一な膜を形成できます。スピンナーでは実現が難しいキャビティ、ビアホール、トレンチ構造へのレジスト埋め込み塗布も可能です。塗布...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナノテック
-
-
複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…
ALD(Atomic Layer Deposition)とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを繰り返すことにより薄膜を形成します。 一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能となり、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成する事が可能です。 【特徴】 ○複雑な形状の基板への成膜に最適 ○低温成膜で樹脂基板にも対応 ○ガスバリア性に優れた薄膜が得られる...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
-
-
最高900℃の高温プロセスが可能!エピタキシャル促進機構により単結晶成…
『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。 基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
-
-
SiCトレーを採用!搬送システムで、大量生産を可能にするとともにコスト…
『A6300S』は、毎時120枚のスループットを擁する小口径ウェハ対応 大量生産用連続式常圧CVD装置です。 自動トレー交換装置、ヘッド昇降機構を備え、メンテナンス時間を短縮し 生産可能時間を延伸するとともに、お客様の大量生産のニーズとオペレータの 安全にも配慮しました。 【特長】 ■高い生産性:毎時120枚の処理が可能 ■重金属汚染対策:ウェハ裏面からの金属汚染を防止 ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所
PR
-
熱・電磁界解析ソフト【μ-EXCELフリーのデモ版・無料体験版】
今すぐダウンロード!【エクセルで行う簡単・速い初期判定用 熱・…
株式会社ミューテック -
面状発熱体 『ポリイミドヒーター』
薄手!柔軟!だから多種多様な形状で使用可能な面状発熱体ヒーター…
シンワ測定株式会社 FE部 -
暑熱などのお悩みを解決!熱流体解析ソフトにより工場の温度を最適化
熱流体解析ソフトの活用と送風機メーカーのノウハウで工場の温度を…
SDG株式会社 推進Gr