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PRLiF粒など、各種結晶粒(真空蒸着材)取り揃えております。KBrヘキカ…
当社は、光学結晶メーカーならではの豊富な品揃えとスピーディーな対応で、 多種・少量の研究・試作用製品から量産品まで、ご要望にお応えします。 真空蒸着材 単結晶粒のサイズは2-5mm。記載されたサイズ以外も対応可能です。 また「KBrヘキカイカット品」は、"KB4SQ-1"(4x4x1 mm)や"KB7SQ-1-2"(7x7x1-2 mm)を ラインアップしております。 【真空蒸着材 ラインア...
メーカー・取り扱い企業: ピアーオプティックス株式会社
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フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】
PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…
本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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高温高真空装置としての各種安全装置を搭載した高温マイクロビッカース硬度…
を設定すると 自動的に試料を移動させ正確に設定ポイントで打刻・測定を行ないます。 【特長】 ■JIS Z 2252に準拠 ■50~5000gの試験荷重に対応 ■試験温度1200℃までの真空高温炉を搭載 ■試験部と圧子部の温度を個別に制御 ■角型、丸型など、各種形状に対応した試料ホルダ ※詳しくは、お問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社インテスコ
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電子顕微鏡の試料に導電膜処理を施す装置です
パッタ装置』は、ターゲットの背面に強力な磁石を用いて カソード表面層でのイオン化を促進し、電界によりイオンをターゲットに 衝突させて金属分子を放出させる原理を応用させたものです。 株式会社真空デバイス製の本装置は試料へのダメージが極めて少ないことが 特長です。 また、スパッタターゲットの種類、試料のサイズ、価格など、 お客様のご要望に合ったラインアップを各種取り揃えております。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ユニオン
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神港精機株式会社 東京支店