フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

フィードバックステージシステム総合カタログ（大気・真空）第5版

リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現！特注製…

当社が設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置および 真空対応高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)の総合カタログです。 フィードバックステージ・フィードバックステージコントローラ、 ケーブル、オプションについての仕様・構成・価格な...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔ

多目的、実験用全自動成膜装置。マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔ型…

型試料台で試料損傷回避 ○高速排気・簡易操作で能率的成膜 ○イオンボンバードで親水性処理機能 ○小形卓上型・小スペース ○強磁場による多種金属成膜可能 ○TMP+ダイヤフラムポンプで清浄高真空 ○低価格・コストパフォーマンスの良い機能 【その他の特徴】 ○スパッタし易い貴金属の他､Mo,W,等の重金属からTi､Al等軽金属をターゲットとし､強磁場マグネトロン方式の電極により成膜...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージFS-1020UPX(V)

【真空で使用可能】1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置…

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバー内で使用可能です。 リニアエンコーダを内蔵しているため、クローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

油拡散ポンプ用省電力ユニット 「ECO-22」

環境対策・電気代削減に役立ちます。

「ECO-22」は昭和真空製内熱式油拡散ポンプ(22インチ)に簡単に取り付けられる省電力ユニットと断熱ジャケットです。ECO-22を用いることで、排気性能を実用上低下させずに、環境対策、電気代削減が可能になります。 【...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

液体２００Ｌ用懸垂式真空容器

世界に先駆けた画期的真空容器

◆製品特徴◆ 〜世界に先駆けた画期的真空容器〜 〜最後の１滴まで真空のまま内部液体を全量吐出〜 ・酸化防止 ・合成保存料、防腐剤の削減 ・胴膨しない特殊構造 ・ウォーターハンマー（水撃作用）現象を回避 ・野外放置仕様は耐爆性防...

メーカー・取り扱い企業： IMARI株式会社

真空仕様エンコーダ

真空環境で使用可能エンコーダ。150℃で48時間のベーキングが可能

■真空環境下でも、高性能を発揮。 　10(-8乗)torr、150℃で48時間のベーキングが可能。 Ｖシリーズは、真空環境用として設計された非接触のエンコーダです。真空仕様のガス発生が少ない材質を...

メーカー・取り扱い企業： ノヴァンタ・ジャパン株式会社 セレラモーション事業部

マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－２０ＭＴ

ターゲットは大きい試料もそのままコーティング可能な４インチサイズ。

マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－２０ＭＴは電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置です。マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。４インチサイズのターゲット仕様。大きな試料・多数の試料を処理可能です。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置です。 ○マグネトロンターゲット採用で、試料...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－１Ｓ

SEM試料のために。試料に優しいマグネトロン方式イオンコータです。

マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－１Ｓは低電圧でコーティングするとともに試料台がフローティング式なので試料損傷がありません。試料に優しいマグネトロン方式イオンコータです。小型で場所をとりません。机の片隅で活躍します。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○低電圧でコーティングするとともに試料台がフローティング式なので試料損傷がありません。 ○試料に優しいマグネト...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

真空対応10nmフィードバックステージ　微小回転タイプ

【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵…

光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。 ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応サブミクロンフィードバックステージ 昇降タイプ

真空中で使用可能！リニアエンコーダ内蔵でサブミクロン分解能のZ軸用位置…

解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－１２インチ

φ300ｍｍサイズに対応する大面積試料ステージを搭載。

マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－１２インチはマグネトロンターゲット電極で、φ300ｍｍサイズに対応する大面積試料ステージを搭載。膜厚ムラは10%以内、ステージ全域を有効に使えます。コーティング電圧500V以下で、イオン衝撃によるダメージを軽減。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○マグネトロンターゲット電極で、φ300ｍｍサイズに対応する大面積試料ステージを搭...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

真空対応サブミクロンフィードバックステージ 微小回転タイプ

真空中で使用可能！回転方向調整用ステージ　

ーズドループ制御を行うため位置の再現性に優れています。 分解能はコントローラによって「0.00005」または「0.0001」分解能で 動作させることができます。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空蒸着用ボート

真空蒸着用フィラメント・ボートです。

◆真空蒸着用ボート(タングステン、モリブデン、タンタル) 0.1t、0.15t、0.2t、0.3t、0.5t　その他の板厚もご相談ください。 ◆真空蒸着用フィラメント(タングステン) 0.4φ〜...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クラフト

真空対応10nmフィードバックステージ　50mm動作

【真空対応】リニアエンコーダの位置情報で再現性が取れる10nm分解能で…

真空中で使用するためにアウトガスを出さない部品でステージを作りました。 そのため、真空チャンバー内にステージを導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社