通常のスクリーン印刷でお困りの方必見！『多様形状印刷転写装置』

PR曲率の大きな凹面等へも印刷が可能！大型の対象物でも対応いたします

「多様形状印刷転写装置」は、リバース転写機構を用いることにより、 これまでのスクリーン印刷では対応が困難だった形状や、曲率半径の 小さな凹面、印刷面に高低差のある形状などにも印刷、転写が可能になる製品です。 ペーストは反転されることなくウェットなまま転写されるため、 パターンの崩れや溶媒の吸収の問題が起きにくく、連続した印刷が 可能になります。 また、一般的なスクリーン印刷以上...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社曽田鐵工

【SCREEN】”塗る”を極めたスリットコータ ※カタログ進呈

PRラボスケールでの高精度塗布を実現。低粘度から高粘度まで、実験・試作段階…

『リサーチコータ』は、液晶や有機ELディスプレー製造工程で 数多くの採用実績を誇る「コーターデベロッパー」の高度な塗布技術を ラボスケールに展開したスリットコータ（ダイコータ）です。 塗布部にはスリット式塗布装置「リニアコータ(TM)」を搭載。 1～10,000mPa・sの低粘度から高粘度の塗布材料を、ガラス基板、樹脂基板、 フィルム、金属箔など様々な基材に高精度にスリットコートでき...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

蛍光Ｘ線式　膜厚測定器　　汎用測定器『 XDLM 237 』

汎用性が高く、電子部品やさまざまな形状のめっき加工品などの膜厚測定や素…

電子部品やさまざまな形状のメッキ加工品などの膜厚測定や素材分析が可能です。 『XDLM 237』は、汎用の高い蛍光X線式測定装置です。 当製品は、品質管理・受入検査・生産管性理における、薄膜コーティングの 膜厚測定や組成分析に好適です...

メーカー・取り扱い企業： アンリツ株式会社 環境計測カンパニー

蛍光Ｘ線式　膜厚測定器　微小部測定用『 XDV-μ 』

ポリキャピラリX線光学系を採用。微小部の薄膜メタライズ、高機能めっきの…

【サンプル試測定実施中】 『XDV-μ』は、ポリキャピラリX線光学系を採用した汎用性の高い エネルギー分散型蛍光X線測定装置です。 当製品は、非常に小さい部品や構造部分を非破壊で膜厚測定・ 素材分析に適した測定器です。 【特長】 ●最小10µmの集光レンズを搭載可 　　従来では測定できなかった微小部の薄膜メッキでも測定が出来ます。 ●検出器には半導体検出器の中...

メーカー・取り扱い企業： アンリツ株式会社 環境計測カンパニー

ウェハ膜厚・表面粗さ測定機　SemDex A32, M1, M2

完全自動化！マルチセンサ技術を備えた高速ウエハ計測・選別システムをご紹…

『SemDex A32』は、ウェハ単層及び多層厚さ・反り・歪み・粗さの 完全自動化・高精度測定機です。 基板層の厚さ・TTV・積層ウエハの全体厚さ・ウエハ反り・歪み・平坦性は、 単一の測定ランにおいてsub-μm精度で測定可能で、nmレベルまでの表面粗さ、 更にTSV・RST、およびミニバンプのパラメータも同様に測定することができます。 その他に、半導体計測の幅広い用途に対応する...

メーカー・取り扱い企業： 伊藤忠マシンテクノス株式会社

シリコンウェハーへの酸化膜受託加工サービス（研究、開発、量産用）

試作対応　少量対応　4～12inch対応　任意膜厚(10nm～20μm…

当社は設立以来、一貫としたシリコンウェハーへの酸化膜加工を行っています。 試作などの少ロットから量産移行後の数量までお応えできます。 また、膜厚についても、他の企業ではマネのできない厚膜加工まで取り揃えており、お客様のあらゆるニーズにもお応えできるようにしております。 特に、当社独自の厚膜熱酸化膜形成技術は光通信を支える光デバイスに欠...

メーカー・取り扱い企業： セーレンＫＳＴ株式会社 本社

CZウェーハ　エピ受託加工　SiGeエピウェーハ　他

小ロットからの対応可能です。特殊なエピ、多層エピなどにも出来るだけ対応…

ohm cm ○エピ厚さ：3-150μ 「多層EPIウェーハ加工」 ＊材料支給も対応可能です。 ＊数枚から加工可能です。 ＊基板Si/GaN/InPなど数層積むことも可能です。 ＊膜厚等の仕様によりバッファー層の有無なども違って参りますのでお問い合わせください。 「SiGe Epiウェーハ」 ＊濃度と膜厚によりますが様々に対応可能です。 ＊直径はMAX8インチまで対応可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

SOIとSilicon Silicon 貼付けウエハー

半導体製作にご提案：ICやMEMS応用、従来の厚エピや反転エピなどから…

【SOIウエハー】：（Silicon-On-Insulator） 100-200mmの厚膜、または<1um以下の薄膜のデバイス層を持つSOIウエハーを供給いたします。 特長： ■シリコンウエハーや熱酸化膜など広い範囲で光工学表面弾性波 　フィルターなどの分野などをカバー可能 ■6シグマの統計学的管理手法に基づくプロセス管理で常に継続的改善を 　進めながら、アイスモスは世界クラスの製品品...

メーカー・取り扱い企業： アイスモス・テクノロジー・ジャパン株式会社

SOIの試作・受託生産サービス（ウェハの研削・研磨・接合）

試作対応　少量対応　4～8inch対応　厚み･形状の任意設定可能　基板…

当社は一般的なSOI以外にもCavity SOIウェーハやThick-BOX SOIウェーハと言った特殊なSOIウェーハも提供しております。 ＜対応範囲＞ ■対応サイズ：6"8" ■活性層膜厚：100nm～200μm ■面内厚み精度：薄膜±15nm～　厚膜±0.5μm ■BOX層厚：最大20μm 【各種SOIウェハー特長例】 ■MEMSデバイス製造の工数削減 ■歩留率の向上...

メーカー・取り扱い企業： セーレンＫＳＴ株式会社 本社

Φ300mm基板対応　ロードロック式スパッタリング装置　

大型基板の自動搬送に対応し、研究開発～量産までの応用が可能な装置です。…

タリング装置です。 【主な特長】 ・Φ300mmを例とする大口径基板のベア搬送が可能 　（角基板の対応も可能です。） ・独自設計のカソード機構により、汎用ターゲットサイズでの 　広範囲膜厚分布を確保 ・ターゲット交換、成膜室の点検/補修が容易なチャンバー構造 ・将来的なプロセス室の増設も可能 ・独自の緻密膜形成ユニットをオプションで搭載可能【特許取得技術】 動画による装置...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

シリコンウェーハ　研磨加工サービス

半導体シリコンウェーハのことなら当社にお任せください

当社では、プライムウェーハ、ダミー／モニターウェーハの加工販売、 および再生加工を行っております。 　 入手困難になりつつある1インチ～3インチSiウェーハも提供可能。 小口径Siウェーハも、お客様のご要望に応じた仕様をご提案いたします。 特殊な厚さや抵抗率なども、お気軽にご相談ください。 【業務内容】 ■シリコンウェーハの再生加工 　・半導体メーカー様より支給された評価...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社松崎製作所

金錫合金めっき

高温鉛フリーはんだ材料として最適！ 金錫合金めっきの量産を実現し、ウ…

金錫合金めっきは金80：錫20組成で共晶点を示し、融点は280℃です。 【ポイント】 ・金錫合金めっきは工程中に高温がかからないため、ウェハが熱劣化しません。 ・膜厚のコントロールに対応でき、薄膜化が可能です。(33％コストダウン実績あり) ・任意に合金比率が変更可能であり、幅広い皮膜組成が得られます。(Au70～90wt％の実績あり) ・微細パターンへのめ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三ツ矢

Si(シリコン)ウェーハ研磨加工

様々なサイズ、厚みに応じた研磨加工が可能です。

・3mm×3mm～156mm×156m ・矩形も対応可 ・仕上がり厚み：25μm～ ・平坦度：TTV1μm以下 ・パーティクル：0.2μm20個以下 ・表面粗さ：0.3nm以下 ・膜厚制御可能 ※詳しくは資料をダウンロードいただくか、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 日本エクシード株式会社

『PLマッピング装置』

フルオートメーション化可能！充実したマッピングができる装置

『PLマッピング装置』は、LED/LD生産のための2,3,4インチウェハ のフォトルミネッセンスおよび膜厚マッピング測定を行う装置です。 自動XYステージ、オリジナルの多機能測定ソフトウェアにより 充実したマッピングが行えます。 また、ウェハ自動供給・収納機構の接続によりフルオートメーショ...

メーカー・取り扱い企業： ユアサエレクトロニクス株式会社

株式会社SGC　修理・オーバーホール・再生・中古販売サービス

弊社に御一報下さい。弊社のネットワークでお探し致します。

)。 ○モーター修理・ロボット修理・石英部品再生・ヒーター再生・アルマイト再生・防着板歪修正・Ｎｉコーディング再生・部品再生洗浄・超純水洗浄・セラミックス部品ＤＲＹ洗浄。 ○材料分析・アルマイト膜厚測定・Ｘ線非破壊分析。 ○ロボット・ロボットアーム・ロボットアクセサリー・中古バルブ（ＶＡＴなど）・中古電源。 ●その他機能や詳細についてはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＧＣ

ALD（アトミックレイヤーデポジション）　アプリケーション例

ALD（アトミックレイヤーデポジション）　アプリケーション例を写真付き…

社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 【アプリケーション例】 ■トレンチの成膜 ・...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

silicon wafer

ウェーハ、シリコンウェーハ、 silicon wafer

シリコンウェハー（英: silicon wafer) は、高純度な珪素（シリコン）のウェハーである。シリコンウェハーは、珪素のインゴットを厚さ1 mm程度に切断して作られる。 シリコンウェハーは集積回路 （IC、またはLSI）の製造に最も多く使用される。このウェーハにアクセプターやドナーとなる不純物導入や絶縁膜形成、配線形成をすることにより半導体素子を形成することができる。 ...シリコンウェーハ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社豊港 半導体材料事業部

１枚からの成膜が可能　成膜加工（CVD）

低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。...【特長】 ○１枚からの成膜が可能です。 ○低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜が可能です。 ○異形サイズの基板への...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社