検査から振り分けまで行える！IVシリーズ搭載 印字文字検査装置

PR【6月のFOOMA JAPAN 2024出展】印字抜けトラブルを軽減！…

当社で取り扱う、IVシリーズを搭載した「印字文字検査装置」をご紹介します。 直感的な操作性で簡単に印字検査を導入可能。NG品の見落としを 防ぐ回転灯やトリガーのタイミングを調整するタイマーなど サポート機能も充実しております。 輪郭、色面積、OCRなどさまざなツールで印字の検査が可能で、 オプションによる振分装置の提案やお使いの振分装置への接続もできます。 【特長】 ■輪郭、色面積、OCRな...

メーカー・取り扱い企業： シール工業株式会社

水風呂システム作ります

PRユニットバスタイプの小型浴槽から大型コンクリート浴槽（タイル・石張り）…

「サウナ用の水風呂」 ・浴槽ろ過装置 ・冷却熱源システム（チラー） ・圧力式水位制御 ●水風呂にろ過装置をお奨めする理由 　水風呂は温度が低いので汗や皮脂などの汚れが凝固しやすく、白濁してしまします。ろ過装置がない場合はすぐに白濁してしまうため頻繁に浴槽水を入替・清掃する必要があります。そのため清掃作業の手間と水道代が多くかかります。 　上水道（水道水）は季節により温度変化がありま...

メーカー・取り扱い企業： サイエンス株式会社

半導体製造装置制御装置 仮想化システム「レガシー製品延命に寄与」

サポート終了の半導体製造装置の長期使用・保守改善・メンテナンスの救世主…

レガシーデバイス、旧 DEC社製PDP,VAX, Alpha,DMCCのミニコン／ワークステーションを搭載している半導体製造装置の制御装置を仮想化するシステムです。 既存のアプリケーション・OSを現代の安価で高性能な標準PC上で長期にわたり安定運用出来るように、そのまま置き換える事が可能です。 【特徴】 　・安定...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/3

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大15W、水銀不使…

従来の放電ランプに代わる高出力、高安定のLED光源装置です。 最大5種類のLEDを内蔵できるため、複数の波長の出力が可能です。 また、LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更にも柔軟に対応します。 ...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

・装置：露光機、投影露光機、ステッパー ・用途：半導体後工程用、RFフィルター用、パワー半導体用、電子部品用、パッケージ用、研究用 ・対応基板：ウエハ（特殊ウエハ含む）各種サイズ、ガラス、有機基板等 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/2

同一波長のモジュールを複数搭載可能な高出力・高安定のLED光源装置。ハ…

ALE/2は従来の放電ランプを上回る高出力、高安定を実現したLED紫外線光源装置です。最大4波長のLEDを内蔵し、複数波長の出力が可能です。また兄弟機のALE1と大きく異なる点は同一波長のモジュールを複数搭載可能なのでI線もしくはG線のみを高強度で出力することが可能となっていま...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マイクロデバイス製造関連装置

全自動全面一括露光が可能なオートアライナー装置をラインアップ

とする各種デバイス、センサーなどの露光工程に用いられる、研究開発から中小ロット製造用に最適な片面マスクアライナー、カセットtoカセット搬送システムを搭載し、全自動全面一括露光が可能なオートアライナー装置をラインアップしました。...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

スクリーン版用露光装置

フレネルレンズを搭載した高精度露光装置です。

フレネルレンズを搭載した高精度露光装置です。新真空システムでスクリーン版枠の歪みを軽減し、さらに配光バランスを向上させました。スクリーン枠装置と、PDP用の大型装置の2種類をラインアップさせています。 ...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

平行光露光装置

平行光露光装置のラインナップのご案内です。

平行光露光装置は、均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。 【カタログ掲載商品】 ●マルチライト ●オプティカル・モジュレッ...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マニュアル露光装置

顕微鏡オート移動など､生産性､使い勝手に優れたアライナ

2インチウエハ対応のマニュアル露光装置です｡ オペレータがマニュアルでウエハをセットする露光装置です｡4インチのガラスマスクを使用し､フォトマスクとウエハのアライメントマークを顕微鏡で撮像､モニタに写しだされた画像を見ながらの位置合わ...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

50μm厚超薄型ガラス非接触搬送装置LNAS型

50μm厚の超薄型ガラス基板を非接触にて搬送する 非接触搬送装置「5…

「５０μm厚　超薄型ガラス非接触搬送装置LNAS型」の非接触吸引機構は非接触搬送装置は空気噴出ノズルの直下に気体偏向器を設けております。 　気体偏向器により、ノズルより噴出した高圧空気流は直角方向に変流され、直接超薄型ガラスに衝突し、極...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

オート式露光装置

190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ

2インチのウエハサイズに対応する､全自動式露光装置です｡ 従来のウエハ搬送方式で用いられる多間接ロボットに代わり､自社開発の搬送ロボットを3台配置させたことで､毎時190枚(2インチウエハ)を処理する高いスループットを実現しました｡ 特に､新開...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

FPC露光装置

フレキシブルプリント基板（FPC）の回路形成を行うための装置

フレキシブルプリント基板（FPC）の回路形成を行うための装置です。 ロールｔｏロールでピッチ送りしてドライフィルム上にパターンを焼き付ける製品群をラインアップさせています。 ※詳細はカタログダウンロードの上、お問合せ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

自動整合露光装置

CCDカメラによる画像処理自動整合システムを搭載

CCDカメラによる画像処理自動整合システムを搭載した、自動整合露光装置です。...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

【半導体製造装置関連】PETRAナノインプリントステッパー

ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば…

掲載装置は参考例となっております。 類似品または全く新しい装置の作成に対応致しますので、先ずはお気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ライズワン

マスクレスアライナー『MLA150』

0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー

マスクレスアライナー MLA150は、マスク不要の非接触レーザー露光装置です。卓越した使いやすさ、および高速性により、ラピッドプロトタイピング、少量から中量生産、および研究開発環境における理想的なレーザー直接描画方式の、マスクレス露光装置です。 2015年に初めてマスク...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マスクレスアライナー『uMLA』（マイクロ・エム・エル・エー）

テーブルトップサイズのオートフォーカス付きマスクレスアライナー

テーブルトップシステムのマスクレスアライナー µMLAは、最先端のマスクレステクノロジーを特徴としており、微細構造を必要とする全ての研究開発領域に適したエントリーレベルの描画装置です。典型的な用途は、マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、および材料科学です。 µMLA（マイクロ・エム・エル・エー）はこれまでの卓上型直描装置よりも経済的でカスタマイ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

i線ステッパー露光装置

Canon製FPA3000/Nikon製NSRのサービスを行っておりま…

え、 化合物ウェハの特長である反りや重さに対する対応力が高く、その分野でも広く支持されています。 弊社では適正在庫の保持に尽力し、現像機・顕微鏡・CDSEMを備えたデモ環境を整えております。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ ウェハサイズ変更 ■ レチクルサイズ変更 ■ レチクルチェンジャータイプ変更 ■ チャンバー冷媒改造 【部品販売】 【部品修理】 ■ 基盤類修理 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）

レチクルケース(フォトマスクケース)「クリーンな環境での使用可」

露光装置及び、周辺装置用のレチクルケース。主要露光装置メーカーの露光装…

レチクルケース(フォトマスクケース)は、半導体の製造工程で使用されるレチクルを保管するケース。主要露光装置メーカーでの露光装置に使用可能。 【特徴】 ■高帯電防止性能 　高帯電防止性能により、静電気等も安心 ■低アウトガス・低汚染 　クリーンな環境にて使用可能 ※主要露光装置メーカー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

半導体製造装置移設・立ち上げ・機能改善サービス

半導体製造装置の技術サービスはお任せ下さい。

半導体生産の増減や生産品目の変更に伴い、生産装置の仕様変更やレイアウト変更等には膨大な時間とコストを要します。弊社のサービスは通常の約半額のコストで時間も従来の３０〜４０％を削減し、お客様の環境の変化に対し高い効率でサービスを提供致します。使用す...

メーカー・取り扱い企業： エヴァンリード株式会社

超高出力　UV-LED照射器　ALE/1C

最大50W 超高出力。水銀ランプに代わるLED照射器。ＵＶ硬化、半導体…

放電ランプ（水銀ランプ）に代わる、超高出力のLED照射システムです。ALE/1C は制御システム（CSS）と露光システム（ESS）の2 つを接続して使用します。 システムを2 つに分割したことで、装置への統合が容易なコンパクトさと高出力を両立させました。 また、露光システムは、ライトパイプ、ライトガイド等の様々な光学部品と組み合わせてお使いいただくことができます。 水銀ランプ1000W,...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

自動搬送露光装置

搬送系はローラコンベア方式でインラインとして利用可能！

ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、ソフトコンタクト露光で微細なマスクパターンを転写する露光機です。...ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、ソフトコンタクト露光で微細なマスクパターンを転写する露光機です。 搬送系はローラコンベア方式でインラインとして利用できます。 ※詳細はカタログダウンロードの上、お問合...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

鋳物加工もお任せ下さい　材料手配から承ります

砂型鋳造、金型鋳造、金型鋳造、ダイカスト鋳造、石膏鋳造など、あらゆる鋳…

型鋳造、金型鋳造、ダイカスト鋳造、石膏鋳造 加工サイズ：300ｍｍ×300ｍｍ×300ｍｍ　から　900ｍｍ×900ｍｍ×1000ｍｍ　まで対応可能です 用途【注文実績】 ・半導体露光装置 ・液晶露光装置 ・車載設備 ・航空宇宙 ・医療用各種診断装置　など まずはお気軽にご相談ください 加工設備 横型MC：a８１ｎｘ【900×900×1020ｍｍ】1台 　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三栄精機工業

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

最大4インチ角基板対応 手動露光機

ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用途でもご使用頂けます。...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4

最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…

ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大８インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像処理機能によりバラツキの少ないアライメントが行えます。...・対応基板サイズ MABA6 : 小片～最大φ150mm MABA8 : ...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

ノイズフィルタ

単相/三相仕様、大電流対応しております。高周波ノイズ対策用（1GHzま…

双信電機のノイズフィルタは、半導体製造装置や工作機械などの産業機器ばかりではなく、空調機器、エレベータなど快適な暮らしを支える設備にも広く使用され、環境及び省エネ技術の進歩に貢献しています。 ＭＡＲＵＷＡの貫通形EMIフィルタは、電流...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オリナス 東京営業所、名古屋営業所、京都営業所、大阪営業所、香港

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/1

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使…

従来の放電ランプに代わる高出力、高安定のLED光源装置です。 最大5種類のLEDを内蔵できるため、複数の波長の出力が可能です。 また、LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更にも柔軟に対応します。 ...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

UV-LED照射器【水銀不使用。高出力UVLED】

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使…

従来の放電ランプに代わる高出力、高安定のLED光源装置です。 最大5種類のLEDを内蔵できるため、複数の波長の出力が可能です。また、LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更にも柔軟に対応します。 高性能の内部温度管理により、外...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社