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19件 - メーカー・取り扱い企業
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高機能フィルムの生産に!マイクログルーブロールで傷・蛇行を抑制
PRスリップ・蛇行、歩留不良などのお悩みをロール交換のみで解決!加工・適用…
【展示会情報】 『高機能素材Week 第12回 FILMTECH JAPAN(2024/5/8~5/10)』に出展します。 ■会場:インテックス大阪4号館 ■ブース番号:14-15 ★非接触式衝撃波クリーナー"ウェイビー"による、持込ワークのクリーニングデモも実施いたします。 ※デモ実施対象:厚さ~150μm、100x150mm程度までの寸法のフィルム ロール表面に一様かつ微細な溝加工を施した当...
メーカー・取り扱い企業: 若水技研株式会社
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トルク制限クラッチの正しい選び方 ※選定マニュアル無料進呈中
PRどのトルク制限クラッチがどの用途に適しているのか?トルク制限クラッチ選…
「過負荷クラッチ」「トルクリミッター」とも呼ばれるトルク制限クラッチは、 費用のかかる過負荷損傷から機械やシステムを保護し、資材を守り出費を防ぎ、生産性向上に役立ちます。 しかし、どのトルク制限クラッチがどの用途に適合するのか、迷われる方も多いのではないでしょうか? 当資料は、トルク制限クラッチの種類ごとの特長や、 駆動装置に適した構造設計の選択肢を詳しく解説しています。 【掲載内容】 ■ ト...
メーカー・取り扱い企業: Mayr Japan 合同会社
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コンパクト設計で省スペースを実現!大学や民間の研究室に最適なスパッタリ…
韓国 A-tech社は1964年の創業以来、顧客のニーズに合わせた薄膜製造装置を提供してきました。デスクトッププロは小型高性能でデスクトップに設置でき、経済的にもメリットのあるスパッタリング装置です。 物性研究や製品QCおよびQA、半導体の故障解析などに最適です。 ■詳細はカタログダウンロードより■ ●御問合せ:03-5472-1722 (TEL)...【主な特長】 コンパクト設計により...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…
標準仕様では対応の困難な各種用途・基板に積極対応。 R&D・ディスクリート・化合物・MEMS・パッケージ・実装工程・マスク・小型FPD 多くの基板に専用機構を用意。 基板のトレイ搬送も標準対応、大気側の基板ハンドリングで異種基板の同一装置での成膜・処理を実現。 各用途専用カソード(ワイドエロージョン・強磁性体・酸化物・リアクティブ用)に加え特殊基板機構(高温加熱・磁場印加・冷却等)で幅広い用...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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小型設計ながら性能はキープ!高温での基板加熱が可能なスパッタ装置
『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。 基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスのみでの運転や、スパッタアップ とスパッタダウンの組み替えなども可能です。 【特長】 ■シ...
メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社
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高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置
AVP Technology社製イオンビームエッチング装置はICPイオンソースを搭載した高均一・高エッチングレート、かつ稼働再現性・安定性に優れた製造装置です。 他社IBE装置に較べ卓越した制御システムにより、製造設備に必須である安定稼働を実現しています。 最新の駆動機構によりレイテンシー時間を最小限に押さえて生産性を改善しています。 ...特長 最新設計のグリッドによる8インチ基板への...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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放電操作が容易!RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計
『FRS-HGシリーズ』は、2源/3源の同時スパッタ機能を搭載した 研究開発用の多源同時マグネトロンスパッタ装置です。 据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計。 成膜ソース導入ポートは3ヶ所用意されており、スパッタリングカソードに 加え、アークプラズマ蒸着源などスパッタリングとの相乗効果が期待できる 成膜ソースを搭載することが可能です。 【特長】 ■据付タイプ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社FKDファクトリ
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FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…
このシステムには3つのスパッタリングソースと プレクリーニングエッチャーがすべて共焦点形状に配置されており、生産性を高めるためにロードロックならびに搬送チャンバを追加することも可能です。スパッタリングソースには直径100mmのシャッターが搭載されており、このシャッターを制御することで成膜コントロールすることが可能です。また、ソースと基板の距離も制御が可能です。これらの制御はプログラムによりオートコ...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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相談だけでも歓迎!設計から製作、組立まで自社で一貫して対応!各種装置製…
弊社では、開発から資材調達・加工・組立・品質保証まで一貫した生産体制を整え、 様々な企業様から装置のオーダーメイド製作を承っております。 「こんなものを作りたいけど設計が…」 「作業効率を上げたい…」 「人的工数を削減したい…」 等 お困りごとがあればまずはご相談ください。 品質管理やフォロー体制にも自信がございます。 また、デモ機にてサンプル処理を実施しておりので、 ご用...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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ヒーターステージ(1000℃)搭載!開発工程~量産工程まで様々な用途へ…
『S600』は、多層・積層成膜プロセスの改善により電子部品の品質強化と 生産性向上に貢献する多層膜スパッタリング装置です。 高品質・高精度な成膜によりデバイス品質の向上。高スループット、 生産歩留り向上、材料利用効率の最適化によりコスト競争力をアップします。 多様な成膜条件に対応したオプションにより多品種少量生産、柔軟な 生産計画へ対応可能です。 【特長】 ■最大5基のカ...
メーカー・取り扱い企業: パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
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光学用の多層膜を高均一かつ再現性に優れた成膜を行う事を目的に開発!
当社では、独FHR社の『Star.500-EOSS(R)』を取り扱っております。 『Star.500-EOSS(R)』は、光学フィルター成膜用として設計された マグネトロンスパッタシステムです。 成膜用のパーティクルを最小限にするためスパッタアップの方式を採用。 200mm径までのフラット並びに曲面の基板まで対応しており、 基板加熱機構も組み込みできます。 【特長とメリット...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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コンパクト!同時蒸着!高拡張性!『真空蒸着装置・HEXシリーズ』
ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置…
HEXシステムは、ユニークな『モジュール構造』が採用されています。 六角柱の形状のチャンバーの、各面を構成するパネルを交換することで 自由自在にポートの数や配置を変更することができます。 そのため、研究の方向性の変化に応じて、まるでブロックを 組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を 行うことができます。 HEXシステムは、ベンチトップシステムとUHVシ...
メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社
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RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…
お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・...
メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社
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ワーク幅 255,350,450,550,600,750mmに対応!
「CMC」は狭幅ウェブ向けのコンパクトウェブクリーナー装置で、ワーク幅 255,350,450,550,600,750mmに対応しています。 ラベル印刷をはじめとした小幅のアプリケーションに適しています。 アプリケーションによって、3タイプの除塵システムから選択でき、お客様の様々なニーズにお応えするため、装置のクリーンローラーはシングルロール構造とダブルロール構造を用意しています。 【特...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤンゴージャパン
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省スペース化を実現!同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装…
『HSK602VTA』は、6基の小型カソードが個別のシャッターと電源を 持ち、同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装置です。 リボルバー式4サンプルホルダーを装備しており、一度の真空引きで 4条件の成膜ができます。 また、コンパクト設計により、省スペース化を実現しました。 【特長】 ■コンパクト設計 ■6カソード ■リボルバー式4サンプルホルダーを装備 ■...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ハヤマ
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信頼性の高いシステムを構築!メンテナンスや改造も当社にお任せください
当社は30年以上真空技術に携わり、ユーザー様の仕様に合わせた製品を 主に研究機関に提供してまいりました。 2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や 安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など 真空成膜装置を多数ラインアップ。 その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気装置」などの 各種研究用装置もご用意しております。 ご用命の際はお気軽にご相談...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤシマ
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R&D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中
「サンプル作業時間が1/3になった!」。コンパクト設計で自動化も推進。…
『QAMシリーズ』は研究開発、材料開発等の小規模実験で要求される様々な機能に対して、 アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のスパッタ装置です。 約1Pa~0.1Paまでの放電維持圧力範囲を持ち、従来より低圧力でスパッタ成膜が可能。 従来に比べ更なる小型化、自動化を実現したうえに、磁性ターゲットにも対応しています。 さらに、20mm角基板対応の『S-QAM...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.
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真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。
メンテナンス・リサーチ株式会社は、米国Materia Is Research Corporation製造スパッタリング装置のメンテナンスを目的に2008年に設立しました。 メンテナンス・リサーチは新しい真空プロセス設備のご紹介とともに、ご使用設備を長く安定して稼働して頂くよう、製造中止パーツの置き換え、電源、ロボット等の修理代替え品等を用意し、信頼のあるパーツと技術サービスのご提供を通してお客様...
メーカー・取り扱い企業: メンテナンス・リサーチ株式会社
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2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…
Momentiveの『タンタルカーバイドコーティング』は、SiC単結晶成長炉、エピタキシャル装置の部品として多くの実績を有しており、『静電チャック』はSiやSiC半導体プロセスの高温イオン注入、スパッタリング工程で使用されています。 【特長】 ■タンタルカーバイド ・超高温(2000℃以上)での使用が可能 ・複雑な形状にも対応できる優れた被覆性 ■静電チャック ・1000℃までのプ...
メーカー・取り扱い企業: モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社
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実験用の小型成膜装置。PET等のフィルムに成膜します。
PET等のフィルムにスパッタにより成膜します。 タッチパネルによる操作で非常に簡単にご使用頂けます。 実験用に小型に設計しており、研究室等に最適です。 高品質ながら、社内一貫生産により低価格を実現しております。 お気軽にお問合せ下さい。...フィルム巾:100mm 厚み:50μ~100μ 長さ:200m カソード:2SET RFボンバード可 仕様はお客様のご要望をできる限...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社富士アールアンドディー
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独自の安全機構でガス充満による酸欠事故を防止『グローブボックス』
真空装置メーカーの技術・経験を結集!自社設計により柔軟な仕様変…
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