高精度 | イプロスものづくり

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特許技術でコスト減！高濾過精度で品質維持！クーラント精密濾過装置

PR濾過精度1μmを実現。自重に逆らいながらクーラント液を送り、フィルター…

当社は、クーラントの『精密濾過装置』の提案・製造を手掛けています。 1μmの濾過精度で、大流量に対応したフィルター濾材をご用意しており、装置は外側から内側へ濾過を行う濾過フローで、自重に逆らいながら下から上にクーラント液を送り込み、フィルター全面による高効率濾過を実現しています。また、逆洗浄には特許を取得しており、自重に従った送液によって効果的な逆洗浄を行いランニングコストの大幅削...

メーカー・取り扱い企業：濾過精工株式会社
5軸用セルフセンタリングバイス／ゼロポイントシステム

PR高精度かつ、低コストを実現！初の日本販売！片側に1.5°スイングする口…

当製品は、片側に1.5°スイングする口金を採用し、グリップ力が非常に向上したセルフセンタリングバイスです。 LANG社、HWR社、5th Axis社の52＆96システムと互換性がある「ゼロ・ポイント・システム」を採用しております。直接テーブルに設置できる溝とクランプエッジ付き。【セルフセンタリングバイス　特長】 ■口金は、簡単に180度反転して入れ替えることができ、クランプ範囲を　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ファーステック
最高級精度デジタルマノメータ　２３０／２４０　シリーズ

最高級精度デジタルマノメータ　２３０／２４０　シリーズ

卓上型パネル取付型が用意されています。圧力センサはセトラ社の高精度圧力センサＭ２７０シリーズのセンサを使用し製作されます。絶対圧、ゲージ圧レンジは精度０．０６％ＦＳ。気圧レンジは精度０．３ｈＰａの高精度で計測でき、気象庁検定合格品の提供も可能です。センサ部は温度...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部
セトラ社　ゲージ圧　絶対圧　気圧　高精度圧力センサ　２７０

モデル２７０圧力センサは０～７００ｋＰａの絶対圧、ゲージ圧を±０．０５…

２７０の安定した高い性能は厳しい精度と高い信頼性を要する半導体露光装置を始め、多くの環境計測、工業用途、研究所、航空宇宙、自動車産業で豊富な実績を重ねています。気圧レンジは気象庁形式認定品です。...２７０の安定した高い性能は厳しい精度と高い信頼性を要する半導体露光装置を始め、多くの環境計測、工業用途、研究所、航空宇宙、自動車産業で豊富な実績を重ねています。気圧レンジは気象庁形式認定品です。セトラ...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部
セトラ社　最高精度　デジタル圧力センサ　３７０／４７０

絶対圧、ゲージ圧、気圧を±０．０２％ＦＳで計測します。長期安定性に優れ…

モデル３７０／４７０は、セトラ社独自のセトラセラムセンサ（特許技術）と高度なマイクロプロセッサベースのデジタル電子回路と精巧なファームウェアが組み合わされ±０．０２％ＦＳの高精度システムがコンパクトで低消費電力にまとめられています。...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部
【資料】高電流・高周波対応可能の高電圧コネクタソリューション

今後の更なる半導体製造装置の高機能化・省スペース化にもマッチした高電圧…

半導体の高精度化と微細化、またその半導体を必要とする分野が急速に拡大することに伴って、現在半導体製造におけるプロセス装置は今まで以上に高電圧化が進みながら、装置自体の小型化が強く求められています。レモコネク...
メーカー・取り扱い企業：レモジャパン株式会社
水晶　高精度水晶

小型･高精度･低消費電流を誇り、水晶加工から一貫して生産することで …

高精度水晶のことなら「株式会社マキエレクトロ」...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マキエレクトロ
電子線描画装置

高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタ…

Raith社のEBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上 EBPGの特徴 ●最大電流値350ｎAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社
レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

S、BioMEMS、Micro-Optics、ASIC、Micro Fluidics、センサー、ホログラム、および微細構造を必要とするその他すべてのアプリケーション用途でのマスクやウェーハへの高速高精度パターニングが可能です。グレイスケールリソグラフィー用途において表面粗さ精度を高めるために、1000階調のグレイスレベルをサポートしています。【特長】 ■高い安定性・高速高解像度...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

、オプション255階調または1000階調） ■豊富な機能と拡張性により複数用途に対応 ■6つの描画モード（0.3um-4.0um)まで（ピクセルサイズ）切替が可能 ■裏面アライメントも可能な高精度の重ね合わせ ■対応最大基板サイズは9インチ×9インチ ■様々なデータ形式に対応 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
イオンビーム描画装置OMFシリーズ

ビューラー・ライボルトオプティクス（旧OPTEG社）のイオンビーム描画…

世界最大の真空装置・機器メーカーとして160年近い歴史を持つライボルトオプティクスは、業界のリーダーとして長年の経験を有し、高精度な光学コーティングを実現するための真空薄膜製造装置およびプロセスを提供しています。研究開発用途から大量生産の大型設備まで様々な真空チャンバーサイズを取り揃え、お客様の多様なニーズにお応えい...

メーカー・取り扱い企業：ビューラー株式会社
内層板用両面同時露光装置　光ＨＤＥ１１０Ｓ

今までの露光装置とは生産性が違います！

　　◆高生産性　　　・高スループット：最大5枚／分　　　・大基板サイズ対応：最大30×24インチ　　◆高精度露光　　　・高精度アライメント：新画像処理システム　　　・安定露光：楔形真空接合方式　※詳細は『カタログダウンロード』か『お問い合わせ』よりどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業：豊和工業株式会社機械事業部ＣＥ営業グループ電子機械チーム
直接描画装置『Ledia6』

3波長を自在にコントロールし、最適な波長域でダイレクトイメージングが可…

ールすることで露光に必要な波長域をよりブロードにカバーでき、対応レジストの種類が大幅に拡大。また、基板のゆがみを補正する独自のアライメントアルゴリズムを装備し直接描画装置ならではの高精度な仕上がりと最高レベルのスループットを実現します。【特長】 ■UV-LED複数波長露光 ■レジストの種類を選ばず高品質な露光を実現 ■高速アライメント ■高付加価値分野対応の描...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREEN PEソリューションズ本社
LVH等の孔検査に最適な光学式外観検査装置　『MIYABI 7』

スルーホールやレーザービア（LVH）検査に多くの実績あり。長年の知見と…

◆スルーホールやレーザービア（LVH）をパターンと同時に全穴検査 ◆あらゆる基板を高精度に検査する新開発の照明系 ◆パッド・ラインを個別に条件設定、欠陥検出精度を向上 ◆フロントソフトウェアセットアップ時間短縮(約15分)...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREEN PEソリューションズ本社
トップハットビームシェイパー　テクノロジー

滑らかな非球面レンズにより、特定の波長に制限されない高精度なトップハッ…

`Proprietary Top-Hat Beam Shaper TECHNOLOGY` かつてない独自技術（特許取得）のトップハットビームシェイパーです。従来技術のDOE（Diffractive Optical Element）と同じように光の回折を利用してガウシアンビームをトップハット（均一な強度分布）に変換しますが DOE と異なり、以下のような特徴を持ちます。＊ひとつの素子で、広い...

メーカー・取り扱い企業：株式会社彩世
高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社