平行平板式減圧プラズマ処理装置　真空プラズマ装置

各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基（親水、親油、密着性…

効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理 ○リアクティブイオンエッチング（RIE） その他詳細は、PDF...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

O2、ZrO2、メタル 〇バッチ1％未満の1σ不均一性（Al2O3、WIW、WTW、B2B、49 pts、5mm EE） ＜基板ローディング＞ 〇真空クラスタツールによる完全自動ロード 〇カセットからバッチへのローディング 〇オプションSMIFステーション ＜主なソフトウェア機能＞ 〇レシピエディター：プロセスの実行中にレシピの作成と変更が可能 〇1つの通信プロトコル（Etherc...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社